KR970028806A - 투과율 조절 패턴을 가지는 마스크 - Google Patents
투과율 조절 패턴을 가지는 마스크 Download PDFInfo
- Publication number
- KR970028806A KR970028806A KR1019950040718A KR19950040718A KR970028806A KR 970028806 A KR970028806 A KR 970028806A KR 1019950040718 A KR1019950040718 A KR 1019950040718A KR 19950040718 A KR19950040718 A KR 19950040718A KR 970028806 A KR970028806 A KR 970028806A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- pattern
- mask
- transparent
- transmittance control
- control pattern
- Prior art date
Links
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
노광시 빛의 세기를 감소시키지 않고, 해상도를 증가시킬 수 있는 마스크에 관한 것으로, 본 발명은 투명한 기판과, 상기 투명한 기판 위에 형성된 차광막 패턴에 의해서 한정되는 투명 패턴과, 상기 투명 패턴의 모서리에 연결되어 사진 공정시 패턴되지 않는 투과율 조절 패턴을 포함하는 마스크이다. 따라서, 본 발명에 의하여 종래의 주변 효과 강조형 위상 반전 마스크에서 발생하던 문제를 제거하고, 투과율을 최적화할 수 있어 해상도를 높이면서 노광 시간이 감소되지 않도록 패턴을 형성할 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명에 따라 투과율 조절 패턴을 가지는 마스크를 보여주는 단면이다.
Claims (2)
- 투명한 기판; 상기 투명한 기판 위에 형성된 차광막 패턴에 의해서 한정되는 투명패턴; 및 상기 투명 패턴의 모서리에 연결되어 사진 공정시 패턴되지 않는 투과율 조절 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크.
- 제1항에 있어서, 상기 투과율 조절 패턴은 크롬 또는 알루미늄으로 형성된 것을 특징으로 하는 마스크.※ 참고사항:최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019950040718A KR970028806A (ko) | 1995-11-10 | 1995-11-10 | 투과율 조절 패턴을 가지는 마스크 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019950040718A KR970028806A (ko) | 1995-11-10 | 1995-11-10 | 투과율 조절 패턴을 가지는 마스크 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR970028806A true KR970028806A (ko) | 1997-06-24 |
Family
ID=66587522
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019950040718A KR970028806A (ko) | 1995-11-10 | 1995-11-10 | 투과율 조절 패턴을 가지는 마스크 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR970028806A (ko) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100712357B1 (ko) * | 2005-12-21 | 2007-05-02 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 마이크로 렌즈 제조방법 |
US9632438B2 (en) | 2014-04-09 | 2017-04-25 | Samsung Display Co., Ltd. | Phase shift mask and method of forming patterns using the same |
-
1995
- 1995-11-10 KR KR1019950040718A patent/KR970028806A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100712357B1 (ko) * | 2005-12-21 | 2007-05-02 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 마이크로 렌즈 제조방법 |
US9632438B2 (en) | 2014-04-09 | 2017-04-25 | Samsung Display Co., Ltd. | Phase shift mask and method of forming patterns using the same |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1365288A4 (en) | "PHOTOMASK, MANUFACTURING METHOD, STRUCTURAL EDUCATION PROCESS WITH THE PHOTOMASK" | |
KR970016774A (ko) | 하프톤(Half-Tone) 위상반전마스크의 제조방법 | |
TW232077B (en) | Phase-shifting mask | |
KR930001310A (ko) | 편광자를 사용한 편광 노광장치 및 편광 마스크 제조방법 | |
KR950006541A (ko) | 감소형 투영 프린팅 장치에 사용되는 공간 필터 | |
KR970048985A (ko) | 더미 패턴을 가지는 하프톤형 위상 반전 마스크 및 그 제조 방법 | |
KR970062776A (ko) | 액티브 매트릭스 액정표시 장치의 블랙 매트릭스 제조 방법 | |
EP1132772A4 (en) | HALFTONE PHASE SLIDER MASK, ROHLING FOR THIS, AND METHOD FOR PRODUCING A PATTERN | |
SE7703844L (sv) | Forfarande vid pregling av substraktiva filter | |
KR970028806A (ko) | 투과율 조절 패턴을 가지는 마스크 | |
KR950009900A (ko) | 마스크 및 투영노광 방법 | |
KR940012496A (ko) | 위상쉬프트 포토마스크 | |
KR937000886A (ko) | 미세 레지스트 패턴의 형성 방법 | |
KR970022531A (ko) | 더미 패턴을 가지는 마스크 | |
KR920020245A (ko) | 액정 라이트 밸브와 그 제조 방법 | |
KR950012630A (ko) | 위상반전 마스크 및 그 제조 방법 | |
KR970028803A (ko) | 위상반전마스크와 그의 제조방법 | |
KR970022521A (ko) | 위상반전 마스크 및 그 제조방법 | |
KR960035144A (ko) | 부분 투광성 위상반전 마스크 | |
KR970048956A (ko) | 위상 반전 패턴을 가지는 마스크 및 그 제조 방법 | |
JPH0192701A (ja) | パターン化された光拡散シート | |
KR970048984A (ko) | 무크롬 위상 반전 마스크 | |
KR970048937A (ko) | 미세 패턴 형성용 마스크 | |
KR960042207A (ko) | 투영노광방법 및 이에 사용되는 포토마스크 | |
KR970076071A (ko) | 더미패턴을 가지는 마스크 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
WITN | Withdrawal due to no request for examination |