KR970018342A - 매거진의 매거진 선반들을 위한 인덱서 및 그안에 내장된 웨이퍼형상으로 된 대상물 - Google Patents

매거진의 매거진 선반들을 위한 인덱서 및 그안에 내장된 웨이퍼형상으로 된 대상물 Download PDF

Info

Publication number
KR970018342A
KR970018342A KR1019960026827A KR19960026827A KR970018342A KR 970018342 A KR970018342 A KR 970018342A KR 1019960026827 A KR1019960026827 A KR 1019960026827A KR 19960026827 A KR19960026827 A KR 19960026827A KR 970018342 A KR970018342 A KR 970018342A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
magazine
objects
transmitter
receiver
sensor device
Prior art date
Application number
KR1019960026827A
Other languages
English (en)
Inventor
슐레안 휠커
슐츠 클라우스
Original Assignee
훨커 웸케
예놉틱 악틴게젤샤프트
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 훨커 웸케, 예놉틱 악틴게젤샤프트 filed Critical 훨커 웸케
Publication of KR970018342A publication Critical patent/KR970018342A/ko

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67259Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
    • H01L21/67265Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection of substrates stored in a container, a magazine, a carrier, a boat or the like
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67763Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
    • H01L21/67778Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading involving loading and unloading of wafers
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S414/00Material or article handling
    • Y10S414/10Associated with forming or dispersing groups of intersupporting articles, e.g. stacking patterns
    • Y10S414/113Nonconforming article diverted

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Packaging Of Annular Or Rod-Shaped Articles, Wearing Apparel, Cassettes, Or The Like (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Warehouses Or Storage Devices (AREA)
  • Sheets, Magazines, And Separation Thereof (AREA)

Abstract

매거진의 매거진 선반들과 그안에 들어 있는 웨이퍼형상의 대상물들에 대한 인덱서는 여러 가지의 표준화된 매거진과 웨이퍼 형식들 사이를 구별하는 것이 가능한 곳에서 모든 목적의 인덱스 작업에 의하여, 역시 다만 제거 및 장입의 하나의 측방에 개구를 갖고 있는 매거진들에 대하여도, 어떤 원하여진 그리고 미리 정해진 매거진 평면에서의 정확한 접근을 보증하는 목적을 가졌다. 이 발명에 따르면 이 매거진 선반과 매거진 형상의 대상물들은 광전자 센서장치에 의하여 탐지되며 이들중의 적어도 일부분은 거리측정시스템으로서 구성되어 있다. 이 발명은 특히 반도체와 마스크의 형태로 된 웨이퍼 형상의 대상물들을 처리하기 위하는 것과 같이 집적회로의 제조에 적용할 수 있다.

Description

매거진의 매거진 선반들을 위한 인덱서 및 그안에 내장된 웨이퍼형상으로 된 대상물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 부분적으로 단면으로 표시된 처리장치의 부분도.

Claims (10)

  1. 제1처리평면과 고정된 관계에 있는 기준평면에 관련하여 대상물들과 매거진들을 탐지하기 위한 광전자 센서장치를 가지며, 매거진과 그리고 제거 및 장입을 위한 제1처리평면은 웨이퍼 형상의 대상물의 가공을 위하여 서로에 관련하여 수직방향으로 조절할 수 있으며 매거진의 매거진 선반과 그안에 포함된 특히 반도체 웨이퍼들 및 마스크들과 같은 웨이퍼 형상의 대상물을 위한 인덱서에 있어서, 광전센서장치의 적어도 일부분은 거리측정시스템으로서 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 인덱서.
  2. 제1항에 있어서, 완전히 거리측정시스템으로서 구성된 센서장치는 매거진(11, 11′)의 개방측에 배열된 하나의 송신기(7,18)와 수신기(8,25)를 가지며 그 결과로 송신기(7,18)로부터 나오고 있는 측정광선다발(10,17)은기준평면(E-E)에 놓여 있는 그의 중앙의 광선을 가지고, 기준평면(E-E)에 관하여 매거진(11,11′)의 수직방향의 조정에 의하여 연속적으로 웨이퍼 형상의 대상물(12,16,22)과 자체 형성하는 돌출부들(13,21)을 탐지하며, 상기 대상물(12,16,22)과 돌출부들(13,21)은 송신기(7.18)에 관한 상이한 거리 때문에 서로로부터 구분할 수 있는 것을 특징으로 하는 인덱서.
  3. 제1항에 있어서, 광전자센서장치는 기준평면(E-E)에 매거진(11,11′)의 개방측에 배열된 송신기(18)와 수신기를 포함하는 거리측정시스템을 포함하며 매거진(11′)의 반대편에 개방된 측면에 배열된 추가적인 수신기(26)를 포함하며, 여기서 거리측정시스템은 자체형성하는 돌출부들(21)을 탐지하기 위하여 쓰이고 추가적인 수신기(26)는 대상물들(22)의 존재를 탐지하기 위하여 쓰이는 것을 특징으로 하는 인덱서.
  4. 제3항에 있어서, 송신기(18)로부터 나오고 있는 측정광선다발(17)은 수직방향 입사 방사선에 관하여 기준평면(E-E)에서 경사되어지기 위하여 대상물들(22)과 돌출부들(21)상에 향하여지고 있는 것을 특징으로 하는 인덱서.
  5. 제1항에 있어서, 광전자센서장치는 매거진(11′)의 개방측에 배열된 송신기(18)와 수신기(25)를 포함하는 거리측정시스템과 동일한 측방에 하나의 추가적인 송신기(27)와 그리고 매거진(11′)의 반대측 개방측에 배열된하나의 추가적인 수신기(28)를 포함하며, 여기서 거리측정시스템은 자체 형성하는 돌출부들(21)을 탄지하기 위하여 그리고 추가적인 수신기(28)는 대상물들(22)의 존재를 탐지하기 위하여 사용되는 것을 특징으로 하는 인덱서.
  6. 제5항에 있어서, 추가적인 송신기(27)로부터 나오고 있는 측정광선다발(29)은 수직방향의 입사방사선에 관련하여 기준평면(E-E)에서 경사되어지도록 대상물들(22)상에 향하여지는 것을 특징으로 하는 인덱서.
  7. 제4항 또는 제6항에 있어서, 추가적인 수신기(26,28)는 대상물들(22)이 나타나지 않은 때 매거진(11′)을 통과하는 직선에서 변동되지 않고 통과하는 측정광선다발(17,29)를 탐지하기 위하여 제공되는 것을 특징으로 하는 인덱서.
  8. 제4항 또는 제6항에 있어서, 추가적인 수신기(26,28)는 하나의 가장자리로부터 다른 가장자리에로 전면측에서 투명한 대상물(22)의 평면탄 효과에 의하여 치우쳐져 있는 측정광선다발(17,29)을 탐지하기 위하여 제공되는 것을 특징으로 하는 인덱서.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 거리측정시스템의 송신기(7,18)와 수신기(8,25)는 하나의 구조유니트 내에 결합되어 있는 것을 특징으로 하는 인덱서.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 복귀장치(33)는 매거진(11,11′)으로부터 돌출하고 있는 웨이퍼 형상의 대상물들(12,16,22)을 위치시키기 위하여 제1처리평면(H-H)에 평행한 제2처리 평면에 주워지며 복귀장치(33)의 작동은 하나의 가장자리로부터 다른 가장자리에로 전면측에서 불투명한 웨이퍼 형상의 대상물들(12,16,22)경우에 거리측정시스템의 센서신호치에 의존하는 것을 특징으로 하는 인덱서.
KR1019960026827A 1995-09-27 1996-07-03 매거진의 매거진 선반들을 위한 인덱서 및 그안에 내장된 웨이퍼형상으로 된 대상물 KR970018342A (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19535871A DE19535871C2 (de) 1995-09-27 1995-09-27 Indexer für Magazinfächer eines Magazins und darin enthaltene scheibenförmige Objekte
DE19535871.6 1995-09-27

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR970018342A true KR970018342A (ko) 1997-04-30

Family

ID=7773280

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019960026827A KR970018342A (ko) 1995-09-27 1996-07-03 매거진의 매거진 선반들을 위한 인덱서 및 그안에 내장된 웨이퍼형상으로 된 대상물

Country Status (8)

Country Link
US (1) US6419439B2 (ko)
EP (1) EP0766287B1 (ko)
JP (1) JP2824421B2 (ko)
KR (1) KR970018342A (ko)
AT (1) ATE204677T1 (ko)
DE (2) DE19535871C2 (ko)
SG (1) SG42417A1 (ko)
TW (1) TW377398B (ko)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19728478C2 (de) * 1997-07-03 2003-08-21 Brooks Pri Automation Germany Verfahren zur optoelektronischen Erkennung von scheibenförmigen Objekten unter Nutzung derer Stirnseiten
DE19752510B4 (de) * 1997-11-27 2005-11-24 Brooks Automation (Germany) Gmbh Einrichtung und Verfahren zur Erkennung und Unterscheidung geometrisch verschiedener Arten von fächerbildenden Auflagen in Kassetten und darauf abgelegten scheibenförmigen Objekten
WO1999038207A1 (fr) * 1998-01-27 1999-07-29 Nikon Corporation Procede et appareil de detection de tranche
TW469483B (en) * 1999-04-19 2001-12-21 Applied Materials Inc Method and apparatus for aligning a cassette
CA2387715C (en) * 2000-08-18 2009-03-24 Mitsubishi Chemical Corporation Process for producing styrene
US6630988B2 (en) * 2001-06-28 2003-10-07 Intel Corporation Reticle stop block apparatus and method
DE10143722C2 (de) * 2001-08-31 2003-07-03 Infineon Technologies Ag Verfahren und Vorrichtung zur Sortierung von Wafern
DE10250353B4 (de) * 2002-10-25 2008-04-30 Brooks Automation (Germany) Gmbh Einrichtung zur Detektion von übereinander mit einem bestimmten Abstand angeordneten Substraten
US6984839B2 (en) * 2002-11-22 2006-01-10 Tdk Corporation Wafer processing apparatus capable of mapping wafers
CN101253614B (zh) 2005-07-08 2011-02-02 埃塞斯特科技有限公司 工件支撑结构及其使用设备
TWI399823B (zh) * 2005-07-09 2013-06-21 Tec Sem Ag 用以存放基板之裝置
JP4863985B2 (ja) * 2007-12-20 2012-01-25 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
US20100034621A1 (en) * 2008-04-30 2010-02-11 Martin Raymond S End effector to substrate offset detection and correction
JP5185756B2 (ja) * 2008-10-01 2013-04-17 川崎重工業株式会社 基板検出装置および方法
JP6040883B2 (ja) 2012-12-25 2016-12-07 東京エレクトロン株式会社 基板搬送装置、基板搬送方法及び記憶媒体

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3930684A (en) * 1971-06-22 1976-01-06 Lasch Jr Cecil A Automatic wafer feeding and pre-alignment apparatus and method
US4983093A (en) * 1982-05-24 1991-01-08 Proconics International, Inc. Wafer transfer apparatus
US5280983A (en) * 1985-01-22 1994-01-25 Applied Materials, Inc. Semiconductor processing system with robotic autoloader and load lock
US4895486A (en) * 1987-05-15 1990-01-23 Roboptek, Inc. Wafer monitoring device
JPH0691152B2 (ja) * 1987-11-30 1994-11-14 富士電機株式会社 半導体ウエハ計数装置
JPH01248634A (ja) * 1988-03-30 1989-10-04 Nec Corp 半導体ウェハの搬出装置
JPH03160744A (ja) * 1989-11-17 1991-07-10 Hitachi Nakaseiki Ltd 半導体ウエハ収納装置及びこれを備えたウエハ搬送システム
JP2996491B2 (ja) * 1990-07-20 1999-12-27 東京エレクトロン株式会社 アーム式搬送装置
JPH04215454A (ja) * 1990-12-14 1992-08-06 Fujitsu Ltd ウエハ用カセットの姿勢制御機構
US5319216A (en) * 1991-07-26 1994-06-07 Tokyo Electron Limited Substrate detector with light emitting and receiving elements arranged in staggered fashion and a polarization filter
JPH0538761A (ja) 1991-08-06 1993-02-19 Sanyo Electric Co Ltd 光造形装置
JPH0538761U (ja) * 1991-10-25 1993-05-25 日新電機株式会社 基板検出装置
KR940006241A (ko) * 1992-06-05 1994-03-23 이노우에 아키라 기판이재장치 및 이재방법
US5605428A (en) * 1993-03-05 1997-02-25 Jenoptik Gmbh Device for indexing magazine compartments and wafer-shaped objects in the compartments
US5308993A (en) * 1993-03-28 1994-05-03 Avalon Engineering, Inc. Semiconductor wafer cassette mapper having dual vertical column of light emitting apertures and a single vertical column of light receiving apertures
US5642978A (en) 1993-03-29 1997-07-01 Jenoptik Gmbh Device for handling disk-shaped objects in a handling plane of a local clean room
DE4310149C2 (de) * 1993-03-29 1996-05-02 Jenoptik Jena Gmbh Einrichtung zur Handhabung von scheibenförmigen Objekten in einer Handhabungsebene eines lokalen Reinraumes
US5452078A (en) * 1993-06-17 1995-09-19 Ann F. Koo Method and apparatus for finding wafer index marks and centers
JPH0771929A (ja) * 1993-09-02 1995-03-17 Kokusai Electric Co Ltd ウェーハ位置検知方法及び縦型拡散・cvd装置
DE19728478C2 (de) * 1997-07-03 2003-08-21 Brooks Pri Automation Germany Verfahren zur optoelektronischen Erkennung von scheibenförmigen Objekten unter Nutzung derer Stirnseiten

Also Published As

Publication number Publication date
SG42417A1 (en) 1997-08-15
EP0766287A3 (de) 1998-03-11
US6419439B2 (en) 2002-07-16
DE19535871A1 (de) 1997-04-10
TW377398B (en) 1999-12-21
EP0766287A2 (de) 1997-04-02
JP2824421B2 (ja) 1998-11-11
US20010043850A1 (en) 2001-11-22
EP0766287B1 (de) 2001-08-22
DE19535871C2 (de) 2000-02-10
JPH0997826A (ja) 1997-04-08
ATE204677T1 (de) 2001-09-15
DE59607524D1 (de) 2001-09-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR970018342A (ko) 매거진의 매거진 선반들을 위한 인덱서 및 그안에 내장된 웨이퍼형상으로 된 대상물
US3814946A (en) Method of detecting defects in transparent and semitransparent bodies
EP1164536B1 (en) An apparatus for reading an optical code
TW347571B (en) Device for indexing magazine compartments and wafer-shaped objects in the compartments
CA2330793A1 (en) Container sealing surface area inspection
US6392247B1 (en) Sensor and detection system having wide diverging beam optics
US6900451B2 (en) Mapping sensor system for detecting positions of flat objects
FI74147C (fi) Anordning foer optisk kontroll av objekt.
CA2038334A1 (en) Apparatus and method for detecting the power level in single and multi-stripe integrated lasers
CA2435133A1 (en) Detection system
EP0284347B1 (en) A device for inspecting the degree of vacuum in a sealed vessel
JPS6371794A (ja) 透明カ−ド検出装置
US5142135A (en) Optical sensor projecting an image of the sensor for alignment purposes
US5177564A (en) Apparatus for measuring thickness of plate-shaped article
JPS5761905A (en) Measuring device of surface coarseness
JPS5825961B2 (ja) 果実そ菜等の形状選別装置
CN219737773U (zh) 高度测量装置及高度测量系统
JPH0613445Y2 (ja) 密封容器の真空度検査装置
JPS5636139A (en) Detecting method for substrate of semiconductor device
JPH0551180B2 (ko)
JPS54136888A (en) Surface defect detecting device
JPS6241129A (ja) ウエハ位置検出装置及び方法
JPS649304A (en) Height measuring apparatus
US6008890A (en) Positioning system for the arm of ore car turning equipment
US5569909A (en) Format recognition device for a film cassette

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application