KR100450556B1 - 투사형-마이크로리소그래피장치용조명장치 - Google Patents

투사형-마이크로리소그래피장치용조명장치 Download PDF

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Abstract

레이저 (1) 와 대물 렌즈 (2) 를 가진 투사형-마이크로리소그래피 장치용 조명 장치에 있어서, 이 대물 렌즈 (2) 의 대물 렌즈 면 및 유출 개구판에 또는 이 조명 장치의 그에 상당하는 평면에 이차원 라스터 구조를 가진 광 라스터 엘리먼트 (8, 9) 가 각각 배열되어 있다.
상기 광도파값의 매칭의 향상 및 라이트 빔 형상, 예를 들어 원형, 링형, 4 극형상에 이용된다.
줌 - 또는 액시콘 - 대물렌즈 (2), 및 유리봉 (5) 을 가진 조합에 적합하다.

Description

투사형-마이크로리소그래피 장치용 조명 장치
본 발명은 레이저와 대물렌즈를 가진 투사형-마이크로리소그래피 장치 (projection-microlithography-equipment) 용 조명 장치에 관한 것이다.
이러한 장치는, 예컨대 비공개된 특허 출원 DE-P 44 21 053 에 개시되어 있다.
마이크로리소그래피를 위한 광원으로서 레이저가 주로 이용되는데, 이는 협소한 띠의 광을 방출하기 때문이며, 엑시머 레이저의 경우에, 깊은 (deep) UV-범위에 있는 매우 작은 파장의 광을 방출하기 때문이다. 그러나 이의 시간 및 공간적인 코히어런시, 및 이 광빔의 작은 확산 및 작은 횡단면이 마이크로리소그래피를 위한 조명 장치의 경우에서의 상황에 매칭되지 않는다.
광 빔 횡단면에서 모사 작용을 하는 개별적인 광 엘리먼트에 의해 횡단면 및 확산이 변할 수 없다 - 상기 광도파값이 커질 수 없다 (비교. Young, M., Optics and Lasers, Berlin 1984, page 51, 및K., ABC of Optics, Hanau 1961, page 477f). 라그랑지-불변량 (Lagrange-Invariant) 이 상기 광도파값을 얻는 것과 함께 협소하게 이용된다 (비교. Young, a.a.O., page 50/51).
상기 광도파값을 증대시키기 위해, 분산 엘리먼트가 공지되어 있다. 이를 위해, 굴절, 반사 또는 회절하는, 통계적으로 정해진 마이크로 표면을 가진 산-무광택 유리판 (acid-frosted glass plate) 또는 수정 유리판이 일반적으로 이용된다. 이와 같은 분산판의 분산 프로필은 매우 강하게 중앙에서 강조되지만, 각도가 큰 경우 분배 테일 (distribution tail) 에서 상당한 에너지를 분배한다.
확산 확대 및 횡단면 확대가 있는, 목적이 되는 빔 분배는, UV - 및 DUV-범위에 대해 얻을 수 있는 렌즈 라스터로 얻을 수 있다. 수정으로 된 회절성 광 라스터 엘리먼트는 포토리소그래피를 통해 여러 가지 실시예로 제조될 수 있으며, 라스터 렌즈판을 대체할 수 있다.
EP 0 312 341에는 웨이퍼 스테퍼 (wafer-stepper), 투사형 대물 렌즈, 엑시머-레이저, 빔 형성 및 확대 광학 장치 및 다수의 렌즈 그룹으로 된 조명 시스템을 가지는 웨이퍼 노출 장치가 개시되어 있다. 이 노출 시스템의 유입 개구판 (entrance aperture plate) 및 그외 평면에서 확산을 만드는 2 개의 엘리먼트가 제공될 수 있다. 본 발명과 달리 상기 제 2 평면은 개구판 평면이 될 수 있고, 상기 양 엘리먼트는 분산 작용을 하는 실리콘-미소결정을 가지는 확률적 분산 디스크 (stochastical scattering disc) 이다. 또한 진동 거울이 제공된다.
이 전체는 공간적인 코히어런시의 감소에 이용된다. 웨이퍼 노출 장치를 위한 효과적인 광원의 확대를 통해 공간적인 코히어런시의 매칭의 중요성이 설명되었다.
상기 양 분산 디스크는 기형의 작용을 가질 수 없다. 줌, 액시콘 및 유리봉은 아직 설명되지 않았다. 집중식 플래토우-링 (plateau-rings) 들을 가진 블레이즈된 (blased) 전송 그리드 (transmission grid) 의 형태인, 라스터되지 않은 회절성 광 엘리먼트는 웨이브 프런트 (wave front) 의 수차의 보정을 위해 투사형 대물 렌즈의 개구판에 제공된다.
