KR970067923A - 반도체 화학 센서 디바이스 및 반도체 화학 센서 디바이스를 위 한 열전쌍 형성 방법 - Google Patents

반도체 화학 센서 디바이스 및 반도체 화학 센서 디바이스를 위 한 열전쌍 형성 방법 Download PDF

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Abstract

반도체 화학 센서 디바이스(2)는 특정 화학물질을 검출하기 위한 감지층(4)과 이 감지층을 가열하기 위한 히터를 포함하고, 이 히터는 반도체 화학센서 디바이스(2)에서 전도층(8)의 히터부(6)에 의해 형성된다. 반도체 화학센서 디바이스(2)는 감지층(4)의 온도를 검출하기 위한 열전쌍(12)을 더 포함하고, 이 열전쌍은 전도층(8)의 히터부(6)의 일부로서 형성되거나 상기 히터부 부근에서 형성되는 P/N 접합부(14)를 포함하여 이 P/N접합부(14) 양단에서 나타난 신호가 감지층(4)의 온도를 나타낸다.

Description

반도체 화학 센서 디바이스 및 반도체 화학 센서 디바이스를 위한 열전쌍 형성 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 제1실시예를 따르는 반도체 화학 센서 디바이스에 대한 단순화된 개략적 횡단면도

Claims (8)

