KR970017938A - 반도체 제조장치 - Google Patents
반도체 제조장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR970017938A KR970017938A KR1019950030299A KR19950030299A KR970017938A KR 970017938 A KR970017938 A KR 970017938A KR 1019950030299 A KR1019950030299 A KR 1019950030299A KR 19950030299 A KR19950030299 A KR 19950030299A KR 970017938 A KR970017938 A KR 970017938A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- wafer
- chemical
- semiconductor manufacturing
- equipment
- manufacturing apparatus
- Prior art date
Links
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
본 발명은 반도체 제조장비에 관한 것으로 특히 약품(Chemical)을 처리하는 공정시 약품에 의해 발생하는 불량요인을 제거하는데 사용되는 것이다. 종래의 반도체 제조공정중 약품을 사용하는 공정시 웨이퍼에 코팅되는 상기 약품(Chemical)은 웨이퍼의 상면 뿐만 아니라 약품의 점착력에 의해 웨이퍼의 뒷면에 까지 묻게 된다. 이러한 공정에서 발생한 웨이퍼 뒷면의 오염은 후속공정의 불량을 유발하는 원인이 되어 왔다.
본 발명은 상술한 문제점을 극복하기 위한 것으로, 반도체 제조장비장비중에서 약품(Chemical)을 처리하는 회전부를 가지고 있는 장비에 있어서, 웨이퍼의 뒷면에 공정에서 사용되는 약품의 침투를 억제하는 가이드과 공기 발생수단을 포함하여, 반도체의 제조공정중 상기 약품이 웨이퍼의 뒷면을 오염시키는 것을 방지하여 공정이 결함을 줄일 수 있도록 한 것이다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명 현상장치의 구성도,
제2도는 본 발명의 요부 확대도.
Claims (5)
- 반도체 제조장비장비중에서 약품(Chemical)을 처리하며 회전부를 가지고 있는 장비에 있어서, 웨이퍼의 뒷면에 공정에서 사용되는 약품이 묻는 것을 억제하는 가이드수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조장치.
- 제1항에 있어서, 상기 가이드수단은 회전부에 고정되어 상기 웨이퍼의 뒷면에 근접하도록 웨이퍼의 직경보다 상대적으로 조금 작은 가이드링을 형성한 것을 특징으로 하는 반도체 제조장치.
- 제2항에 있어서, 상기 웨이퍼와 가이드링의 간격을 1∼5㎜로 두어 약품의 침투를 방지한 것을 특징으로 하는 반도체 제조장치.
- 반도체 제조장비장비중에서 약품(Chemical)을 처리하며 회전부를 가지고 있는 장비에 있어서, 웨이퍼의 뒷면에 공정에서 사용되는 약품이 웨이퍼 뒷면의 공기 토출수단을 통한 공기의 흐름에 의해 침투가 억제되도록 하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조장치.
- 제4항에 있어서, 상기 공기는 질소(N2) 가스를 사용하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950030299A KR970017938A (ko) | 1995-09-16 | 1995-09-16 | 반도체 제조장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950030299A KR970017938A (ko) | 1995-09-16 | 1995-09-16 | 반도체 제조장치 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970017938A true KR970017938A (ko) | 1997-04-30 |
Family
ID=66615462
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019950030299A KR970017938A (ko) | 1995-09-16 | 1995-09-16 | 반도체 제조장치 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR970017938A (ko) |
-
1995
- 1995-09-16 KR KR1019950030299A patent/KR970017938A/ko not_active Application Discontinuation
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR960008999A (ko) | 현상처리장치 및 현상처리방법 | |
| US6149759A (en) | Process and device for one-sided treatment of disk-shaped objects | |
| ATE261649T1 (de) | Nachgiebige zwischenschicht für einen halbleiterchip | |
| KR950010008A (ko) | 반도체 장치의 플라즈마 처리동안 입자오염을 줄이는 방법 | |
| KR960002620A (ko) | 웨이퍼 및 기판 처리 장치 및 처리 방법, 웨이퍼 및 기판 이동 적재 장치 | |
| US5159374A (en) | Water sealing develop ring | |
| KR960035792A (ko) | 반도체 제조장치 | |
| KR970017938A (ko) | 반도체 제조장치 | |
| DE69939458D1 (de) | Halbleiterbearbeitungsvorrichtung | |
| KR960026312A (ko) | 반도체 소자 제조방법 | |
| JPH08276163A (ja) | 板状試料表面の処理方法 | |
| KR970017949A (ko) | 감광막의 도포방법 및 이에 사용되는 감광막도포장치 | |
| KR950025856A (ko) | 대구경 반도체 웨이퍼의 균일도 향상방법 | |
| KR970077134A (ko) | 반도체 결정성장장비의 가스공급장치 | |
| KR910013437A (ko) | 확산형 반도체소자의 제조방법 | |
| KR970008382A (ko) | 반도체장치의 세정장치 | |
| KR950003922A (ko) | 포토레지스트 도포속도 조절에 의한 오염입자 감소방법 | |
| KR900007078A (ko) | 금속산화 반도체 소자의 격리산화막 형성방법 | |
| KR970060407A (ko) | 반도체 공정장비의 웨이퍼 척 크리닝장치 | |
| KR970077073A (ko) | 반도체 제조공정의 웨이퍼 오염방지 방법 | |
| KR930008981A (ko) | 반도체 제조공정중 세정방법 | |
| KR950021190A (ko) | 반도체 소자 세정방법 | |
| KR900005568A (ko) | 유기물 재의 제거장치 | |
| KR970077377A (ko) | 테이프 마운팅(tape mounting)장치 | |
| Sugawara et al. | Advanced hydrogen peroxide for ULSI processing. |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| WITN | Withdrawal due to no request for examination |