KR970053265A - 반도체 제조 공정에서 사용되는 막 두께 측정 장치 - Google Patents

반도체 제조 공정에서 사용되는 막 두께 측정 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 반도체 웨이퍼 상에 형성된 막의 두께를 측정하는 막 두께 측정 장치에 관한 것으로, 본 발명의 측정 장치는 레퍼런스 칩(2)의 웨이퍼로부터의 불순물 개스에 의해 오염되는 것을 방지하기 위해 배기 튜브(4)와, 배기 팬(5)을 구비한다. 이로써, 예방 보존 시간을 줄일 수 있어 작업성이 중대되고, 측정 데이타의 신뢰성을 확보할 수 있게 되며, 공정의 안정화를 이룩할 수 있게 된다.

Description

반도체 제조 공정에서 사용되는 막 두께 측정 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 따른 막 두께 측정 장치.

Claims (3)

  1. 웨이퍼를 올려놓기 위한 스테이지와 래퍼런스칩을 가지고 상기 웨이퍼상에 형성된 막의 두께를 측정하기 위한 장치에 있어서, 상기 웨이퍼 스테이지 주위에 위치하고, 상기 웨이퍼로부터 발생되는 불순물 개스가 레퍼런스 칩을 오염시키는 것을 방지하는 오염 방지 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 막 두께 측정 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 오염 방지 수단은, 불순물 개스를 흡입하는 흡입 수단과; 상기 흡입 수단에 의해 흡입된 불순물 개스를 외부로 배출하기 위한 배출 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 막 두께 측정 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 흡입 수단은 팬이고, 상기 배출 수단은 튜브이며, 상기 팬은 상기 튜브의 흡입구에 설치되는 것을 특징으로 하는 막 두께 측정 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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