KR920020229A - 투영노광방법 및 그 사용시스템 - Google Patents

투영노광방법 및 그 사용시스템 Download PDF

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다케우치 요시노부
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호리우치 도시유키
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마사시 고지마
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Abstract

내용 없음

Description

투영노광방법 및 그 사용시스템
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 원리를 설명하기 위한 도면,
제2(a)도 및 제2(b)도는 본 발명의 일 실시양태에 따른 2점 또는 4점 경사입사조사방법에 있어서의 해상을 설명하기 위한 도면,
제3(a)도 및 제3(b)도는 본 발명의 다른 실시양태에 따른 축대칭의 경사입사조사방법에 있어서의 해상을 설명하기 위한 도면,

Claims (91)

  1. 미세패턴의 투영노광방법에 있어서, 표면에 미세패턴을 갖는 마스크를 조사시키기 위한 조사광을 광축에 대해 그 마스크의 아래에 위치된 투영렌즈의 개구칫수에 대응하는 각도만큼 경사지게 하는 단계와, 상기 투영렌즈의 아래에 위치된 대상체에 미세패턴을 노출시킬 수 있게 상기 조사광을 마스크에 경사지게 입사시키게 하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 조사광은 서로 간섭하지 않는 다수의 광선들을 중첩시키는 것에 의해 얻어지는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  3. 제1항에 있어서,상기 조상광는 광축에 대해 수직을 이루는 평면에서 보았을 때 동일한 각간격을 두고 두방향으로 경사지게 입사되는 광선들로 구성되는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기 조상광는 광축에 대해 수직을 이루는 평면에서 보았을 때 동일한 각간격을 두고 4방향으로 경사지게 입사되는 광선들로 구성되는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  5. 제2항에 있어서, 조사광을 구성하는 상기 광선들은 광축에 대해 축대칭적으로 투영렌즈의 개구칫수에 대응하는 각도만큼 광축에 대해 경사지게 입사되는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  6. 제1항에 있어서, 상기 조사광은 환형의 형태를 갖는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  7. 제1항에 있어서, 상기 투영렌즈는 최소한 집속되는 광원상(래티클 없이)에 대응하는 부분에서 투과도가 조정되는 투영렌즈개구를 갖는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  8. 제1항에 있어서, 상기 투영렌즈는 제1 및 제2 렌즈시스템(12,13)와, 그 제1 및 제2렌즈시스템(12,13)사이에 위치되는 개구스톱(14)으로 구성되는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  9. 제1항에 있어서, 상기 마스크에 경사지게 입사되는 조사광은 상기 마스크의 광원측에 위치된 광학장치(30,36,36a 내지 36d, 37,38 : 제21도 내지 제26(b)도)에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 광학장치는 주기적인 구조를 갖는 장치(30 : 제20도)인 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  11. 제9항에 있어서, 상기 광학장치는 프리즘(36 : 제21도)인 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  12. 제9항에 있어서, 상기 광학장치는 주기적인 구조를 갖는 장치과와 프리즘의 조합(37 : 제24도)로 구성되는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  13. 제9항에 있어서, 상기 광학장치는 기판의 양면에 각각 형성된 주기적인 패턴을 갖는 장치(38:제25도)로 구성되는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  14. 제9항에 있어서, 상기 광학장치(44 : 제27도 내지 제33(b)도)는 상기 마스크와 일체로 형성되는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  15. 제14항에 있어서, 상기 마스크는 불투명영역과 투명영역을 가지고 있고, 상기 불투명영역은 패턴형태에 따라 설정된 투과도를 가지고 있고, 그 불투명영역을 통과하는 광이 상기 투명영역을 통과하는 광으로부터 1/2파장의 위상차를 가질 수 있는 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  16. 