본 발명의 목적은, 웨이퍼-스테퍼 뿐만 아니라 웨이퍼-스캐너(wafer-scanner) 에 대해 선택적으로, 복합성이 적당할 경우 높은 효율로 광스폿의 적당한 형태를 갖는 상기 웨이퍼의 조명, 확산, 코히어런시 및 균일성을 형성하는 조명 장치를 제공하는데 있다.
상기 목적은 제 1 항의 특징을 가지는 조명 장치를 통해 달성된다. 레이저와 대물 렌즈를 가진 투사형-마이크로리소그래피 장치를 위한 조명 장치에 있어서 대물 렌즈 평면 및 이 대물 렌즈의 유출 개구판에 또는 이에 상당하는 평면에 이차원적인 라스터 구조를 가진 광 라스터 엘리먼트가 배열된다.
이와 같이 배열된 두 개의 라스터 엘리먼트에서 상기 레이저 광에 필요한 확산 확대는 상기 광 빔의 형성을 위해 이용되고, 이것은 또 다른 광 소자의 최상의 효율과 단순화된 형상을 가능하게 만든다.
바람직한 실시예는 종속항 2 내지 27의 대상이 된다.
특히 바람직한 실시예가 도면에 도시되어 있고, 본 발명의 상술을 위해 이용된다.
제 1 도는 동일 출원인의 공개되지 않은 출원 DE-P 44 21 053 에서 제 4d 도 {레이저 (1) 내지 제 2 의 회절성 광 엘리먼트(8)} 및 제 4c 도 (나머지 내지 레티클 (7)}의 조합으로서 도시되어 있다. 제 1 회절성 광 엘리먼트 (9) 및 상기 제 2 회절성 광 엘리먼트 (8) 와의 조화가 신규하다.
상기 레이저 (1) 는, EP 0 312 341 에서처럼, 마이크로리소그래피에서 깊은 (deep) 자외선 (DUV) 에 이용되는 248 nm 파장을 가지는 KrF-엑시머 레이저이다.
빔 확대기 (beam expander, 14) 는, 예를 들어 DE-A 41 24 311 에 따른 거울 장치 (mirror arrangement), 예를 들어 y = 35 ±10 mm, x = 10 ±5 mm 인 빔 횡단면의 코히어런시 감소 및 확대에 이용된다.
폐쇄부 (13) 는 상기 레이저 (1) 에 상응하는 펄스-제어 장치에 의해서도 대체될 수 있다.
제 1 회절성 광 라스터 엘리먼트 (9) 가 본 발명에 따라 제공되어 대물 렌즈 (2) 의 평면을 형성하며, 상기 제 2 회절성 광 라스터 엘리먼트 (8) 가 상기 대물 렌즈의 유출 개구판에 제공되어 있다.
커플링 광학 장치 (4) 는 유리봉 (5) 의 입구면 (5e) 으로 광을 전달한다. 이 유리봉은 수차례의 내부 반사를 통해 광을 혼합하고 균일화한다. 상기 유출면 (5a) 에서 바로 중간 필드 평면이 있고, 여기에 레티클-마스킹-시스템 (REMA, 51), 조절가능한 필드 블라인드 (field blind) 가 배열되어 있다. 렌즈 그룹 (61, 63, 65), 전환 거울 (64) 및 개구판 평면 (62) 을 가지는 대물 렌즈 (6) 가 이 레티클-마스킹-시스템 (51) 의 중간 필드 평면을 상기 레티클 (7) 에 모사한다.
이 조명 시스템은, 투사형 대물렌즈 및 조절가능한 웨이퍼-고정 장치와 함께 전자 부품의, 그러나 또한 회절성 광 엘리먼트 및 다른 마이크로 구조화 된 부재들의 마이크로리소그래피를 위한 투사형 노출 장치를 형성한다.
웨이퍼-스테퍼에서, 칩에 상응하는 구조화 된 전체 평면이, 일반적으로 임의의 종횡비, 예를 들어 1 : 1 내지 1 : 2, 특히 1 : 1.3 인 직사각형이 가능한 한 균일하게 그리고 가능한 한 가장자리가 선명하게 상기 레티클 (7) 에서 노출된다.
웨이퍼-스캐너에서, 협소한 띠, 즉 1 : 2 내지 1 : 8 의 종횡비를 가지는 직사각형이 상기 레티클 (7) 에서 노출되고, 스캐닝을 통해 칩의 상기 구조화된 전체 필드가 직렬로 노출된다. 이 경우에도 상기 노출은 극도로 균일하고, 가장자리가 선명하게 (스캐닝 방향에 대해 수직인 방향으로만) 구성된다.
예외의 경우에, 상기 노출된 평면의 다른 형태들도 상기 레티클 (7) 에서 가능하다. 이 레티클-마스킹-시스템 (51) 의 개구 및 상기 유리 봉(5) 의 횡단면이 필요한 형상에 정확하게 매칭된다.
상기 유리 봉 (5) 전면에 배열된 부재들 특히, 광 라스터 엘리먼트 (8, 9) 의 실시는, 상기 유입구 (5e) 가 가능한 한 균일한 효율 뿐만 아니라 최고의 효율로, 즉 이 유입구 (5e) 측면에서 상당한 광 손실 없이 노출되도록, 선택된다.
이를 위해 다음의 조치들이 이용된다.
상기 광 확대기 (14) 로부터 오는 평행한 라이트 빔은 직사각형의 횡단면과 θx = 1 mrad, θy = 3 mrad 의 비회전 대칭인 확산을 가지며 또한 제 1 회절성 라스터 엘리먼트 (9) 를 통해 상기 확산에서, 즉 광도파값 및 그의 형태에서 변경이 생기고, 거의 원형-, 링형상-, 또는 4 극 (quadruple) 조절이 생겨 상기 대물 렌즈 (2) 의 출구 개구판 역시 - 제 2 라스터 엘리먼트 (8) 의 지점에 - 상응하는 형태로 노출된다. 상기 제 1의 회절성 라스터 엘리먼트 (9) 의 개구는 예를 들어 NA = 0.025 이다.
대물렌즈 (2) 의 평면에서의 작은 확산은, 대물렌즈가 작은 렌즈 직경 및 이것으로 저렴하고 간단하게 얻을 수 있는 양호한 보정 및 양호한 줌 영역을 가지는 것을 허용할 수 있다. 이 회전 대칭 개구판을 통해 상기 렌즈 횡단면이 광 빔에 의해 양호하게 이용된다. 대물 렌즈 (2) 는 예를 들어 0.025 의 개구만이 필요하다.
DE 44 21 053 에 설명된 것처럼, 상기 대물 렌즈 (2) 는 집적된 액시콘 (Axicon) - 쌍 (21) 을 가진 줌 대물렌즈 (22) 이다. 이 초점 거리는 세배의 확대영역을 가지는 600 mm 내지 2000 mm 영역에 있으므로, 일반적으로 필요한 값 0.3 ≤ σ ≤ 0.9 를 가지는 병렬 코히어런트 노출이 이루어질 수 있다. 제 2 회절성 엘리먼트 (8) 에서 개구판 직경이 50 mm 내지 100 mm 에 있다.
상기 액시콘-쌍 (21) 을 조절하여 그에 매칭되는 링형 개구 노출을 조절할 수 있다. 부가의 블라인드 또는 상기 액시콘-쌍 (21) 의 특수한 피라미드 형상을 통해 다극, 특히 4 극 - 노출이 만들어질 수 있다.
이 대물렌즈 (2) 는 DE 44 21 053 에 설명된 예에 비해 작은 개구를 통해 단순화된다. 게다가 상기 대물 렌즈 (2) 는 집광 렌즈인데, 2 차 광원으로서 상기 제 1 라스터 엘리먼트 (9) 가 초점 평면에 있고, 제 2 라스터 엘리먼트 (8) 가 평행빔 (화상 폭∞) 안에 있기 때문이다. 이 액시콘 - 쌍 (21) 역시 상기 평행빔 안에 배열되어 있다.
상기 제 2 라스터 엘리먼트 (8) 는 개별 각도의 확산을 가져오며, 더 정확하게는 상기 유리봉 (5) 의 유입면 (5e) 의 종횡비에 상응하는, 즉 예를 들어 1 : 1.3 의 웨이퍼-스테퍼를 위한 종횡비를 가지는 직사각형이 된다.
따라서, 상기 만들어진 확산 분포는, 상기 제 2 광 엘리먼트 (8) 가 배열되어 있는 개구판 중간면에서 커플링 광학 장치 (4) 를 통해 상기 유리봉 (5) 의 유입면 (5e) 에 필드 분배로서 전달되고, 이것은 정확하게 상기 유입면 (5e) 의 형상과 크기에 상응한다.
상기 제 1 라스터 엘리먼트 (9) 의 특히 유리한 실시를 위해 제 2 도에는 이차원 라스터의 엘리먼트 (91) 가 도시되어 있다. 이 엘리먼트 (91) 는 6 각형인데,만들려고하는 회전 대칭 확산 분배에 가장 잘 상응되기 때문이고, 또한 그것은 일반적으로 r = 1 mm 의 측면 간격을 갖는다.
이 엘리먼트 (91) 는 벌집 형상으로 이차원 라스터 엘리먼트 (9) 로 조립된다. 상기 생기는 회절 샘플은 0.014˚에 상응하게, 주기성 람다 / r = 2.48ㆍ10-4를 레이저 파장 람다 = 248 nm 와 함께 갖는다. 그러므로 간섭 샘플로 인한 장애는 발생하지 않는데, 들어오는 레이저 빔이 밀리미터 아래의 코히어런시와 큰 단위만큼 더 큰 확산을 갖는다.
상기 라스터 엘리먼트 (91) 는 회절하는 오목한 프레넬 렌즈이다. 이것은 두께 (π/4)ㆍ람다 를 가지는 8 개의 링 형상의 스테이지 (911-914ff) 를 갖는다. 이것은 1 ㎛ 의 최소 구조 폭으로 포토리소그래피와 에칭을 통해 만들어진다.
이 엘리먼트 (91) 의 개구는 NA = 0.025 일 뿐이다. 다수의 엘리먼트가 직사각형의 회절성 광 라스터 엘리먼트 (9) 로 조립되고, 이것은 도달하는 레이저 빔의 횡단면 전체를 커버한다. 상기 회절 각도는 80% 이상 이다.
이 대물 렌즈 (2) 의 유출 개구판에, 즉 상기 제 2 회절성 광 라스터 엘리먼트 (8) 의 위치에 도달한 방사 방향 강도 분배는 횡단면으로서 볼 때 직사각형에 거의 가깝다. 가장자리 경사면은 연속적이고 가파르며, 폭의 0.9 배 이상 특히, 0.95 배 이상일 때 50 % - 포인트를 갖는다. 그사이에 상기 강도 진행은 균일하며, 회전 대칭 웨이브가 ± 5% 이하이며, 상기 레이저 (1) 의 확산과 코히어런시에 의존한다.
상기 제 2 회절성 광 라스터 엘리먼트 (8) 는 심하게 일그러진 효과를 가지는 50 내지 100 mm 의 디스크이다. 이것은 회전 대칭 구조를 갖는 이차원적으로 병렬된 직사각형 엘리먼트 (81) 로 구성된다. 그중 하나가 제 3a 도에 도시되어 있다. 종횡비 x/y 는 상기 유리봉 (5) 의 유입면 (5e) 및 레티클 (7) 에 비춰진 면, 여기서는 x = 1.5mm, y = 2 mm 의 종횡비에 상응한다. 상기 엘리먼트 (91) 에 대한 정보 역시 엘리먼트 (81) 의 크기에 적용된다. 또한 이 엘리먼트 (81) 의 수는 0.3 내지 0.9 의 코히어런시 σ 의 분배가 장애 효과 없이 남도록 정해진다.
상기 엘리먼트 (81) 역시 약 10.5 mm 의 음의 초점 거리를 가지는 회절성 프레넬-렌즈 엘리먼트이다. 이것은 3 개와 링 (811 내지 81i) 에서 0 내지 6π x 람다의 연속적인 두께 변화를 가지는 회색 렌즈 (grey ton-lens) 로서 제조된다. 비교, 제 3b 도는 x-방향으로 제 3a 도의 횡단면을 나타낸다.
상기 만들어진 확산은 상기 유리봉 (5) 의 유입면 (5e) 의 종횡비에 상응한 x/y 종횡비를 가지는 0.5˚ 내지 7˚에 있다.
이와 달리, 상기 엘리먼트 (81)는, 제 3c 도에 도시된 것처럼, 이진의 회절성 위상프로필-렌즈로서 이루어질 수 있는, 즉 단위 높이 πㆍ람다의 그러나 서로 다른 폭의, 그리고 다른 간격을 가지는 웨브(web) (821-82i) 만이 회절성 구조로서 제공된다. 더 작은 구조폭의 문제가 더 작은 에칭 깊이의 장점에 상반된다.
제 1 도에 따른 장치에서, 제 2 의 회절성 광 라스터 엘리먼트 (8) 전체가 이 유리봉 (5) 의 유입면 (5e) 에서 균일한 강도 분배를 가져오며, 이것은, 제 1 회절성 라스터 엘리먼트 (9) 에 의해 각인된 상기 라스터 엘리먼트 (8) 의 유입측에서의 강도 분배처럼, 플래토우 (plateau) 영역에서의 에지 경사 및 파도 형상을 가지는 거의 직사각형을 x- 및 y- 방향으로 갖는다.
이 균일한 강도 분배에서 다음의 광 시스템의 특히, 유리봉의 매우 높은 빔 하중이 생길 수 있는데, 모든 재료 횡단면이 균일하고 유해 강도 피크없이 방출되기 때문이다.
예에 도시된 회절성 광 라스터 엘리먼트와 달리, UV-고체, 특히 수정으로 이루어진 굴절성 렌즈 라스터도 이용될 수 있다.
제 1 도는 본 발명에 따른 조명 장치에 대한 개략도.
제 2 도는 회절성 광 엘리먼트의 라스터 엘리먼트를 도시한 도면.
제 3a 도는 제 2 의 회절성 광 엘리먼트의 라스터 엘리먼트를 도시한 도면.
제 3b 도는 제 3a 도에 따른 회절성 라스터 엘리먼트의 위상 프로필을 도시한 도면.
제 3c 도는 다른 이진 (binary) 의 회절성 광 엘리먼트의 위상 프로필을 도시한 도면.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
1 : 레이저 2, 6 : 대물 렌즈
4 : 커플링 광학 장치 7 : 레티클
8 : 제 2 회절성 광 엘리먼트 9 : 제 1 회절성 광 엘리먼트

Claims (27)

  1. 레이저 (1) 와 대물 렌즈 (2) 를 가진 투사형-마이크로리소그래피 장치용 조명 장치에 있어서,
    이 대물 렌즈 (2) 의 대물 렌즈 평면 및 유출 개구판에 또는 이 조명 장치의 그에 상당하는 평면에, 이차원 라스터 구조를 가지고 회절성 엘리먼트의 이차원 배열로 이루어진 광 라스터 엘리먼트 (8, 9) 가 각각 배열되어 있는 것을 특징으로 하는 조명 장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 광 라스터 엘리먼트 (9) 가 레이저 (1, 14) 로부터 오는 라이트 빔의 직사각형 확산분배를 원형-, 링형-, 또는 4 극 형상의 출력측 확산 분배로 변형시키는 것을 특징으로 하는 조명 장치.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 제 2 광 라스터 엘리먼트 (8) 가 방향 의존적인 확산을 만드는 것을 특징으로 하는 조명 장치.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 제 1 광 라스터 엘리먼트 (9) 의 상기 출력측 확산 분배가 협소해 상기 대물 렌즈 (2) 가 0.1 보다 작은, 바람직하게는 0.03 보다 작은 개구만을 필요로 하는 것을 특징으로 하는 조명 장치.
  5. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 제 2 광 라스터 엘리먼트 (8) 는, 상기 조명 장치의 개구판에 대해 제한 평면이 되는 상기 대물 렌즈 (2) 의 유출 개구판에 배열되어 있고, 확산을 여러배 높이는 것을 특징으로 하는 조명 장치.
  6. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 제 2 광 라스터 엘리먼트 (8) 는 확산 분포를 기형으로 변형시키므로, 이 노출 장치의 조명 필드 (5e) 가 직사각형인 것을 특징으로 하는 조명 장치.
  7. 제 6 항에 있어서, 상기 직사각형 필드의 종횡비가 1 : 1 내지 1 : 2 의 범위에 있고, 이 장치가 웨이퍼-스테퍼에 적합한 것을 특징으로 하는 조명 장치.
  8. 제 6 항에 있어서, 상기 종횡비가 1 : 2 내지 1 : 8 의 범위에 있고, 상기 장치가 웨이퍼-스캐너에도 적합한 것을 특징으로 하는 조명 장치.
  9. 제 1 항에 있어서, 상기 대물 렌즈 (2) 가 줌-대물 렌즈, 특히 2 내지 4 배 줌인 것을 특징으로 하는 조명 장치.
  10. 제 1 항에 있어서, 상기 대물 렌즈가 조절가능한 액시콘-쌍 (21) 을 포함하며, 이에 의해 선택적으로 링형상 조명이 형성되는 것을 특징으로 하는 조명 장치.
  11. 제 1 항에 있어서, 상기 대물 렌즈 (2) 는 줌-대물렌즈, 특히 2 내지 4 배의 줌이며, 또한 상기 대물 렌즈 (2) 는 조절 가능한 액시콘-쌍 (21) 을 포함하며, 이에 의해 선택적으로 링형상 조명이 형성되며, 상기 액시콘-쌍 (21) 및 줌-조정기 (22) 가 서로 각기 조절될 수 있는 것을 특징으로 하는 조명 장치.
  12. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 제 2 광 라스터 엘리먼트 (8) 뒤에 커플링 대물 렌즈 (4) 와 균일화된 유리봉 (5) 이 배열되고, 이 유리봉 (5) 의 횡단면이 상기 조명 장치의 비춰진 필드의 종횡비에 매칭되는 것을 특징으로 하는 조명 장치.
  13. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 레이저 (1) 와 상기 제 1 광 라스터 엘리먼트 (9) 사이에 거울 장치 (14) 가 제공되고, 이것은 빔 횡단면을 확대하고 코히어런시를 줄이는 것을 특징으로 하는 조명 장치.
  14. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 회절성 광 라스터 엘리먼트 (8, 9) 는 라스터에 배열된 다수의 위상 스테이지 프레넬 렌즈 (81, 91) 로 이루어지는 것을 특징으로 하는 조명 장치.
  15. 제 14 항에 있어서, 상기 위상스테이지-프레넬 렌즈 (81, 91) 는 가장자리 영역에서 8 개까지의 스테이지를 가지며, 중앙 영역에서 32 개까지의 스테이지를가지는 것을 특징으로 하는 조명 장치.
  16. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 회절성 엘리먼트는 순수 이진 광 엘리먼트인 것을 특징으로 하는 조명 장치.
  17. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 회절성 엘리먼트는 0.5 ㎛ 내지 1.5 ㎛ 의 최소 구조 폭을 가지며, 마이크로리소그래피에 의해 만들어지는 것을 특징으로 하는 조명 장치.
  18. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 회절성 광 라스터 엘리먼트 가 라스터에 배열된 준-연속적으로 구조화된 다수의 프레넬 렌즈로 이루어지는 것을 특징으로 하는 조명 장치.
  19. 제 18 항에 있어서, 상기 프레넬 렌즈는 그레이 스테이지 마스크로 마이크로리소그래피를 통해 만들어지는 것을 특징으로 하는 조명 장치.
  20. 제 14항에 있어서, 상기 라스터는 단위 1 mm 의 치수를 가지는 것을 특징으로 하는 조명 장치.
  21. 제 14항에 있어서, 상기 프레넬 렌즈 (81, 91)는 비주기성 위상 이동까지 이차원적으로 주기적으로 라스터에 배열되는 것을 특징으로 하는 조명 장치.
  22. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 광 라스터 엘리먼트 (8, 9) 는 음의 초점 폭을 가지는 것을 특징으로 하는 조명 장치.
  23. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 제 1 라스터 엘리먼트 (8) 가 원형, 링형, 또는 4 극형상의 광 분포를 만드는 것을 특징으로 하는 조명 장치.
  24. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 광 라스터 엘리먼트 (8, 9) 는 광도파값을 높이는 것을 특징으로 하는 조명 장치.
  25. 레이저 (1) 와 대물 렌즈 (2) 를 가진 투사형-마이크로리소그래피 장치용 조명 장치에 있어서,
    이 대물 렌즈 (2) 의 대물 렌즈 평면 및 유출 개구판에 또는 이 조명 장치의 그에 상당하는 평면에, 이차원 라스터 구조를 가지고 굴절성 마이크로 렌즈의 배열로 이루어진 광 라스터 엘리먼트 (8, 9) 가 각각 배열되어 있는 것을 특징으로 하는 조명 장치.
  26. 제 25 항에 있어서, 상기 마이크로 렌즈는 프레넬 렌즈인 것을 특징으로 하는 조명 장치.
  27. 레이저 (1) 와 대물 렌즈 (2) 를 가진 투사형-마이크로리소그래피 장치용 조명 장치에 있어서,
    이 대물 렌즈 (2) 의 대물 렌즈 평면 및 유출 개구판에 또는 이 조명 장치의 그에 상당하는 평면에, 이차원 라스터 구조를 가진 광 라스터 엘리먼트 (8, 9) 가 각각 배열되어 있고, 상기 제 2 광 라스터 엘리먼트 (8) 는 확산을 여러배 높이는 것을 특징으로 하는 조명 장치.
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