KR970028806A - 투과율 조절 패턴을 가지는 마스크 - Google Patents

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KR970028806A
KR970028806A KR1019950040718A KR19950040718A KR970028806A KR 970028806 A KR970028806 A KR 970028806A KR 1019950040718 A KR1019950040718 A KR 1019950040718A KR 19950040718 A KR19950040718 A KR 19950040718A KR 970028806 A KR970028806 A KR 970028806A
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transparent
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control pattern
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KR1019950040718A
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김형준
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김광호
삼성전자 주식회사
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  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

노광시 빛의 세기를 감소시키지 않고, 해상도를 증가시킬 수 있는 마스크에 관한 것으로, 본 발명은 투명한 기판과, 상기 투명한 기판 위에 형성된 차광막 패턴에 의해서 한정되는 투명 패턴과, 상기 투명 패턴의 모서리에 연결되어 사진 공정시 패턴되지 않는 투과율 조절 패턴을 포함하는 마스크이다. 따라서, 본 발명에 의하여 종래의 주변 효과 강조형 위상 반전 마스크에서 발생하던 문제를 제거하고, 투과율을 최적화할 수 있어 해상도를 높이면서 노광 시간이 감소되지 않도록 패턴을 형성할 수 있다.

Description

투과율 조절 패턴을 가지는 마스크
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명에 따라 투과율 조절 패턴을 가지는 마스크를 보여주는 단면이다.

Claims (2)

  1. 투명한 기판; 상기 투명한 기판 위에 형성된 차광막 패턴에 의해서 한정되는 투명패턴; 및 상기 투명 패턴의 모서리에 연결되어 사진 공정시 패턴되지 않는 투과율 조절 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크.
  2. 제1항에 있어서, 상기 투과율 조절 패턴은 크롬 또는 알루미늄으로 형성된 것을 특징으로 하는 마스크.
    ※ 참고사항:최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950040718A 1995-11-10 1995-11-10 투과율 조절 패턴을 가지는 마스크 KR970028806A (ko)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100712357B1 (ko) * 2005-12-21 2007-05-02 동부일렉트로닉스 주식회사 마이크로 렌즈 제조방법
US9632438B2 (en) 2014-04-09 2017-04-25 Samsung Display Co., Ltd. Phase shift mask and method of forming patterns using the same

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