제9항에 있어서, 상기 광학장치는 상기 마스크에 대해 수직을 이루은 축에 대해 회전하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  17. 제6항에 있어서, 상기 환형조사광은 광원으로부터의 광이 광섬유를 도너츠형으로 다발화시킴으로써 얻어지는 소경의 입사면에 입사되고 대경의 출사면으로부터 나올수 있게 형성되는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  18. 제6항에 있어서, 상기 조사광은 광원으로부터 광이 제1광학 시스템을 통해 이차광원으로 유도되고, 그 이차광원으로 부터의 광은 제2광학 시스템을 통해 투과되는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  19. 제18항에 있어서, 상기 이차광원은 환형광원인 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  20. 제18항에 있어서, 상기 제2광학시스템은 블록렌즈 및 오목렌즈(78,79 : 제41(a)도 및 제41(b)도:제44도 내지 제45(b)도)를 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  21. 제20항에 있어서, 상기 제2광학시스템은 집속렌즈(68 : 제48(a)도 내지 제48(f)도)를 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  22. 제6항에 있어서, 상기 환형조사광은 광원으로 부터의 광이 원추형렌즈(77 : 제41(a)도 및 제41(b)의 입사면에 입사되고 출사면으로 부터 나올 수 있게 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  23. 제1항에 있어서, 조사광을 상기 마스크에 경사지게 입사시키게하는 단계는 광섬유들(58 : 제39(a)도 및 제39(b)도, 88 : 제49도)을 도너층형으로 다발화시킴으로써 얻어지는 입사면에 광원으로 부터의 광을 입사시키게 하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  24. 제23항에 있어서, 상기 광학섬유의 입사면은 출사면의 직경보다 큰 직경을 갖는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  25. 제23항에 있어서, 조사광은 광원으로 부터의 광이 제1광학시스템을 통해 이차광원으로 유도되고, 그 이차광원으로 부터 나오는 광은 제2광학시스템을 통해 투과되는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  26. 제18항에 있어서, 상기 이차광원은 환형광원인 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  27. 제18항에 있어서, 상기 제2광학시스템은 블록렌즈 및 오목렌즈(78,79 : 제41(a)도 및 제41(b) : 제44도 내지 제45(b)도 89,90 : 제50도)를 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  28. 제6항에 있어서, 상기 환형조사광은 광원으로 부터의 광이 원추형렌즈(77 : 제41(a)도 및 제41(b)도, 65 : 제50도)의 입사면에 입사되고 출사면으로 부터 나올 수 있게 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  29. 제1항에 있어서, 상기 마스크에 입사되는 조사광은 상기 투영렌즈(111 : 제53(a)도 및 제53(b)도)의 개구 칫수에 대응하는 각도범위내에서 가변적으로 경사지는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  30. 제29항에 있어서, 상기 마스크에 입사되는 조사광의 각도는 그 마스크상의 패턴으로 부터 유도되는 변수에 따라 변화되는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  31. 제30항에 있어서, 상기 변수는 패턴형태와 패턴크기로 구성되는 그룹에서 선택된 하나이상의 요소를 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  32. 제1항에 있어서, 상기 마스크조사광의 간섭도는 광원(121 : 제54(a)도 및 제54(b)도)의 유효영역을 변화시킴으로써 조정되는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  33. 제32항에 있어서, 상기 조사광의 간섭도는 마스크상의 패턴으로 부터 유도되는 변수에 따라 변화되는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  34. 제33항에 있어서, 상기 변수는 패턴형태와 패턴크기로 구성되는 그룹에서 선택된 하나이상의 요소를 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  35. 제1항에 있어서, 상기 조사광은 광축의 외측의 위치에 위치된 하나이상의 조리개를 통해 마스크상에 경사지게 입사되는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  36. 