JP2880726B2 - 半導体装置の製造装置 - Google Patents

半導体装置の製造装置

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JP2880726B2
JP2880726B2 JP1115701A JP11570189A JP2880726B2 JP 2880726 B2 JP2880726 B2 JP 2880726B2 JP 1115701 A JP1115701 A JP 1115701A JP 11570189 A JP11570189 A JP 11570189A JP 2880726 B2 JP2880726 B2 JP 2880726B2
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将巳 香山
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体装置の製造装置に関する。
〔従来の技術〕
半導体装置の製造に用いられるドライエッチング装置
や減圧CVD装置は、真空処理室と排気ポンプとを接続す
る排気管の途中に設けられた遮断バルブを閉じることに
より、真空処理室と排気ポンプとを遮断し、次でN2ガス
等を導入させて処理室を真空状態から大気圧に戻してい
た。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、上述した従来の半導体装置の製造装置
の構造では、真空処理室を真空状態から大気圧に戻す際
に、排気管内に蓄積された種々のごみの粒子等が真空処
理室内に吹き戻されて浮遊して半導体基板表面に付着す
るため、半導体装置の歩留りを低下させるという欠点が
あった。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の半導体装置の製造装置は、真空処理室と排気
ポンプとを接続する排気管の途中に遮断バルブを有する
半導体装置の製造装置において、前記真空処理室と排気
管の接合部に第２の遮断バルブを設けたものである。
〔実施例〕
第１図は本発明の第１の実施例の断面図である。
リーク用N2ガス導入口２を持ち半導体基板７を入れる
真空処理室としての炉芯管１は、排気管３により排気ポ
ンプ５に接続されている。そしてこの排気管３には、真
空排気を遮断するバルブ４の外に炉芯管との接合部に第
２の遮断バルブ６が設けられている。
このように構成された第１の実施例においては、炉芯
管１内を大気圧に戻す場合、真空排気を遮断する遮断バ
ルブ４を閉じ、同時に炉芯管１と接合する第２の遮断バ
ルブ６を閉じることにより、リーク用N2ガスがごみの蓄
積された排気管３内に入ることが防止されるため、排気
管３内のごみが炉芯管に入り半導体基板７に付着するこ
とはなくなる。
第２図は本発明の第２の実施例の断面図であり、本発
明をドライエッチング装置に適用した場合を示してい
る。
リーク用N2ガス導入口２を持つエッチング室８と排気
ポンプ５とをつなぐ排気管３は真空排気を遮断するバル
ブ４を持ち、さらにエッチング室１との接合部に第２の
遮断バルブ６が設けられている。
このように構成された第２の実施例においては、エッ
チング室８を大気圧に戻す場合、真空排気を遮断するバ
ルブ４を閉じ同時にエッチング室８と接合する第２の遮
断バルブ６を閉じることにより、リーク用N2ガスがごみ
の蓄積された排気管３内に入ることが防止されるため、
第１の実施例と同様に電極９に支持された半導体基板の
排気管内のごみによる汚染は防止される。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、真空処理室と排気管の
接合部に第２の遮断用バルブを設けることにより、真空
状態の処理室内を大気圧に戻す時に、真空排気を遮断す
るバルブと同時にこの第２の遮断バルブを閉じることに
より、リーク用のN2等のガスがごみの蓄積された排気管
内に入り、ごみを巻き上げることを防止出来る。このた
め、歩留り低下の原因となる半導体基板表面へのごみの
付着を防止出来ると共に、後工程へのごみの持ち込みに
よる２次汚染を防ぐことが出来る。従って半導体装置の
歩留りを向上させることが出来る。
【図面の簡単な説明】
第１図及び第２図は本発明の第１及び第２の実施例の断
面図である。 １……炉芯管、２……リーク用N2導入口、３……排気
管、４遮断バルブ、５……排気ポンプ、６……第２の遮
断バルブ、７……半導体基板、８……エッチング室、9
A,9B……電極。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】真空処理室と排気ポンプとを接続する排気
    管の途中に遮断バルブを有する半導体装置の製造装置に
    おいて、前記真空処理室と前記排気管の接合部に第２の
    遮断バルブを設けたことを特徴とする半導体装置の製造
    装置。
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JPS61100926A (ja) * 1984-10-23 1986-05-19 Tokuda Seisakusho Ltd プラズマｃｖｄ装置
JPS61124125A (ja) * 1984-11-20 1986-06-11 Tokuda Seisakusho Ltd プラズマ処理装置

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