  1. 화학물질을 검출하기 위한 감지층및 상기 감지층을 가열하기 위한 히터를 포함하는 반도체 화학 센서 디바이스에 있어서 상기 히터는 상기 반도체 화학 센서 대바이스에서 전도층의 히터부에 의해 형성되고, 상기 반도체 화학센서 디바이스는 상기 감지층의 온도를 검출하기 위한 제1열전쌍을 더 포함하고, 상기 제1열전쌍은 상기 전도층의 부분의 일부로서 구성되어 형성되거나 상기 전도층의 상기 히터부 부근에서 형성되는 P/N 접합부를 포함하여 상기 P/N 접합부 양단에서 나타난 신호가 상기 감지층의 온도를 나타내는 것을 특징으로 하는 반도체 화학 센서 디바이스.
  2. 제1항에 있어서 상기 전도층은 제1전도성 재료로 형성되고, 상기 열전쌍은 상기 전도층에서 형성된 제2전도성 재료로 되어 있고, 제1접촉이 연장되어 있는 전도 영역을 포함하고, 상기 제2전도성 재료는 상기 제1전도성 재료와는 상이한 종류의 전도성을 갖고, 상기 제1열전쌍의 상기 P/N 접합부는 상기 전도 영역 및 상기 전도층간에 접합부를 포함하고 상기 제1접촉에서 나타난 전압 신호는 상기 감지층의 온도를 나타내는 것을 특징으로 하는 반도체 화학 센서 디바이스.
  3. 제2항에 있어서 상기 전도 영역은 상기 전도층의 상기 히터부에서 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 화학 센서 디바이스.
  4. 제1항에 있어서 상기 전도층은 제1전도성 재료로 형성되고, 상기 열전쌍은 상기 제1전도성 재료와는 상이한 종류인 제2전도성 재료로 상기 전도층에서 형성되고 제1접촉이 연장되어 있는 전도 영역과 상기 히터부 부근에 있고 제2접촉이 연장되어 있는 상기 전도층의 부분을 포함하고, 상기 제1열전쌍의 상기 P/N 접합부는 상기 전도 영역 및 상기 전도층의 상기 부분 간의 접합부를 포함하고, 상기 제1 및 제2접촉 간에 나타난 전압신호는 상기 감지층의 온도를 나타내는 것을 특징으로 하는 반도체 화학 센서 디바이스.
  5. 제3항에 있어서 상기 감지층의 온도를 검출하기 위한 제2열전쌍을 더 포함하고, 상기 제2열전쌍은 상기 전도층의 상기 히터부 부근에서 형성된 P/N접합부를 포함하며 상기 P/N접합부 양단에서 나타난 신호가 상기 감지층의 온도를 나타내는 것을 특징으로 하는 반도체 화학 센서 디바이스.
  6. 제5항에 있어서 상기 제2열전쌍은 상기 제2전도성 재료로 상기 전도층에서 형성되어 있고 제1접촉이 연장되어 있는 전도 영역과 상기 전도층의 상기 히터부 부근에 있고 제2접촉이 연장되어 있는 상기 전도층의 부분을 포함하고, 상기 제2열전쌍의 상기 P/N 접합부는 상기 전도 영역 및 상기 전도층의 상기 부분 간에 접합부를 포함하고 상기 제1 및 제2접촉간에 나타난 전압 신호는 상기 감지층의 온도를 나타내는 것을 특징으로 하는 반도체 화학 센서 디바이스.
  7. 화학물질을 검출하기 위한 감지층및 상기 감지층을 가열하기 위한 히터를 포함하는 반도체 화학 센서디바이스에 있어서 상기 히터는 상기 반도체 화학 센서 디바이스에서 전도층의 히터부에 의해 형성되고, 상기 반도체 화학센서 디바이스는 상기 감지층의 온도를 검출하기 위한 것으로 상기 전도층의 상기 히터부의 일부로서 형성되거나 상기 히터부 부근에서 형성된 P/N 접합부를 포함하여 상기 P/N 접합부 양단에서 나타난 신호가 상기 감지층의 온도를 나타내는 제1열전쌍과 상기 히터에서 떨어져 있는 상기 반도체 화학 센서 디바이스의 한 영역의 온도를 검출하기 위한 것으로 전도층에서 형성된 P/N접합부를 포함하여 상기 P/N접합부 양단에서 나타난 신호가 상기 반도체 화학 센서 디바이스의 상기 영역의 온도를 나타내는 것을 특징으로 하는 반도체 화학 센서 디바이스.
  8. 제1항 내지 제7항중 어느 한항에서 청구된 반도체 화학 센서 디바이스를 위한 열전쌍을 형성시키는 방법에 있어서 반도체층을 제공하는 단계와 상기 반도체층 위에 제1전도성을 갖는 전도층을 형성하는 단계와, 상기 전도층 위에 마스크를 형성하는 단계와 상기 마스크를 패터닝하고 에칭하여 개구를 형성하는 단계와, 상기 개구를 통해 상기 전도층내로 상기 제1전도성과는 상이한 전도성을 갖는 도펀트를 주입하여 상기 전도층에 전도 영역을 형성하고, 상기 열전쌍의 P/N접합부는 상기 전도 영역 및 상기 전도층 간의 접합부를 포함하는 단계와 상기 전도 영역 및 전도층 위에 절연층을 형성하는 단계와 상기 절연층을 패터닝하고 에칭하여 상기 전도 영역과의 적어도 하나의 접촉 개구를 형성하는 단계와 상기 개구를 금속으로 메워서 상기 전도 영역과의 접촉을 제공하고 상기 전도 영역과의 상기 접촉에서 나타난 전압 신호는 상기 P/N접합부에서 온도로서 작용하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 열전쌍 형성 방법.
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Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52801A (en) * 1975-06-23 1977-01-06 Masaharu Kusuyama Process for manufacturing body warmer stick, activated charcoal, fuel charcoal, etc.
JPS524501A (en) * 1975-06-28 1977-01-13 Toshio Ichikawa Process for preparing a fuel
US6171880B1 (en) * 1999-06-14 2001-01-09 The United States Of America As Represented By The Secretary Of Commerce Method of manufacture of convective accelerometers
US6331438B1 (en) 1999-11-24 2001-12-18 Iowa State University Research Foundation, Inc. Optical sensors and multisensor arrays containing thin film electroluminescent devices
DE10011562C2 (de) * 2000-03-09 2003-05-22 Daimler Chrysler Ag Gassensor
US6663602B2 (en) * 2000-06-16 2003-12-16 Novo Nordisk A/S Injection device
AU2001289589A1 (en) 2000-09-22 2002-04-02 Novo-Nordisk A/S A medication delivery device
US6627959B1 (en) 2002-04-16 2003-09-30 Boston Microsystems, Inc. P-n junction sensor
US6861758B2 (en) * 2002-08-30 2005-03-01 Intel Corporation Structure and manufacturing process of localized shunt to reduce electromigration failure of copper dual damascene process
DE102004017750B4 (de) * 2004-04-06 2006-03-16 Flechsig, Gerd-Uwe, Dr. rer. nat. Analyse-Array mit heizbaren Elektroden
DE602005016952D1 (de) 2004-10-21 2009-11-12 Novo Nordisk As Wählmechanismus für einen drehstift
WO2006114396A1 (en) 2005-04-24 2006-11-02 Novo Nordisk A/S Injection device
DE102006006347B3 (de) * 2006-02-07 2007-08-23 Universität Rostock Sensorvorrichtung für ein elektrochemisches Messgerät und Verfahren zur Durchführung elektrochemischer Messungen
EP1996260B1 (en) * 2006-03-10 2015-09-23 Novo Nordisk A/S An injection device having a gearing arrangement
JP5062768B2 (ja) * 2006-03-10 2012-10-31 ノボ・ノルデイスク・エー/エス 注射装置および該装置のカートリッジを交換する方法
JP5197566B2 (ja) 2006-03-20 2013-05-15 ノボ・ノルデイスク・エー/エス 注射針の位置決定
DE602007004972D1 (de) 2006-05-16 2010-04-08 Novo Nordisk As Getriebemechanismus für ein injektionsgerät
CN101448536B (zh) * 2006-05-18 2011-09-07 诺沃-诺迪斯克有限公司 具有模式锁定装置的注射装置
DK2073871T3 (da) * 2006-09-29 2013-06-10 Novo Nordisk As Injektionsanordning med elektroniske detekteringsmidler
US7691329B2 (en) * 2006-11-16 2010-04-06 General Electric Company Methods for detecting contaminants in a liquid
WO2008116766A1 (en) * 2007-03-23 2008-10-02 Novo Nordisk A/S An injection device comprising a locking nut
WO2009024562A1 (en) 2007-08-17 2009-02-26 Novo Nordisk A/S Medical device with value sensor
PL2229201T3 (pl) * 2007-12-31 2012-10-31 Novo Nordisk As Elektronicznie monitorowane urządzenie do wstrzykiwania
DE102008049726B4 (de) * 2008-09-30 2012-02-09 Advanced Micro Devices, Inc. Gestapelte Chipkonfiguration mit stromgespeistem Wärmeübertragungssystem und Verfahren zum Steuern der Temperatur in einem Halbleiterbauelement
US8114677B2 (en) * 2008-10-01 2012-02-14 Babcock & Wilcox Technical Services Y-12, Llc. Passive in-situ chemical sensor
JP6069351B2 (ja) 2011-12-29 2017-02-01 ノボ・ノルデイスク・エー/エス ダイアルアップ/ダイアルダウン投与機構を有するねじりバネ式ねじ巻き自動注射器
GB2572388B (en) 2018-03-28 2020-04-22 Suresensors Ltd Integrated temperature control within a diagnostic test sensor

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH521649A (de) * 1970-07-31 1972-04-15 Cerberus Ag Feuermeldeeinrichtung
NL7111653A (ko) * 1971-08-25 1973-02-27
US3932246A (en) * 1973-08-31 1976-01-13 Ford Motor Company Gas sensor and method of manufacture
US4141955A (en) * 1977-10-25 1979-02-27 Obiaya Joseph O Combustible concentration analyzer
US4313338A (en) * 1978-08-18 1982-02-02 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Gas sensing device
DE2855012A1 (de) * 1978-12-20 1980-06-26 Bosch Gmbh Robert Elektrochemischer messfuehler fuer die bestimmung des sauerstoffgehaltes in gasen, insbesondere in abgasen
US4325912A (en) * 1980-07-01 1982-04-20 Beckman Instruments, Inc. Carbon monoxide detection apparatus
US4358951A (en) * 1981-02-17 1982-11-16 General Motors Corporation Zinc oxide thin film sensor having improved reducing gas sensitivity
JPS5990040A (ja) * 1982-11-15 1984-05-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd 一酸化炭素ガス検知器
JPS59143947A (ja) * 1983-02-07 1984-08-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd ガス漏れ警報器
US5140393A (en) * 1985-10-08 1992-08-18 Sharp Kabushiki Kaisha Sensor device
JP2521783B2 (ja) * 1987-09-28 1996-08-07 三菱電機株式会社 半導体装置およびその製造方法
US5238729A (en) * 1991-04-05 1993-08-24 Minnesota Mining And Manufacturing Company Sensors based on nanosstructured composite films
GB2261321B (en) * 1991-11-06 1995-10-11 Motorola Inc Power semiconductor device with temperature sensor
US5362975A (en) * 1992-09-02 1994-11-08 Kobe Steel Usa Diamond-based chemical sensors
DE4497477T1 (de) * 1993-10-05 1995-10-19 Mitsubishi Materials Corp Gassensor und Gasunterscheidungsverfahren
US5600174A (en) * 1994-10-11 1997-02-04 The Board Of Trustees Of The Leeland Stanford Junior University Suspended single crystal silicon structures and method of making same

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