제35항에 있어서, 상기 조리개는 동일한 형태와 광축에 대해 대칭을 이루는 점들에 대응하는 중심들을 가지는 두 개의 개구(132 : 제59도, 135 : 제60(a)도 및 제62(c)도)로 구성되는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  37. 제35항에 있어서, 상기 조리개는 상기 이차광원의 바로 뒤에 위치하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  38. 제1항에 있어서, 조사광이 경사지게 입사되는 투영광학시스템의 개구스톱에는 조사시스템의 광원의 상에 대응하는 개구의 주변부분이 0.2 내지 0.6의 진폭투과도를 가지며 중심부는 1의 진폭투과도를 가질 수 있게 설계된 필터(143 : 제67(a)도 및 제67(b)도가 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  39. 제38항에 있어서, 상기 조사시스템과 상기 필터는 상기 개구스톱에 집속되는 광원의 전체 상을, 상기 개구스톱의 위치에 배치된 상기 필터의 주변부가 0.2 내지 0.6의 투과도를 갖게 되어 있는 영역과 일치시킬 수 있게 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  40. 제1항에 있어서, 입사동의 반경이 상기 투영렌즈의 개구칫수로 표준화되어 1로 정해질 때, 조사광이 경사지게 입사되는 투영광학시스템의 개구스톱에 집속되는 광선들은 내측반경 및 외측반경을 가지는 환형광원으로 구성되고, 상기 투영광학시스템의 개구스톱에는 그에 집속되는 광선들의 상의 내측반경과 동일한 내측반경 및 1의외측반경을 갖는 0번째 광강도조정필터가 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  41. 제40항에 있어서, 상기 환형광원의 내측 및 외측반경들이 각각 R1및 R2로 정해지고, 상기 내측반경은 R1＞0.5를 만족하고, 상기 외경은 R2≤1을 만족하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  42. 제40항에 있어서, 상기 0번째 광강도조정필터는 0.2<T<1의 조건을 만족하는 진폭투과도 T를 갖는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  43. 제40항에 있어서, 상기 환형광원의 내측 및 외측반경이 각각 R1및 R2로 정해질 때, 상기 0번째 광강도조정필터의 내측반경 R1으로 부터 외측반경 R2까지의 부분이 내측반경 R2까지의 부분이 내측반경 R2로 부터의 1의 외경까지의 부분의 진폭투과도와는 다른 진폭투과도를 갖는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  44. 제1항에 있어서, 상기 조사광은 광축에 대해 수직을 이루는 평면에서 보았을때 광축에 대해 대칭을 이루는 4방향으로 4개의 부분광원들로 부터 나오는 광선들로 구성되는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  45. 제1항에 있어서, 상기 마스크는 일면에 소정의 패턴을 갖는 불투명영역을 가지는 마스크기판으로 구성되고, 상기 불투명영역은 패턴형태에 따라 설정된 투과도를 가지고 있고, 그 불투명영역을 통과하는 광이 투명영역을 통과하는 광으로 부터 1/2파장의 위상차를 가질 수 있는 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  46. 미세패턴의 투영노광장치에 있어서, 광원과, 표면에 상기 미세패턴이 형성되는 마스크와, 상기 마스크의 아래에 위치되는 투영렌즈와, 광축에 대해 상기 투영렌즈의 개구칫수에 대응하는 각도만큼 경사진 조사광에 의해 상기 마스크에 미세패턴을 경사지게 조사시키는 수단을 구비하여, 상기 투영렌즈의 아래에 위치된 대상체에 미세패턴을 노출시킬수 있게 상기 조사광을 마스크에 경사지게 입사시키게 구성되는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  47. 제46항에 있어서, 상기 조사광은 서로 간섭하지 않는 다수의 광선들을 중첩시키는 것에 의해 얻어지는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  48. 제46항에 있어서, 상기 조사광은 광축에 대해 수직을 이루는 평면에서 보았을 때 동일한 각간격을 두고 두 방향으로 경사지게 입사되는 광선들로 구성되는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  49. 제46항에 있어서, 상기 조사광은 광축에 대해 수직을 이루는 평면에서 보았을 때 동일한 각간격을 두고 4방향으로 경사지게 입사되는 광선들로 구성되는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  50. 제47항에 있어서, 조사광을 구성하는 상기 광선들은 광축에 대해 축대칭적으로 투영렌즈의 개구칫수에 대응하는 각도만큼 광축에 대해 경사지게 입사되는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  51. 제46항에 있어서, 상기 조사광은 환형의 형태를 갖는 것을 특징으로하는 투영노광장치.
  52. 제46항에 있어서, 상기 투영렌즈는 최소한 집속되는 광원상(래티클 없이)에 대응하는 부분에서 투과도가 조정되는 투영렌즈개구를 갖는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  53. 제46항에 있어서, 상기 투영렌즈는 제1 및 제2렌즈시스템(12,13)와, 그 제1 및 제2렌즈시스템(12,13)사이에 위치되는 개구스톱(14)으로 구성되는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  54. 제46항에 있어서, 상기 마스크에 경사지게 입사되는 조사광은 상기 마스크의 광원측에 위치된 광학장치(30,36,36a 내지 36d, 37,38 : 제21도 내지 제26(b)도)에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  55. 제54항에 있어서, 상기 광학장치는 주기적인 구조를 갖는 장치(30 : 제20도)인 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  56. 제54항에 있어서, 상기 광학장치는 프리즘(36 : 제21도)인 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  57. 제54항에 있어서, 상기 광학장치는 주기적인 구조를 갖는 장치와 프리즘의 조합(37 : 제24도)로 구성되는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  58. 제54항에 있어서, 상기 광학장치는 기판의 양면에 각각 형성된 주기적인 패턴을 갖는 장치(38 : 제25도)로 구성되는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  59. 제54항에 있어서, 상기 광학장치를 마스크의 광원측에 보유시키고 그 광학장치를 마스크에 대해 착탈시키는 광학장치착탈기구를 더욱 구비하는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  60. 제54항에 있어서, 상기 광학장치(44 : 제27도 내지 제33(b)도)는 상기 마스크와 일체로(제27도 내지 제33(b)도) 형성되는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  61. 제60항에 있어서, 상기 마스크는 불투명영역과 투명영역을 가지고 있고, 상기 불투명영역은 패턴형태에 따라 설정된 투과도를 가지고 있고, 그 불투명영역을 통과하는 광이 상기 투명영역을 통과하는 광으로부터 1/2파장의 위상차를 가질 수 있는 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  62. 제54항에 있어서, 상기 광학장치는 상기 마스크에 대해 수직을 이루은 축에 대해 회전하는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  63. 제51항에 있어서, 상기 마스크에 미세패턴을 경사지게 조사시키기 위한 수단은 도너츠형으로 다발화되어 있고 소경의 입사면과 대경의 출사면을 가진 광섬유다발(58 : 제39(a)도 및 제39(b)도)로 구성되어, 상기 광원으로 부터의 광이 조사광을 형성하도록 상기 광섬유다발의 소경입사면에 입사되어 대경출사면으로 부터 나오도록 구성된 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  64. 제51항에 있어서, 상기 마스크에 미세패턴을 경사지게 조사시키기 위한 수단은 광원으로 부터의 광을 제1광학시스템을 통해 이차광원으로 유도하는 수단과, 그 이차광원으로 부터의 광을 제2광학시스템을 통해 투과시키는 수단으로 구성되는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  65. 제64항에 있어서, 상기 이차광원은 환형광원인 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  66. 제64항에 있어서, 상기 제2광학시스템은 블록렌즈 및 오목렌즈(78,79 : 제41(a)도 및 제41(b)도 : 제44도 내지 제45(b)도)를 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  67. 제66항에 있어서, 상기 제2광학시스템은 집속렌즈(68 : 제48(a)도 내지 제48(f)도)를 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  68. 제51항에 있어서, 상기 마스크에 미세패턴을 경사지게 조사시키는 수단은 광원으로 부터의 광을 수신하기 위한 입사면과 조사광을 출사시키기 위한 출사면을 가진 원추형렌즈(77 : 제41(a)도 및 제41(b)도)로 구성되는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  69. 제46항에 있어서, 상기 마스크에 미세패턴을 경사지게 조사시키는 수단은 광원으로 부터의 광을 수신하기 위한 입사면과 조사광을 출사시키기위한 출사면을 가진 광섬유들(58 : 제39(a)도 및 제39(b)도 88 : 제49도)로 구성되어, 상기 출사면으로부터 나오는 조사광을 상기 마스크에 최소한 일방향으로 경사지게 입사시키게 하는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  70. 제69항에 있어서, 상기 광학섬유의 입사면은 출사면의 직경보다 큰 직경을 갖는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  71. 제69항에 있어서, 조사광은 광원으로 부터의 광이 제1광학시스템을 통해 이차광원을 유도되고, 그 이차광원으로 부터 나오는 광은 제2광학시스템을 통해 투과되는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  72. 제71항에 있어서, 상기 이차광원은 환형광원인 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  73. 제71항에 있어서, 상기 제2광학시스템은 블록렌즈 및 오목렌즈(78,79 : 제41(a)도 및 제41(b)도 : 제44도 내지 제45(b), 89,90 : 제50도)를 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  74. 제69항에 있어서, 상기 마스크에 미세패턴을 경사지게 조사시키는 수단은 광원으로 부터의 광을 수신하기 위한 입사면과 조사광을 출사시키기 위한 출사면을 가진 원추형렌즈(77 : 제41(a)도 및 제41(b)eh, 65 : 제50도)로 구성되는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  75. 제46항에 있어서, 상기 마스크에 미세패턴을 경사지게 조사시키는 수단은 상기 마스크에 입사되는 조사광을 상기 투영렌즈의 개구칫수에 대응하는 각도 범위내에서 가변적으로 경사지게 하는 수단(111 : 제53(a)도 및 제53(b)도)으로 구성되는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  76. 제75항에 있어서, 조사광을 가변적으로 경사지게 하는 수단은 마스크상의 패턴으로 부터 유도되는 변수에 따라 마스크에 입사되는 조사광의 가도를 변화되는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  77. 제76항에 있어서, 상기 변수는 패턴형태와 패턴크기로 구성되는 그룹에서 선택된 하나이상의 요소를 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  78. 제46항에 있어서, 상기 마스크에 미세패턴을 경사지게 조사시키는 수단은 광원의 유효영역을 변화시킴으로써 상기 마스크조사광의 간섭도를 조정하는 수단(121 : 제54(a)도 및 제54(b)도)으로 구성되는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  79. 제78항에 있어서, 조사광의 간섭도를 조정하는 수단은 마스크상의 패턴으로 부터 유도되는 변수에 따라 조사광의 간섭도를 변화시키는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  80. 제79항에 있어서, 상기 변수는 패턴형태와 패턴크기로 구성되는 그룹에서 선택된 하나이상의 요소를 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  81. 제46항에 있어서, 상기 마스크에 미세패턴을 경사지게 조사시키는 수단은 광축의 외측의 위치에 위치된 하나이상의 조리개(132 : 제59도, 135 : 제60(a)도 내지 제62(c)도)로 구성되어, 이 조리개를 통해 조사광을 마스크상에 경사지게 입사시킬 수 있는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  82. 제81항에 있어서, 상기 조리개는 동일한 형태와 광축에 대해 대칭을 이루는 점들에 대응하는 중심들을 가지는 두 개의 개구(132 : 제59도, 135 : 제60(a)도 및 제62(c)도)로 구성되는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  83. 제81항에 있어서, 상기 조리개는 상기 이차광원의 바로 뒤에 위치하는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  84. 제46항에 있어서, 상기 마스크에 미세패턴을 경사지게 입사시키는 수단은 조사시스템의 광원의 상에 대응하는 개구의 주변부분이 0.2 내지 0.6의 진폭투과도를 가지며 중심부는 제1의 진폭투과도를 가질 수 있게 설계된 필터(143 : 제67(a)도 및 제67(b)도를 조사광이 경사지게 입사되는 투영광학시스템의 개구스톱에 배치시킬 수 있게 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  85. 제84항에 있어서, 상기 조사시스템과 상기 필터는 상기 개구스톱에 집속되는 광원의 전체 상을, 상기 개구스톱의 위치에 배치된 상기 필터의 주변부가 0.2 내지 0.6의 투과도를 갖게 되어 있는 영역과 일치시킬 수 있게 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  86. 제46항에 있어서, 입사동의 반경이 상기 투영렌즈의 개구칫수로 표준화되어 1로 정해질 때, 조사광이 경사지게 입사되는 투영광학시스템의 개구스톱에 집속되는 광선들은 내측반경 및 외측반경을 가지는 환형광원으로 구성되고, 상기 투영 광학시스템의 개구스톱에는 그에 집속되는 광선들의 상의 내측반경과 동일한 내측반경 및 1의 외측반경을 갖는 0번째광강도조정필터가 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  87. 제86항에 있어서, 상기 환형광원의 내측 및 외측반경들이 각각 R1및 R2로 정해지고, 상기 내측반경은 R1＞0.5를 만족하고, 상기 외경은 R2≤1을 만족하는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  88. 제86항에 있어서, 상기 0번째 광강도조정필터는 0.2〈T〈1의 조건을 만족하는 진폭투과도 T를 갖는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  89. 제86항에 있어서, 상기 환형광원의 내측 및 외측반경이 각각 R1및 R2로 정해질 때, 상기 0번째 광강도조정필터의 내측반경 R1으로 부터 외측반경 R2까지의 부분이 내측반경 R2까지의 부분이 내측반경 R2로 부터의 1의 외경까지의 부분의 진폭투과도와는 다른 진폭투과도를 갖는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  90. 제46항에 있어서, 상기 광원은 조사광이 광축에 대해 수직을 이루는 평면에서 보았을 때 광축에 대해 대칭을 이루는 4방향으로 4개의 부분환형광원들로 부터 나오는 광선들로 구성될 수있게 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
  91. 제46항에 있어서, 상기 마스크는 일면에 소정의 패턴을 갖는 불투명영역을 가지는 마스크기판으로 구성되고, 상기 불투명영역은 패턴형태에 따라 설정된 투과도를 가지고 있고, 그 불투명영역을 통과하는 광이 투명영역을 통과하는 광으로 부터 1/2파장의 위상차를 가질 수 있는 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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