KR970022395A - 조명광학계 - Google Patents

조명광학계 Download PDF

Info

Publication number
KR970022395A
KR970022395A KR1019960047855A KR19960047855A KR970022395A KR 970022395 A KR970022395 A KR 970022395A KR 1019960047855 A KR1019960047855 A KR 1019960047855A KR 19960047855 A KR19960047855 A KR 19960047855A KR 970022395 A KR970022395 A KR 970022395A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
optical system
light source
irradiated surface
light
fly
Prior art date
Application number
KR1019960047855A
Other languages
English (en)
Inventor
오사무 다니쯔
다카시 모리
Original Assignee
오노 시게오
니콘 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 오노 시게오, 니콘 가부시키가이샤 filed Critical 오노 시게오
Publication of KR970022395A publication Critical patent/KR970022395A/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/70191—Optical correction elements, filters or phase plates for controlling intensity, wavelength, polarisation, phase or the like

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Microscoopes, Condenser (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

본 발명은 피조사면에서의 조도의 균일성과 개구수의 균일성을 동시에 만족할 수 있는 조명광학계에 관한 것이다. 본원에 의하면 콘덴서광학계의 촛점거리(F)와, 콘덴서광학계에 대한 광선의 입사각(θ)과, 광선이 피조사면에 입사하는 위치의 광축으로부터의 거리(Y) 사이에는, Y=F sin θ외 관계가 성립하며, 피조사면상에 있어서, 조도를 거의 균일하게 보정하기 위해서, 다광원 형상 형성수단과 피조사면 사이의 광로중으로써 피조사면상에 있어 한점으로 집광하는 광선군이 실질적으로 평행하게 되는 위치에는, 광선의 입사각에 따라서 투과율이 변화하는 각도특성을 갖는 조도분포 보정수단이 설치되어 있다.

Description

조명광학계
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 실시예에 의존한 조명광학계를 투영노광장치에 적용한 예를 개략적으로 도시하는 도면.

Claims (11)

  1. 조명광을 공급하기 위한 광원수단과, 상기 광원수단으로부터의 광속에 근거하여 복수의 광원형상을 형성하기 위한 다광원 형상 형성수단과, 상기 복수의 광원형상으로부터의 광속을 집광하여 피조사면을 중첩적으로 조명하기 위한 콘덴서광학계를 구비하고, 상기 콘덴서광학계의 촛점거리(F)와, 상기 콘덴서광학계에 대한 광선의 입사각(θ)과, 상기 광선이 상기 피조사면에 입사하는 위치의 광축으로부터의 거리 (Y) 사이에는, Y=F sin θ의 관계가 성립하며, 상기 피조사면상에 있어서, 조도를 거의 균일하게 보정하기 위해서 상기 다광원형상 형성수단과 피조사면 사이의 광로중에 있어서 상기 피조사면상에 있어 한점으로 집광하는 광선군이 실질적으로 평행하게 구성되는 위치에는, 광선의 입사각에 따라서 투과율이 변화하는 각도특성을 갖는 조도분포 보정 수단이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 조명광학계.
  2. 제1항에 있어서, 상기 조도분포 보정수단은 광선의 입사각의 정현치의 제곱에 비례하여 투과율이 증가하는 각도 특성을 갖는 투과필터인 것을 특징으로 하는 조명광학계.
  3. 제2항에 있어서, 상기 투과필터는 상기 광축에 대하여 기울여 움직임가능하게 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 조명광학계.
  4. 제3항에 있어서, 상기 다광원형상 형성수단은 복수의 단일 렌즈 엘리먼트로 이루어지며 또한 입사면이 상기 피조사면과 광학적으로 거의 공역인 위치에 위치결정된 플라이아이렌즈이며, 상기 조도분포 보정수단은 상기 플라이아이렌즈와 콘덴서 광학계 사이의 광로중에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 조명광학계.
  5. 제1항에 있어서, 상기 다광원형상 형성수단은 복수의 단일 렌즈 엘리먼트로 이루어지며 또한 입사면이 상기 피조사면과 광학적으로 거의 공역인 위치에 위치결정된 플라이아이렌즈이며, 상기 조도분포 보정수단은 상기 플라이아이렌즈와 콘덴서 광학계 사이의 광로중에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 조명광학계.
  6. 제2항에 있어서, 상기 다광원형상 형성수단은 복수의 단일 렌즈 엘리먼트로 이루어지며 또한 입사면이 상기 피조사면과 광학적으로 거의 공역인 위치에 위치결정된 플라이아이렌즈이며, 상기 조도분포 보정수단은 상기 플라이아이렌즈와 콘덴서 광학계 사이의 광로중에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 조명광학계.
  7. 제1항 기재의 조명광학계에 의해서 제1물체를 조명하며, 투영광학계에 의해서 상기 제1물체의 형상을 제2물체상에 투영노광하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  8. 제7항에 있어서, 상기 조도분포 보정수단은 광선의 입사각의 정현치의 제곱에 비례하여 투과율이 증가하는 각도특성을 갖는 투과필터인 것을 특징으로 하는 노광장치.
  9. 제8항에 있어서, 상기 투과필터는 상기 광축에 대하여 기울여 움직임가능하게 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  10. 제9항에 있어서, 상기 다광원형상 형성수단은 복수의 단일 렌즈 엘리먼트로 이루어지며 또한 입사면이 상기 피조사면과 광학적으로 거의 공역인 위치에 위치결정된 플라이아이렌즈이며, 상기 조도분포 보정수단은 상기 플라이아이렌즈와 콘덴서 광학계 사이의 광로중에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  11. 조명광학계에 의해서 제1물체를 조명하며, 투영광학계에 의해서 상기 제1물체의 형상을 제2물체상에 투영노광하는 노광장치에서의 조도분포 조정방법에 있어서, 상기 조명광학계는 조명광을 공급하기 위한 광원수단과, 상기 광원수단으로부터의 광속에 근거하여 복수의 광원형상을 형성하기 위한 다광원형상 형성수단과, 상기 복수의 광원형상으로부터의 광속을 집광하여 피조사면을 중첩적으로 조명하기 위한 콘덴서광학계를 구비하고, 상기 콘덴서광학계의 촛점거리 (F)와, 상기 콘덴서광학계에 대한 광선의 입사각(θ)과,상기 광선이 상기 피조사면에 입사하는 위치의 광축으로부터의 거리 (Y) 사이에는, Y=Fsin θ의 관계가 성립하며, 상기 다광원형상 형성수단과 피조사면 사이의 광로중에서 상기 피조사면상에 있어서 한점으로 집광하는 광선군이 실질직으로 평행하게 되는 위치에 배치되어, 광선의 입사각의 정현치의 제곱에 비례하여 투과율이 증가하는 각도특성을 갖는 투과필터를 광축에 대하여 기을여 움직임시킴으로써, 상기 제1기판상 혹은 상기 제2기판상에 있어서, 조도를 실질적으로 균일하게 보정하는 것을 특징으로 하는 조도분포조절방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960047855A 1995-10-27 1996-10-24 조명광학계 KR970022395A (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30393195A JP3811923B2 (ja) 1995-10-27 1995-10-27 照明光学系
JP95-303931 1995-10-27

