KR970052862A - 포토 센서티브 유전체를 이용한 반도체 제조 공정 - Google Patents

포토 센서티브 유전체를 이용한 반도체 제조 공정 Download PDF

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KR970052862A
KR970052862A KR1019950065892A KR19950065892A KR970052862A KR 970052862 A KR970052862 A KR 970052862A KR 1019950065892 A KR1019950065892 A KR 1019950065892A KR 19950065892 A KR19950065892 A KR 19950065892A KR 970052862 A KR970052862 A KR 970052862A
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photosensitive dielectric
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semiconductor manufacturing
photosensitive
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김요정
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김광호
삼성전자 주식회사
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  • Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
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Abstract

본 발명은 포토 센서티브를 이용한 반도체 제조 방법에 관한 것으로서, 본 발명은 포토 센서티브 유전체를 이용하여 제조 공정을 단순화한 포토 센서티브 유전체를 이용한 반도체 제조 공정을 제공하는데 있다.
상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 포토 센서티브 유전체를 이용한 반도체 제조 공정은 포토 센서티브 유전체를 기판위에 침적시키는 제1스텝과, 침적된 포토 센서티브 유전체에 금속을 중착하고 와이어를 본딩하는 제2스텝을 구성됨을 특징으로 한다.

Description

포토 센서티브 유전체를 이용한 반도체 제조 공정.
내용없음

Claims (1)

  1. 포토 센서티브 유전체를 기판위에 침적시키는 제1스텝과, 침적된 포토 센서티브 유전체에 금속을 중착하고 와이어를 본딩하는 제2스텝을 구성됨을 특징으로 하는 포토 센서티브 유전체를 이용한 반도체 제조 공정.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950065892A 1995-12-29 1995-12-29 포토 센서티브 유전체를 이용한 반도체 제조 공정 KR970052862A (ko)

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