-
Die
Erfindung betrifft eine Beleuchtungsoptik für die Mikrolithografie
zur Ausleuchtung eines Objektfelds
- – mit
einem für Beleuchtungslicht durchlässigen optischen
Stab mit stirnseitigen Ein- und Austrittsflächen, der derart
ausgestaltet ist, dass das Beleuchtungslicht an Mantelwänden
des Stabes durch mehrfache innere Totalreflexion gemischt und homogenisiert
wird,
- – mit einem vor dem Stab angeordneten optischen Beleuchtungswinkel-Vorgabeelement
zur Vorgabe einer Beleuchtungswinkelverteilung über das
Objektfeld über eine Winkelbeeinflussung des Beleuchtungslichts
derart, dass in einer dem optischen Beleuchtungswinkel-Vorgabeelement nachfolgenden
Pupillenebene der Beleuchtungsoptik, die vor dem Stab angeordnet
ist, eine vorgegebene Intensitätsverteilung vorliegt.
-
-
Soweit
bei den bekannten Beleuchtungsoptiken das Beleuchtungswinkel-Vorgabeelement
vor dem Stab angeordnet ist, sind die einstellbaren Beleuchtungswinkelverteilungen
auf Settings beschränkt, die zu Spiegelsymmetrieebenen
symmetrisch sind, die von den Seitenhalbierenden der Ein- bzw. Austrittsfläche
des Stabes definiert sind. Bestimmte anspruchsvolle Beleuchtungsaufgaben
können mit diesen Settings nicht realisiert werden.
-
Es
ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Beleuchtungsoptik
der eingangs genannten Art derart weiterzubilden, dass auch von
der durch den Stab erzwungenen Symmetrie abweichende Beleuchtungssettings
realisiert werden können.
-
Diese
Aufgabe ist erfindungsgemäß gelöst durch
eine Beleuchtungsoptik der eingangs genannten Art mit mindestens
einem Filter, der mindestens einen Filter aufweist, der in oder
nahe einer weiteren Pupillenebene der Beleuchtungsoptik, die nach
dem Stab angeordnet ist, zum selektiven Abschwächen von
Anteilen des Beleuchtungslichts angeordnet ist.
-
Erfindungsgemäß wurde
erkannt, dass es auch trotz der Verwendung eines optischen Stabes möglich
ist, nach dem Stab ein von der durch den Stab erzwungenen Symmetrie
abweichendes Beleuchtungssetting einzustellen. Es wurde darüber
hinaus erkannt, dass die durch den Einsatz eines Stabes erreichten
Vorteile bei der Mischung und Homogenisierung des Beleuchtungslichts
die Nachteile überwiegen, die durch eine nachträgliche
Schwächung des Beleuchtungslichts resultieren. Überraschend
hat sich herausgestellt, dass die Verwendung eines Stabes mit einem
nachgeordneten Filter trotz des Lichtverlustes am Filter zu einer
qualitativ hochwertigen und praktisch beliebig einstellbaren Beleuchtungswinkelverteilung
führt, sodass auch sehr anspruchsvolle Beleuchtungsaufgaben
realisiert werden können. Derartige Beleuchtungsaufgaben
ergeben sich beispielsweise bei der Herstellung von DRAMs insbesondere
dann, wenn ein verkipptes Liniengitter abgebildet werden soll.
-
Der
Filter kann mindestens eine Blende zum selektiven Blocken von Beleuchtungslichtanteilen aufweisen.
Ein Filter mit mindestens einer Blende zum selektiven Blocken von
Beleuchtungslichtanteilen ist einfach realisierbar.
-
Der
Filter kann einen Polarisationsfilter aufweisen. Ein solcher Polarisationsfilter
erlaubt eine Polarisationsanpassung des Beleuchtungslichts. Der Polarisationsfilter
kann eine lineare Polarisation erzeugen. Bei dieser kann es sich
beispielsweise um eine tangentiale Polarisation und insbesondere
um eine Polarisation senkrecht zu einer Dipolachse handeln.
-
Der
Polarisationsfilter kann als Dünnschichtpolarisator ausgeführt
sein. Ein solcher Dünnschichtpolarisator erlaubt eine hoch
effiziente Erzeugung polarisierten Beleuchtungslichts.
-
Der
Filter kann in eine gerade Anzahl von separaten Filterabschnitten
unterteilt sein. Eine gerade Anzahl von separaten Filterabschnitten
erlaubt eine Erzeugung beispielsweise eines Dipolsettings aus einer
Quadrupol-Verteilung nach dem Stab oder auch die Erzeugung eines
rotierten Quadrupol-Settings aus einer Multipol-Verteilung.
-
Das
optische Beleuchtungswinkel-Vorgabeelement kann als diffraktives
optisches Element ausgeführt sein. Ein diffraktives optisches
Element erlaubt eine gezielte Vorgabe insbesondere mehrpoliger Beleuchtungssettings
mit geringen Lichtverlusten. Auch eine mikrooptische Ausführung
des optischen Beleuchtungswinkel-Vorgabeelements ist möglich.
Dem optischen Beleuchtungswinkel-Vorgabeelement kann eine Zoom-Optik
für das Beleuchtungslicht nachgeordnet sein. Durch die
Zoom-Optik, die beispielsweise über ein Zoom-Axicon herbeigeführt
werden kann, ist eine Vergrößerung der maximalen
Beleuchtungswinkel, die von der Beleuchtungsoptik zur Verfügung
gestellt werden können, möglich.
-
Zusätzlich
kann die Beleuchtungsoptik ein optisches Beleuchtungsintensitäts-Vorgabeelement aufweisen,
das in oder nahe einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik angeordnet
ist. Ein solches Beleuchtungsintensitäts-Vorgabeelement
dient zur Vorgabe einer Beleuchtungsintensitätsverteilung über das
Objektfeld über eine Winkelbeeinflussung des Beleuchtungslichts.
Ein Beleuchtungsintensitäts-Vorgabeelement erlaubt eine
Anpassung eines Querschnitts eines Beleuchtungsstrahls an den Querschnitt
der Eintrittsfläche des optischen Stabes. Das Beleuchtungsintensitäts-Vorgabeelement
kann ebenfalls als diffraktives optisches Element ausgeführt
sein.
-
Das
optische Beleuchtungsintensitäts-Vorgabeelement kann als
Mikrolinsen-Array ausgeführt sein. Eine refraktive Ausführung
des Beleuchtungsintensitäts-Vorgabeelements erlaubt bei
moderaten Herstellungskosten eine ausreichend genaue Vorgabe der
Beleuchtungsintensitätsverteilung. Auch eine diffraktive
Ausführung des Beleuchtungsintensitäts-Vorgabeelements
ist möglich.
-
Mindestens
ein als Blende oder Graufilter ausgeführter Filter kann
auf einem Blenden-Wechselhalter angeordnet sein. Ein solcher Blenden-Wechselhalter
ermöglicht es, gesteuerte Wechsel gewünschter
Beleuchtungswinkelvorgaben, also gewünschter Beleuchtungssettings,
vorzunehmen. Soweit nur ein einziger Filter auf den Blenden-Wechselhalter
vorgesehen ist, ist ein Wechsel zwischen einem durch den Filter
abgeschwächten und einen durch den Filter nicht abgeschwächten
Beleuchtungszustand möglich.
-
Mindestens
ein als Polarisationsfilter ausgeführter Filter kann auf
einem weiteren Blenden-Wechselhalter angeordnet sein. Ein solcher
weiterer Blenden-Wechselhalter erlaubt es, eine Polarisationseinstellung
unabhängig von einer Intensitätsvorgabe in der
Pupillenebene, in der der Filter wirksam ist, vorzunehmen. Dies
vergrößert bei einer gegebenen Anzahl von Filtern
die Kombinationsmöglichkeiten bei der Settingvorgabe. Alternativ
zu der Ausgestaltung, bei der ein Grauwert-Setting und ein Polarisations-Setting
mit unabhängigen Blenden-Wechselhaltern erreicht wird,
ist es auch möglich, Blenden oder Graufilter einerseits
und Polarisationsfilter andererseits auf ein und demselben Blenden-Wechselhalter
unterzubringen. Soweit genau ein Polarisationsfilter auf den Blenden-Wechselhalter vorgesehen
ist, ist beispielsweise ein Wechsel zwischen einem über
den Polarisationsfilter polarisierten und einem über diesen
nicht polarisierten Beleuchtungszustand möglich.
-
Die
Vorteile eines Beleuchtungssystems mit einer erfindungsgemäßen
Beleuchtungsoptik und einer Lichtquelle sowie die Vorteile einer
Projektionsbelichtungsanlage mit einem erfindungsgemäßen Beleuchtungssystem,
einem Retikelhalter zum Halten eines Retikels in einer Objektebene,
einem Projektionsobjektiv zur Abbildung des Objektfelds in ein Bildfeld
in einer Bildebene und mit einem Waferhalter zum Halten eines Wafers
in der Bildebene entsprechen denen, die vorstehend unter Bezugnahme
auf die erfindungsgemäße Beleuchtungsoptik bereits
erläutert wurden.
-
Ausführungsbeispiele
der Erfindung werden nachfolgend anhand der Zeichnung näher
erläutert. In dieser zeigen:
-
1 eine
schematische Übersicht einer Mikrolithografie-Projektionsbelichtungsanlage
in einem Meridionalschnitt;
-
2 stärker
schematisch als 1 und ebenfalls in einem Meridionalschnitt
Komponenten einer Beleuchtungsoptik der Mikrolithografie-Projektionsbelichtungsanlage
zur Veranschaulichung der Wirkung eines pupillendefinierenden diffraktiven
optischen Elements sowie eines optischen Stabes auf eine Beleuchtungswinkelverteilung,
die durch die Beleuchtungsoptik in einer Objektebene erzeugt wird;
-
3 in
einer zu 2 ähnlichen Darstellung
die Wirkung eines Filters mit zwei Blendenabschnitten in einer dem
optischen Stab nachgeordneten Pupillenebene;
-
4 in
einer zur 3 ähnlichen Darstellung
die Wirkung einer weiteren Ausführung eines Filters mit
zwei Blendenabschnitten und zwei Polarisationsfilterabschnitten
in der dem Stab nachgeordneten Pupillenebene;
-
5 in
einer zu 3 ähnlichen Darstellung
eine alternative Beleuchtungsoptik mit einer weiteren Ausführung
eines pupillendefinierenden diffraktiven optischen Elements sowie
einer weiteren Ausführung eines in der dem optischen Stab
nachgeordneten Pupillenebene angeordneten Filters mit vier Blendenabschnitten;
und
-
6 in
einer zu 1 ähnlichen Darstellung
eine Projektionsbelichtungsanlage mit zwei Blenden-Wechselhaltern,
die in bzw. nahe einer Pupillenebene angeordnet sind, die dem Stab
nachgeordnet ist.
-
Eine
Mikrolithografie-Projektionsbelichtungsanlage 1 hat ein
Beleuchtungssystem mit einer Beleuchtungsoptik 2 zur Ausleuchtung
eines definierten Beleuchtungs- bzw. Objektfelds 3 am Ort
eines Retikels 4, welches eine für die Produktion
mikrostrukturierter bzw. mikroelektronischer Halbleiterbauelemente
zu projizierende Vorlage darstellt. Das Retikel 4 wird
von einem nicht dargestellten Retikelhalter gehalten.
-
Als
Lichtquelle 5 für das Beleuchtungssystem dient
ein Laser im tiefen Ultraviolett (DUV). Hierbei kann es sich um
einen ArF-Excimer-Laser handeln. Auch andere DUV-Quellen sind möglich.
-
Ein
Strahlaufweiter
6, beispielsweise eine aus der
DE-A 41 24 311 bekannte
Spiegelanordnung, dient zur Kohärenzreduktion und zur Erzeugung
eines aufgeweiteten, kolimierten, rechteckigen Querschnitts eines
Beleuchtungsstrahls
7.
-
Ein
erstes diffraktives optisches Rasterelement (DOE) 8 ist
in einer Objektebene eines Kondensors 9 angeordnet. Der
Kondensor 9 hat ein Axicon-Paar 10 und eine Linse 11 mit
positiver Brennweite. Der Abstand der Axicon-Elemente des Axicon-Paars 10 zueinander
sowie die Position der Linse 11 sind längs einer
optischen Achse 12 der Beleuchtungsoptik 2 verstellbar,
wie in der 1 durch Doppelpfeile 13, 14 angedeutet.
Der Kondensor 9 stellt daher eine Zoom-Optik dar.
-
In
einer Austritts-Pupillenebene 15 des Kondensors 9 ist
ein weiteres diffraktives optisches Rasterelement (DOE) 16 angeordnet.
Anstelle eines diffraktiven optischen Elements kann hier auch ein
refraktives optisches Rasterelement, insbesondere ein Mikrolinsen-Array,
zum Einsatz kommen.
-
Mit
dem ersten DOE 8 wird am Ort des zweiten DOE 16 eine
definierte Intensitätsverteilung in der Pupillenebene 15 eingestellt.
Hierdurch wird ein vorgegebenes sogenanntes Beleuchtungssetting,
also eine definierte Verteilung von Beleuchtungswinkeln über
das Objektfeld 3, erzeugt. Das erste DOE 8 stellt daher
ein Beleuchtungswinkel-Vorgabeelement zur Vorgabe einer Beleuchtungswinkelverteilung über das
Objektfeld 3 dar.
-
Eine
dem zweiten DOE 16 nachgeordnete Einkoppeloptik 17 überträgt
das Beleuchtungslicht auf eine Eintrittsfläche 18 eines
transparenten optischen Stabes in Form eines Glasstabes 19.
Der Stab 19 mischt und homogenisiert das Beleuchtungslicht durch
mehrfache innere Reflexion an den Mantelwänden des Stabs 19.
Unmittelbar an einer Austrittsfläche 20 des Stabs 19 liegt
eine Zwischenfeldebene, in der ein Retikel-Masking-System (REMA) 21,
eine verstellbare Feldblende, angeordnet ist.
-
Mit
dem zweiten DOE 16 wird die Querschnittssform des Beleuchtungsstrahls 7 an
die Rechteckform der Eintrittsfläche 18 des Stabs 19 angepasst.
Das zweite DOE 16 dient daher als Beleuchtungsintensitäts-Vorgabeelement
zur Vorgabe einer Beleuchtungsintensitätsverteilung über
das Objektfeld 3.
-
Dem
REMA 21 nachgeordnet ist ein Kondensor 22. In
einer Austritts-Pupillenebene 23 des Kondensors 22 ist
ein Blenden-Wechselhalter 24 mit einer Mehrzahl von Filtern
angeordnet, von denen in der 1 zwei Filter 25, 26 dargestellt
sind. Der Blenden-Wechselhalter 24 trägt die verschiedenen Filter
nach Art eines Filterkarussells. Zum Filterwechsel wird das Karussell
um eine Antriebswelle 27 eines Antriebsmotors 28 angetrieben,
der mit einer in der Zeichnung nicht dargestellten zentralen Steuereinrichtung
der Projektionsbelichtungsanlage 1 in Signalverbindung
steht. Die Filter des Blenden-Wechselhalters 24 sind in
eine gerade Anzahl von separaten Filterabschnitten unterteilt. Bei
den Filterabschnitten kann es sich um das Beleuchtungslicht vollständig blockende
Blenden, um das Beleuchtungslicht um einen vorgegebenen Anteil schwächende
Graufilter oder um das Beleuchtungslicht linear polarisierende Polarisationsfilter
handeln. Beispiele für die Filter 25, 26 werden
nachfolgend noch erläutert.
-
Der
dem Stab 19 nachgeordneten Pupillenebene 23 ist
ein weiterer Kondensor mit Linsengruppen 29, 30 nachgeordnet.
Zwischen den beiden Linsengruppen 29, 30 ist ein
90°-Umlenkspiegel 31 für das Beleuchtungslicht
angeordnet. Der Kondensor 22 sowie der weitere Kondensor
mit den beiden Linsengruppen 29, 30 bilden ein
Objektiv, das die Zwischenfeldebene des REMA 21 auf das
Retikel 4 abbildet. Die Pupillenebene 23 stellt
eine interne Pupillenebene dieses Objektivs dar.
-
Ein
Projektionsobjektiv 32 bildet das Objektfeld 3,
das in einer Objektebene 33 liegt, in ein Bildfeld 34 in
einer Bildebene 35 ab. Das Bildfeld 34 ist Teil
der Oberfläche eines zu belichtenden Wafers 36, der
mit einer für das Beleuchtungslicht empfindlichen Beschichtung
versehen ist. Der Wafer 36 wird von einem nicht dargestellten
Waferhalter gehalten. Bei der Projektionsbelichtung werden das Retikel 4 und
der Wafer 36 synchron zueinander gescannt. Auch eine intermittierende
Verlagerung des Retikels 4 und des Wafers 36,
ein sogenannter Stepper-Betrieb, ist möglich.
-
Die
verschiedenen bündelführenden bzw. bündelformenden
Komponenten der Projektionsbelichtungsanlage 1 sind mit
Ausnahme des Umlenkspiegels 31 als refraktive Komponenten
angedeutet. Genauso kann es sich auch um katadioptrische oder um
reflektive Komponenten handeln.
-
Anhand
der 2 bis 5 werden nachfolgend Varianten
von Beleuchtungsoptiken 2 näher erläutert.
Komponenten, die denjenigen entsprechen, die in Bezug auf bereits
beschriebene Ausführungen erläutert wurden, tragen
die gleichen Bezugsziffern und werden nicht nochmals im Einzelnen
diskutiert. Bei der schematischen Darstellung nach den 2 bis 5 ist
der Strahlengang des Beleuchtungsstrahls 7 nicht gefaltet
dargestellt.
-
2 zeigt
schematisch ein derartiges Beleuchtungssetting am Beispiel eines
Dipolsettings 37. Eine freie Apertur des Dipolsettings 37,
die von der Beleuchtungsoptik 2 prinzipiell in der Pupillenebene 15 ausgeleuchtet
werden kann, ist durch eine kreisförmige Berandung 38 angedeutet.
Beim Dipolsetting 37 liegt jeweils ein Intensitätsspot 39 im
I. und III. Quadranten innerhalb der Berandung 38 vor.
Die Intensitätsspots 39 sind schematisch als runde
Spots angedeutet. In der Praxis handelt es sich um ringsegmentförmig
um ein Zentrum 40 der Berandung 38 herum verlaufende
Intensitäts-Pole. Die einzelnen ringsegmentförmigen
Intensitätsspots haben einen Öffnungswinkel, gemessen
vom Zentrum 40 aus, von 35°, wobei die Intensitätsspots
nicht zentrisch in den Quadranten liegen, sondern etwa um 5° im
Uhrzeigersinn verkippt zu einer zentrischen Anordnung.
-
Aufgrund
der mischenden und homogenisierenden Wirkung des Stabs 19 ergibt
sich in der dem Stab 19 nachgeordneten Pupillenebene 23 ein
in der 2 unten rechts dargestelltes Quadrupolsetting 41 mit
Intensitätsspots 39 jeweils in einem der vier Quadranten
der Berandung 38.
-
Im
Unterschied zur Darstellung der Optiken in der Zeichnung, die jeweils
im Meridionalschnitt erfolgt, ist die Darstellung der Settings jeweils
so, dass die Zeichenebene bei der Setting-Darstellung mit der jeweiligen
Pupillenebene zusammenfällt.
-
Die
integrierte Intensität der einzelnen Intensitätsspots 39 ist
beim Quadrupolsetting 41 etwa halb so groß wie
beim Dipolsetting 37. Das Quadrupolsetting 41 ist
zwangsläufig in Bezug auf die von den Seitenhalbierenden
der Ein- bzw. Austrittsflächen 18, 20 des
Stabs 19 definierte Spiegelsymmetrieebenen symmetrisch.
Eine erste dieser beiden Spiegelsymmetrieebenen stellt die mit der
Zeichenebene zusammenfallende Meridionalebene dar. Die zweite dieser Symmetrieebenen
enthält die optische Achse 12 und steht senkrecht
auf der Zeichenebene.
-
3 zeigt
die Anordnung nach 2, bei der einer der Filter
des Blenden-Wechselhalters 24, nämlich der Filter 25,
wirksam ist. Dieser in der 3 wirksame
Filter hat zwei Filterabschnitte 42, 43, die die
beiden Intensitätsspots 39 im II. und IV. Quadranten
der Berandung 38 in der Pupillenebene 23 blocken.
Nach der Pupillenebene 23 verbleibt also Beleuchtungslicht
der Intensitätsspots 39 des I. und III. Quadranten
der Berandung 38. Es resultiert ein Dipolsetting 44,
wie in der 3 unten rechts dargestellt.
Dieses Dipolsetting 44 entspricht, was die Beleuchtungsrichtungen
für das Retikel 4 angeht, dem Ausgangs-Dipolsetting 37 in
der Pupillenebene 15.
-
Das
gleiche Dipolsetting 44 wird erreicht mit einem alternativen
ersten DOE 8, welches nicht das Dipolsetting 37,
sondern ein Quadrupolsetting 41 erzeugt, wie in der 3 links
unten durch zwei zusätzliche gestrichelte Intensitätsspots 39' im
II. und IV. Quadranten der Berandung 38 angedeutet. Auch dann
resultiert in der Pupillenebene 23 nach dem Stab 19 zunächst
das Quadrupolsetting 41, aus dem durch die blockenden Filterabschnitte 42, 43 das
Dipolsetting 44 erzeugt wird. Die Filterabschnitte 42, 43 sorgen
also für ein Blocken der nicht gewünschten Intensitätsspots 39 im
II. und IV. Quadranten der Berandung 38 in der Pupillenebene 23 nach
dem Stab 19.
-
4 zeigt
eine weitere Filtervariante. Das DOE 8 ist dabei so ausgeführt,
dass in der Pupillenebene 15 vor dem Stab 19 zunächst
das Quadrupolsetting 41 erzeugt wird. Dieses Quadrupolsetting 41 ist
spiegelsymmetrisch nicht nur zu der Meridionalebene, die der Zeichenebene
entspricht, in der die Beleuchtungsoptik 2 nach 4 dargestellt
ist, sondern zusätzlich auch spiegelsymmetrisch zu der
Meridionalebene, die senkrecht auf der Zeichenebene der 4 steht
und die die optische Achse 12 enthält.
-
Mit
dem Blenden-Wechselhalter 24 wird nun ein Filter, beispielsweise
der Filter 26, in die Pupillenebene 23 nach dem
Stab 19 gestellt, bei dem wiederum zwei blockende Filterabschnitte 42, 43 im
II. und IV. Quadranten der Berandung 38 und zusätzlich zwei
Polarisationsfilterabschnitte 45, 46 zur Erzeugung
einer linearen Polarisation des Beleuchtungslichts der Intensitätsspots 39 im
I. und III. Quadranten der Berandung 38 vorliegen. Die
Polarisationsfilterabschnitte 45, 46 erzeugen
dabei eine in Bezug auf das Zentrum 40 tangentiale Polarisation
mit einem zu einer Dipolachse zwischen den beiden verbleibenden
Intensitätsspots 39 in etwa senkrechten Polarisationsvektor 47,
wie in der 4 rechts unten dargestellt.
Die Polarisationsfilterabschnitte 45, 46 sind als
Dünnschichtpolarisatoren ausgeführt.
-
5 zeigt
eine weitere Variante einer Beleuchtungsoptik 2 mit einer
weiteren Ausführung eines DOE 8 und einer weiteren
Ausführung eines Filters des Blenden-Wechselhalters 24 in
der dem Stab 19 nachgeordneten Pupillenebene 23.
-
Das
DOE 8 erzeugt bei der Ausführung nach 5 ein
Multipolsetting 48, wobei jeweils ein Intensitätsspot 39 in
einem der Oktanten der Berandung 38 in der Pupillenebene 15 angeordnet
ist. Auch das Mulitpolsetting 48 ist zur Meridionalebene
der 5 und gleichzeitig zu der Meridionalebene, die
auf der Zeichenebene der 5 senkrecht steht und die optische
Achse 12 enthält, spiegelsymmetrisch. Diese Oktanten
sind in der 5 links unten von O1 bis
O8 durchnummeriert. Ein entsprechendes Multipolsetting 48 mit
acht Intensitätsspots 39 entsteht dann nach dem
Stab 19.
-
Mithilfe
des weiteren Filters des Blenden-Wechselhalters 24, der
insgesamt vier Filterabschnitte 49 bis 52 aufweist,
werden vier der acht Intensitätsspots 39 geblockt.
Der Filterabschnitt 49 blockt dabei den Intensitätsspot
im Oktanten O2. Der Filterabschnitt 50 blockt
den Intensitätsspot 39 im Oktanten O4.
Der Filterabschnitt 51 blockt den Intensitätsspots 39 im
Oktanten O6. Der Filterabschnitt 52 blockt
den Intensitätsspot 39 im Oktanten O8.
Die Intensitätsspots 39 der verbleibenden Oktanten
werden ungehindert durchgelassen, sodass ein Quadrupolsetting 53 resultiert,
das in der 5 rechts unten dargestellt ist.
Gegenüber dem Quadrupolsetting 41 kann das Quadrupolsetting 53 angenähert
so verstanden werden, dass die Intensitätsspots 39 beim Quadrupolsetting 53 um
das Zentrum 40 der Berandung 38 um etwas mehr
als 45° entgegen dem Uhrzeigersinn verdreht sind. Tatsächlich
hat das Quadrupolsetting 53 verglichen mit dem Quadrupolsetting 41 gänzlich
andere symmetrische Eigenschaften. Die vier Intensitätsspots 39 sind
beim Quadrupolsetting 53 in Umfangsrichtung um das Zentrum 40 der
Berandung 38 gleich verteilt angeordnet. Eine derartige gleich
verteilte Anordnung in Umfangsrichtung liegt beim Quadrupolsetting 41 nicht
vor.
-
6 zeigt
eine Variante der Beleuchtungsoptik 1 nach 1 mit
zwei Blenden-Wechselhaltern. Komponenten, die denjenigen entsprechen,
die vorstehend unter Bezugnahme auf die 1 bis 5 bereits
erläutert wurden, tragen die gleichen Bezugsziffern und
werden nicht nochmals im Einzelnen diskutiert.
-
Zusätzlich
zum Blenden-Wechselhalter 24 hat die Beleuchtungsoptik 1 nach 6 einen
weiteren Blenden-Wechselhalter 54, der ebenfalls als Karussell-Wechselhalter
ausgeführt und um eine Karussell-Achse drehbar ist, die
mit der Wellenachse einer Antriebswelle 55 eines weiteren
Antriebsmotors 56 zusammenfällt. Der Antriebsmotor 56 steht
wiederum mit der zentralen Steuereinrichtung der Projektionsbelichtungsanlage 1 in
Signalverbindung. Der Blenden-Wechselhalter 54 hat ebenfalls
eine Mehrzahl von Filtern, von denen in der 6 Filter 57 und 58 dargestellt
sind.
-
Die
beiden Blenden-Wechselhalter 24, 54 können
Filter unterschiedlicher Funktion tragen, die jeweils zu Filterkombinationen
zusammengesetzt werden können. Einer der beiden Filter
dieser Filterkombinationen wird vom Blenden-Wechselhalter 24 und
der andere Filter der Filterkombination vom Blenden-Wechselhalter 54 bereitgestellt.
In der 6 ist beispielhaft eine Kombination der Filter 25 und 58 dargestellt,
die nahe der Pupillenebene 23 nach dem Stab 19 wirksam
sind. Beispielsweise kann der Blenden-Wechselhalter 24 Filter
tragen, die verschiedene Konfigurationen mit Graufilterabschnitten
unterschiedlicher Anzahl und Anordnung aufweisen. Entsprechend kann
der Blenden-Wechselhalter 54 eine Mehrzahl von Polarisationsfiltern
mit unterschiedlichen Konfigurationen verschiedener Anzahlen und Anordnungen
von Polarisationsfilterabschnitten aufweisen. Je nach dem gewünschten
Beleuchtungssetting wird dann einer der Graufilter, eingestellt über den
Blenden-Wechselhalter 24 und/oder einer der Polarisationsfilter,
eingestellt über den Blenden-Wechselhalter 54,
wirksam.
-
Bei
der mikrolithografischen Herstellung eines mikro- bzw. nanostrukturierten
Bauelements wird zunächst der Wafer 36 zumindest
abschnittsweise mit einer lichtempfindlichen Schicht beschichtet. Dann
wird eine Struktur auf dem Retikel 4 mit der Projektionsbelichtungsanlage 1 auf
den Wafer 36 projiziert. Sodann wird der belichtete Wafer 36 zur Ausbildung
des mikrostrukturierten Bauelements bearbeitet.
-
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
-
Diese Liste
der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert
erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information
des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen
Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt
keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
-
Zitierte Patentliteratur
-
- - DE 19520563
A1 [0002]
- - WO 2005/006079 A1 [0002]
- - WO 2003/046663 A2 [0002]
- - DE 102007055443 A [0002]
- - US 7209218 A [0002]
- - US 2003/0038931 A [0002]
- - US 6704092 A [0002]
- - JP 2007/27240 A [0002]
- - DE 4124311 A [0026]