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR970022395A true KR970022395A (ko) 1997-05-28

Family

ID=17927010

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019960047855A KR970022395A (ko) 1995-10-27 1996-10-24 조명광학계

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP3811923B2 (ko)
KR (1) KR970022395A (ko)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3101613B2 (ja) 1998-01-30 2000-10-23 キヤノン株式会社 照明光学装置及び投影露光装置
JP3817365B2 (ja) 1998-04-30 2006-09-06 キヤノン株式会社 投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
JP5035747B2 (ja) 2007-03-16 2012-09-26 株式会社ニコン オプティカルインテグレータ、照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法
WO2010032585A1 (ja) * 2008-09-17 2010-03-25 株式会社ニコン 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
JP5391641B2 (ja) * 2008-10-20 2014-01-15 株式会社ニコン フィルタ装置、照明装置、露光装置、及びデバイス製造方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0734057B2 (ja) * 1987-08-07 1995-04-12 大日本スクリ−ン製造株式会社 照明用レンズ
JP2787133B2 (ja) * 1988-12-23 1998-08-13 株式会社ニコン 照明光学装置
JPH05217855A (ja) * 1992-02-01 1993-08-27 Nikon Corp 露光用照明装置
JP3316694B2 (ja) * 1992-06-02 2002-08-19 株式会社ニコン 投影露光装置及び転写方法
JPH06188168A (ja) * 1992-12-18 1994-07-08 Canon Inc 投影露光装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法
JP3200244B2 (ja) * 1993-07-16 2001-08-20 キヤノン株式会社 走査型露光装置
JPH0737798A (ja) * 1993-07-20 1995-02-07 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 投影露光装置
JP3008744B2 (ja) * 1993-08-26 2000-02-14 キヤノン株式会社 投影露光装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法
JP3376043B2 (ja) * 1993-09-20 2003-02-10 キヤノン株式会社 照明装置及びそれを用いた投影露光装置
JP3232473B2 (ja) * 1996-01-10 2001-11-26 キヤノン株式会社 投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
JP3101613B2 (ja) * 1998-01-30 2000-10-23 キヤノン株式会社 照明光学装置及び投影露光装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP3811923B2 (ja) 2006-08-23
JPH09127418A (ja) 1997-05-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4497013A (en) Illuminating apparatus
JP3158691B2 (ja) 露光装置及び方法、並びに照明光学装置
KR900008299A (ko) 조명방법 및 그 장치와 투영식 노출방법 및 그 장치
JPS60232552A (ja) 照明光学系
US5797674A (en) Illumination optical system, alignment apparatus, and projection exposure apparatus using the same
KR950012135A (ko) 투영노광장치 및 이를 이용한 디바이스제조방법
KR960032097A (ko) 투영 노광 장치
KR920020229A (ko) 투영노광방법 및 그 사용시스템
JPH0817223A (ja) 照明光学装置
KR960002904A (ko) 투영노광장치 및 이것을 사용한 디바이스제조방법
US5731577A (en) Illumination apparatus and projection exposure apparatus using the same
USRE34634E (en) Light illumination device
US5530518A (en) Projection exposure apparatus
KR950024025A (ko) 투사 노출 장치 및 디바이스 제조방법
JPH08179237A (ja) 照明光学装置
US5798823A (en) Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus using it
KR970022395A (ko) 조명광학계
KR970007500A (ko) 노광장치
KR950015638A (ko) 개량된 해상도 특성을 갖는 스텝 앤드 리피트 노출 시스템
KR950015612A (ko) 조도가 높은 환상 조명 광을 위한 환상 조명 시스템을 갖춘 얼라이너
KR970022571A (ko) 투영노광장치
JPH08139009A (ja) 照明光学装置
KR0180856B1 (ko) 비 구면 집광 렌즈를 사용한 조명계
JPS5868062A (ja) 画像形成装置
KR950001868A (ko) 조명장치 및 동장치를 사용하는 노광장치

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination