KR970054155A - 반도체 소자의 캐패시터 형성방법 - Google Patents

반도체 소자의 캐패시터 형성방법 Download PDF

Info

Publication number
KR970054155A
KR970054155A KR1019950069601A KR19950069601A KR970054155A KR 970054155 A KR970054155 A KR 970054155A KR 1019950069601 A KR1019950069601 A KR 1019950069601A KR 19950069601 A KR19950069601 A KR 19950069601A KR 970054155 A KR970054155 A KR 970054155A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
forming
polysilicon
gate electrode
predetermined
semiconductor substrate
Prior art date
Application number
KR1019950069601A
Other languages
English (en)
Inventor
백우진
Original Assignee
김주용
현대전자산업 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 김주용, 현대전자산업 주식회사 filed Critical 김주용
Priority to KR1019950069601A priority Critical patent/KR970054155A/ko
Publication of KR970054155A publication Critical patent/KR970054155A/ko

Links

Abstract

본 발명은 ONO구조의 유전층을 갖는 캐패시터의 형성방법을 제공하기 위한 것이다. 이와 같은 목적을 달성하기 위한 캐패시터 형성방법은 반도체 기판의 소정 부분과 소자 분리 절연막 위에 게이트 전극을 형성하는 단계; 소오스/드레인 전극과, 전면에 절연막을 소정 두께로 형성하는 단계; 절연막의 소정 부분에 하부의 소오스 영역과의 콘택을 위한 콘택홀을 형성하는 단계; 전면에 제1폴리실리콘을 증착하는 단계; 제1폴리실리콘에 불순물을 도핑한 다음, 반도체 기판 상부의 게이트 전극의 소정 부위로부터 소자 분리 산화막 상부의 게이트 전극의 소정 영역에 이르는 제1폴리 실리콘만을 남기는 제1폴리실리콘 패턴을 형성하는 단계; 전면에 소정 두께의 지롸막과 산화막을 순차적으로 증착하여 상기 제1폴리실리콘 패턴을 덮는 부분을 남기고 제거하는 단계; 전면에 제2ㅍㄹ리실리콘을 소정 두께로 증착하고 불순물을 도핑한 다음, 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

반도체 소자의 캐패시터 형성방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
첨부한 도면은 본 발명의 실시예에 따른 반도체 소자의 캐패시터 형성방법을 설명하는 공정 흐름도.

Claims (1)

  1. 산화막/질화막/산화막의 유전층을 갖는 반도체 소자의 캐패시터의 형성방법에 있어서, 반도체 기판의 소정 부분에 소자 분리절연막을 형성하는 단계; 상기 반도체 기판 상부의 소정 위치와 소자 분리 절연막 상부의 소정위치에 게이트 전극을 형성하는 단게; 반도체기판의 전면에 불순물을 이온주입하여 소오스/드레인 전극을 형성하는 단계; 전면에 절연막을 소정 두께로 형성하는 단계; 상기 반도체 기판 상부의 게이트 전극과 소자 분리 산화막 상부의 게이트 전극 사이의 절연막의 소정 부분에 하부의 소오스 영역과의 콘택을 위한 콘택홀을 형성하는 단계; 전면에 제1폴리실리콘을 증착하는 단계; 상기 제1폴리실리콘에 불순물을 도핑한 다음, 반도체 기판 상부의 게이트 전극의 소정 부위로부터 소자 분리 산화막 상부의 게이트 전극의 소정 영역에 이르는 제1폴리실리콘만을 남기는 제1폴리실리콘 패턴을 형성하는 단계; 전면에 소정 두께의 질화막과 산화막을 순차적으로증착하여 상기 제1폴리실리콘 패컨을 덮는 부분을 남기고 제거하는 단계; 전면에 제2폴리실리콘을 소정 두께로 증착하고 불순물을 도핑한 다음, 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 캐패시터 형성방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950069601A 1995-12-30 1995-12-30 반도체 소자의 캐패시터 형성방법 KR970054155A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019950069601A KR970054155A (ko) 1995-12-30 1995-12-30 반도체 소자의 캐패시터 형성방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019950069601A KR970054155A (ko) 1995-12-30 1995-12-30 반도체 소자의 캐패시터 형성방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR970054155A true KR970054155A (ko) 1997-07-31

Family

ID=66639777

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019950069601A KR970054155A (ko) 1995-12-30 1995-12-30 반도체 소자의 캐패시터 형성방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR970054155A (ko)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR960043238A (ko) 리세스 채널 구조를 갖는 반도체 소자 및 그의 제조방법
KR920001754A (ko) Mos 트랜지스터용 다층 게이트 전극을 제조하는 방법
KR960032777A (ko) 전계효과형 반도체 장치 및 그 제조방법
KR960019728A (ko) 반도체 메모리장치 및 그 제조방법
KR940012609A (ko) 디램셀의 저장전극 제조방법
KR970054155A (ko) 반도체 소자의 캐패시터 형성방법
KR930009116A (ko) 박막트랜지스터와 그의 제조방법
KR960032585A (ko) 반도체장치 및 그의 제조방법
KR980005882A (ko) 모스 트랜지스터 및 그의 제조방법
KR940010333A (ko) 반도체 메모리장치 및 그 제조방법
KR970003923A (ko) 캐패시터 제조방법
KR970054103A (ko) 플래쉬 이이피롬 셀 제조 방법
KR940012653A (ko) 박막트랜지스터 제조방법
KR970052785A (ko) 반도체 소자 제조방법
KR970018718A (ko) 오프셋 길이를 증가시킨 박막 트랜지스터의 제조방법
KR960032604A (ko) 폴리사이드 콘택을 갖는 반도체장치 및 그 제조방법
KR970018542A (ko) 반도체 장치의 캐패시터 제조방법
KR970030498A (ko) 반도체장치의 제조방법
KR970054243A (ko) 반도체 소자의 제조방법
KR920013768A (ko) 박막형 이중 게이트 구조의 트랜지스터 제조방법
KR960002696A (ko) 박막트랜지스터 제조 방법
KR970053016A (ko) 반도체 소자의 트렌지스터 제조 방법
KR950024267A (ko) 반도체장치의 금속배선시 콘택부 형성방법 및 구조
KR970003984A (ko) 반도체 소자의 제조 방법
KR960043288A (ko) 반도체 박막트렌지스터(tft)와 그 형성방법

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination