JPH04215454A - ウエハ用カセットの姿勢制御機構 - Google Patents
ウエハ用カセットの姿勢制御機構Info
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- JPH04215454A JPH04215454A JP2402120A JP40212090A JPH04215454A JP H04215454 A JPH04215454 A JP H04215454A JP 2402120 A JP2402120 A JP 2402120A JP 40212090 A JP40212090 A JP 40212090A JP H04215454 A JPH04215454 A JP H04215454A
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- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 4
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Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体装置の製造装置，
とくに， カセットに収納されたウエハを逐一取り出
して処理する装置に関する。
とくに， カセットに収納されたウエハを逐一取り出
して処理する装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置の製造における自動化にとも
ない， ウエハをカセットに収納された状態で種々の処
理装置に供給する方法が採られている。第３図に示すよ
うに，通常， カセット１内には，ウエハ２が互いに平
行に収納されている。カセット１から逐一ウエハ２を取
り出して所定の処理を施したのち， 別のカセットに収
納するのであるが， この場合， ウエハ２が取り出し
または収納されるごとに，カセット１が載置された載置
台３を，図示しない昇降機構により移動して，カセット
１を上方または下方に所定ピッチだけ移動する。
ない， ウエハをカセットに収納された状態で種々の処
理装置に供給する方法が採られている。第３図に示すよ
うに，通常， カセット１内には，ウエハ２が互いに平
行に収納されている。カセット１から逐一ウエハ２を取
り出して所定の処理を施したのち， 別のカセットに収
納するのであるが， この場合， ウエハ２が取り出し
または収納されるごとに，カセット１が載置された載置
台３を，図示しない昇降機構により移動して，カセット
１を上方または下方に所定ピッチだけ移動する。
【０００３】カセット１からウエハ２を取り出すときの
昇降制御は， 従来， カセット１内におけるウエハ２
の間隔， すなわち， 配列ピッチごとにカセット１を
上昇（または下降）し， カセット１の背面側に設置さ
れた光センサ４によりウエハ２の端面が検出されたとき
に昇降を停止して取り出し待機状態とする。一方， カ
セット１へのウエハ２の収納時には， 初期状態をカセ
ット１が空と設定し， 以後， 取り出し時と同様に，
ウエハ２の配列ピッチごとにカセット１を上昇（また
は下降）する。
昇降制御は， 従来， カセット１内におけるウエハ２
の間隔， すなわち， 配列ピッチごとにカセット１を
上昇（または下降）し， カセット１の背面側に設置さ
れた光センサ４によりウエハ２の端面が検出されたとき
に昇降を停止して取り出し待機状態とする。一方， カ
セット１へのウエハ２の収納時には， 初期状態をカセ
ット１が空と設定し， 以後， 取り出し時と同様に，
ウエハ２の配列ピッチごとにカセット１を上昇（また
は下降）する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来のカセット昇降制
御は，上記のように，カセット１内におけるウエハ２の
有無の検出およびウエハ２の配列ピッチのみに基づいて
行われていた。したがって， カセット１内におけるウ
エハ２の実際の位置とカセットからウエハを取り出すた
めの機構との相対位置ずれ，または，ウエハ２を挿入す
るためにカセット１に設けられている溝の実際の位置と
カセット１内にウエハ２を収納する機構との相対位置ず
れが生じていても，これを修正することができなかった
。 その結果，ウエハ２の取り出しや収納に失敗したり，あ
るいは，カセット１とウエハ２との接触面に無理な力が
印加され，ウエハ２に塗布されているレジスト膜が剥離
する等の問題があった。前者は，その都度アラームが発
生され処理装置が停止するために，スループットの低下
につながる。また，後者は，剥離したレジスト膜が塵埃
となって被処理ウエハを汚染する原因となる。
御は，上記のように，カセット１内におけるウエハ２の
有無の検出およびウエハ２の配列ピッチのみに基づいて
行われていた。したがって， カセット１内におけるウ
エハ２の実際の位置とカセットからウエハを取り出すた
めの機構との相対位置ずれ，または，ウエハ２を挿入す
るためにカセット１に設けられている溝の実際の位置と
カセット１内にウエハ２を収納する機構との相対位置ず
れが生じていても，これを修正することができなかった
。 その結果，ウエハ２の取り出しや収納に失敗したり，あ
るいは，カセット１とウエハ２との接触面に無理な力が
印加され，ウエハ２に塗布されているレジスト膜が剥離
する等の問題があった。前者は，その都度アラームが発
生され処理装置が停止するために，スループットの低下
につながる。また，後者は，剥離したレジスト膜が塵埃
となって被処理ウエハを汚染する原因となる。
【０００５】本発明は，上記従来の問題点を解決し，カ
セットに対するウエハの取り出しおよび収納を確実にす
ることにより，処理工程のスループットの低下ならびに
レジスト膜の剥離による汚染を回避可能とすることを目
的とする。
セットに対するウエハの取り出しおよび収納を確実にす
ることにより，処理工程のスループットの低下ならびに
レジスト膜の剥離による汚染を回避可能とすることを目
的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的は，第１の昇降
機構によって上下される第１の載置台と， ウエハが収
納され且つ該ウエハが通過可能な取り出し面を有するカ
セットが載置され且つ該第１の載置台上に配置された第
２の載置台と， 該カセットの前記取り出し面の背面直
下に配置され且つ該第１の載置台と第２の載置台とを結
合する二軸回動機構と， 各々が該カセットの前記取り
出し面直下に配置され且つ該第１の載置台上に固定され
た固定部と該第２の載置台を支持する可動部とを有する
第２の昇降機構と， 該カセットの前記背面に対向して
配置され且つ前記背面に表出する前記ウエハの端面を検
出する第１の検出器と， 該第１の検出器と同一水平面
内に配置され且つ該カセットの前記取り出し面に表出す
る前記ウエハの端面を検出する第２の検出器と， 該第
２の昇降機構を停止した状態で該第１の昇降機構を作動
し，該第１の検出器によって前記ウエハの端面が検出さ
れたときに該第１の昇降機構を停止するとともに該第２
の検出器によって前記ウエハの端面が検出されるように
該第２の昇降機構を作動する制御装置とを具備して成る
本発明に係るウエハ用カセットの姿勢制御機構，または
，上下に移動可能に支持された第１の載置台と， ウエ
ハが収納される収納面を有するカセットが載置され且つ
該第１の載置台上に配置された第２の載置台と， 該カ
セットの両側面のそれぞれに該ウエハに対応して設けら
れた複数の開口と，該カセットの前記背面直下に配置さ
れ且つ該第１の載置台と第２の載置台とを結合する二軸
回動機構と， 各々が該カセットの前記収納面直下に配
置され且つ該第１の載置台上に固定された固定部と該第
２の載置台を支持する可動部とを有する昇降機構と，
該カセットの前記両側面に対向して配置され且つ前記開
口を通過する光ビームの照射および検出する光源および
検出器と， 該第１の載置台を停止した状態で該昇降機
構を作動し，該開口を通過する前記光ビームが該検出器
によって検出されたときに該昇降機構を停止する制御装
置とを具備して成る本発明に係るウエハ用カセットの姿
勢制御機構によって達成される。
機構によって上下される第１の載置台と， ウエハが収
納され且つ該ウエハが通過可能な取り出し面を有するカ
セットが載置され且つ該第１の載置台上に配置された第
２の載置台と， 該カセットの前記取り出し面の背面直
下に配置され且つ該第１の載置台と第２の載置台とを結
合する二軸回動機構と， 各々が該カセットの前記取り
出し面直下に配置され且つ該第１の載置台上に固定され
た固定部と該第２の載置台を支持する可動部とを有する
第２の昇降機構と， 該カセットの前記背面に対向して
配置され且つ前記背面に表出する前記ウエハの端面を検
出する第１の検出器と， 該第１の検出器と同一水平面
内に配置され且つ該カセットの前記取り出し面に表出す
る前記ウエハの端面を検出する第２の検出器と， 該第
２の昇降機構を停止した状態で該第１の昇降機構を作動
し，該第１の検出器によって前記ウエハの端面が検出さ
れたときに該第１の昇降機構を停止するとともに該第２
の検出器によって前記ウエハの端面が検出されるように
該第２の昇降機構を作動する制御装置とを具備して成る
本発明に係るウエハ用カセットの姿勢制御機構，または
，上下に移動可能に支持された第１の載置台と， ウエ
ハが収納される収納面を有するカセットが載置され且つ
該第１の載置台上に配置された第２の載置台と， 該カ
セットの両側面のそれぞれに該ウエハに対応して設けら
れた複数の開口と，該カセットの前記背面直下に配置さ
れ且つ該第１の載置台と第２の載置台とを結合する二軸
回動機構と， 各々が該カセットの前記収納面直下に配
置され且つ該第１の載置台上に固定された固定部と該第
２の載置台を支持する可動部とを有する昇降機構と，
該カセットの前記両側面に対向して配置され且つ前記開
口を通過する光ビームの照射および検出する光源および
検出器と， 該第１の載置台を停止した状態で該昇降機
構を作動し，該開口を通過する前記光ビームが該検出器
によって検出されたときに該昇降機構を停止する制御装
置とを具備して成る本発明に係るウエハ用カセットの姿
勢制御機構によって達成される。
【０００７】
【作用】カセットを上下方向に移動する第１の載置台上
に一つの二軸回動機構と互いに独立に作動可能なレベル
調整用の二つの昇降機構と，これらによってによって三
点支持される第２の載置台を設け，カセット内における
ウエハの配列ピッチずつに第１の載置台を移動させるご
とに，前記レベル調整用昇降機構によって，第２の載置
台上に載置されたカセット中のウエハまたはウエハを収
納しようとするカセットの姿勢を制御する。
に一つの二軸回動機構と互いに独立に作動可能なレベル
調整用の二つの昇降機構と，これらによってによって三
点支持される第２の載置台を設け，カセット内における
ウエハの配列ピッチずつに第１の載置台を移動させるご
とに，前記レベル調整用昇降機構によって，第２の載置
台上に載置されたカセット中のウエハまたはウエハを収
納しようとするカセットの姿勢を制御する。
【０００８】
【実施例】第１図は請求項１に記載の本発明の一実施例
を説明するための側面図（ａ） と正面図（ｂ） であ
って，例えばモータ１１と， これにより矢印Ａ方向に
移動する支持軸１２から成る昇降機構１０によって昇降
する載置台１４上には第２の載置台１６が配置されてお
り， 載置台１６上の所定位置に， カセット１が載置
される。二軸回動機構２１は， カセット１の背面（ウ
エハ２の取り出し面に対向する面）のほぼ直下に配置さ
れており， 載置台１４と１６とを結合している。第２
の昇降機構２２と第３の昇降機構２３とは， カセット
１の取り出し面のほぼ直下に， それぞれの固定部が載
置台１４に固定され， 可動部が載置台１６を支持する
ように配置されている。このように， 載置台１６は，
二軸回動機構２１と昇降機構２２および２３とによっ
て三点支持される。なお， 二軸回動機構２１としては
周知の自在継手を， また， 昇降機構２２および２３
としては周知のＺステージを用いることができる。
を説明するための側面図（ａ） と正面図（ｂ） であ
って，例えばモータ１１と， これにより矢印Ａ方向に
移動する支持軸１２から成る昇降機構１０によって昇降
する載置台１４上には第２の載置台１６が配置されてお
り， 載置台１６上の所定位置に， カセット１が載置
される。二軸回動機構２１は， カセット１の背面（ウ
エハ２の取り出し面に対向する面）のほぼ直下に配置さ
れており， 載置台１４と１６とを結合している。第２
の昇降機構２２と第３の昇降機構２３とは， カセット
１の取り出し面のほぼ直下に， それぞれの固定部が載
置台１４に固定され， 可動部が載置台１６を支持する
ように配置されている。このように， 載置台１６は，
二軸回動機構２１と昇降機構２２および２３とによっ
て三点支持される。なお， 二軸回動機構２１としては
周知の自在継手を， また， 昇降機構２２および２３
としては周知のＺステージを用いることができる。
【０００９】従来と同様に， カセット１の背面には，
ウエハ２の端面を検出するための光センサ４が配置さ
れている。本発明においては， さらに， カセット１
の取り出し面側に， 第１図（ｃ） の平面図に示すよ
うに， 第２および第３の光センサ２５および２６が配
置されている。光センサ４と光センサ２５および２６と
は， カセット１の移動とは関係なく， 空間的に固定
されている。光センサ４と光センサ２５および２６は，
所定の取り出し状態にあるウエハ２と同一平面， 一
般には水平面， 内に配置されていることが望ましい。 これは，これら光センサ相互間の高さずれに対する補正
を不要とし，制御を容易にするためである。また， 光
センサ２５および２６の配置には， 上記の他に， カ
セット１から取り出されるウエハ２の移動を妨げないよ
うに考慮することが必要である。
ウエハ２の端面を検出するための光センサ４が配置さ
れている。本発明においては， さらに， カセット１
の取り出し面側に， 第１図（ｃ） の平面図に示すよ
うに， 第２および第３の光センサ２５および２６が配
置されている。光センサ４と光センサ２５および２６と
は， カセット１の移動とは関係なく， 空間的に固定
されている。光センサ４と光センサ２５および２６は，
所定の取り出し状態にあるウエハ２と同一平面， 一
般には水平面， 内に配置されていることが望ましい。 これは，これら光センサ相互間の高さずれに対する補正
を不要とし，制御を容易にするためである。また， 光
センサ２５および２６の配置には， 上記の他に， カ
セット１から取り出されるウエハ２の移動を妨げないよ
うに考慮することが必要である。
【００１０】上記の構成によるウエハ２の姿勢制御を行
う制御装置（図示省略）は次のように動作はする。すな
わち， 従来と同様に， 昇降機構１０によりカセット
１を， 例えば下方に移動する。そして， 光センサ４
により， 例えばウエハ２１の端面が検出されたら，
昇降機構１０を停止する。次いで， 例えば昇降機構２
２により，載置台１６の支持点を上向きまたは下向きに
移動させ， 光センサ２５によりウエハ２１の端面が検
出されたら， 昇降機構２２を停止する。次いで， 昇
降機構２３により， 載置台１６の支持点を上向きまた
は下向きに移動させ， 光センサ２６により前記ウエハ
２１の端面が検出されたら， 昇降機構２３を停止する
。 上記における昇降機構２２および２３による載置台１６
の移動量は， カセット１内におけるウエハ２の配列ピ
ッチの１／２ 以下とし， この範囲内で載置台１６を
上下に移動させてウエハ２１の端面を検出するように設
定する。
う制御装置（図示省略）は次のように動作はする。すな
わち， 従来と同様に， 昇降機構１０によりカセット
１を， 例えば下方に移動する。そして， 光センサ４
により， 例えばウエハ２１の端面が検出されたら，
昇降機構１０を停止する。次いで， 例えば昇降機構２
２により，載置台１６の支持点を上向きまたは下向きに
移動させ， 光センサ２５によりウエハ２１の端面が検
出されたら， 昇降機構２２を停止する。次いで， 昇
降機構２３により， 載置台１６の支持点を上向きまた
は下向きに移動させ， 光センサ２６により前記ウエハ
２１の端面が検出されたら， 昇降機構２３を停止する
。 上記における昇降機構２２および２３による載置台１６
の移動量は， カセット１内におけるウエハ２の配列ピ
ッチの１／２ 以下とし， この範囲内で載置台１６を
上下に移動させてウエハ２１の端面を検出するように設
定する。
【００１１】上記のようにして， 取り出し位置に到達
するごとにカセット１内の各々のウエハ２は， 光セン
サ４と光センサ２５および２６によって決まる面， 一
般に水平面， 内に姿勢制御される。したがって， こ
れら光センサの配置される面の位置を， ウエハ２の取
り出し機構に対して最適化しておけば， カセット１か
らウエハ２を確実に取り出すことができ， また， カ
セット１とウエハ２との間の接触面に無理な力が加わる
ことを回避できる。なお， 光センサ４と光センサ２５
および２６は， 光源と， 光源からの光を射出する光
ファイバと， 被検出物体からの反射光を受光器に入射
させる光ファイバと受光器とが一体化された周知の光セ
ンサ（例えばキーエンス社製の型番ＦＵ−２２，サンク
ス社製の型番ＳＳ−ＦＤ１０ＳＲ，立石電機社製の型番
Ｅ３２−ＣＣ２００）等を用いればよい。
するごとにカセット１内の各々のウエハ２は， 光セン
サ４と光センサ２５および２６によって決まる面， 一
般に水平面， 内に姿勢制御される。したがって， こ
れら光センサの配置される面の位置を， ウエハ２の取
り出し機構に対して最適化しておけば， カセット１か
らウエハ２を確実に取り出すことができ， また， カ
セット１とウエハ２との間の接触面に無理な力が加わる
ことを回避できる。なお， 光センサ４と光センサ２５
および２６は， 光源と， 光源からの光を射出する光
ファイバと， 被検出物体からの反射光を受光器に入射
させる光ファイバと受光器とが一体化された周知の光セ
ンサ（例えばキーエンス社製の型番ＦＵ−２２，サンク
ス社製の型番ＳＳ−ＦＤ１０ＳＲ，立石電機社製の型番
Ｅ３２−ＣＣ２００）等を用いればよい。
【００１２】第２図は， 請求項２に記載の本発明の一
実施例を説明するための平面図（ａ） と側面図（ｂ）
であって，第１図と同じ部分には同一符号を付してあ
る。請求項２の発明は， カセット１にウエハ２を収納
する際のカセット１の姿勢制御機構に関するものであっ
て， 収納面側からカセット１内にウエハ２をを収納す
る場合， カセット１の両側面に設けられている溝６（
第１図（ｂ） 参照）内にウエハ２が確実に挿入される
ことが必要である。このためのウエハ移動機構とカセッ
ト１との相対位置にずれが生じていたり， カセット１
が傾いていたりした場合には， ウエハ２の挿入が不可
能となったり， あるいは， カセット１とウエハ２と
の間の接触面に無理な力が加わって， レジスト膜が剥
離したりする問題が生じる。
実施例を説明するための平面図（ａ） と側面図（ｂ）
であって，第１図と同じ部分には同一符号を付してあ
る。請求項２の発明は， カセット１にウエハ２を収納
する際のカセット１の姿勢制御機構に関するものであっ
て， 収納面側からカセット１内にウエハ２をを収納す
る場合， カセット１の両側面に設けられている溝６（
第１図（ｂ） 参照）内にウエハ２が確実に挿入される
ことが必要である。このためのウエハ移動機構とカセッ
ト１との相対位置にずれが生じていたり， カセット１
が傾いていたりした場合には， ウエハ２の挿入が不可
能となったり， あるいは， カセット１とウエハ２と
の間の接触面に無理な力が加わって， レジスト膜が剥
離したりする問題が生じる。
【００１３】本発明においては，第２図（ａ） に示す
ように， 光源３１と受光器３２との対および光源４１
と受光器４２との対から成る２対の光センサを， カセ
ット１の側面に対向して配置する。光源３１と４１およ
び受光器３２と４２は同一平面， 一般には水平面，
内に配置される。カセット１の両側面には，第３図（ｂ
） に示すように，ウエハ２が挿入される前記溝６に沿
って部分的に開口７が設けられている。したがって，
光源３１および４１と受光器３２および４２とが配置さ
れる面を， カセット１に挿入されようとするウエハ２
の位置と一致させておき， 光源３１および４１からの
光ビームが， 受光器３２および４２にそれぞれ入射す
るようにカセット１の姿勢制御を行えば， ウエハ２を
カセット１内の所定溝６に確実に挿入可能となる。
ように， 光源３１と受光器３２との対および光源４１
と受光器４２との対から成る２対の光センサを， カセ
ット１の側面に対向して配置する。光源３１と４１およ
び受光器３２と４２は同一平面， 一般には水平面，
内に配置される。カセット１の両側面には，第３図（ｂ
） に示すように，ウエハ２が挿入される前記溝６に沿
って部分的に開口７が設けられている。したがって，
光源３１および４１と受光器３２および４２とが配置さ
れる面を， カセット１に挿入されようとするウエハ２
の位置と一致させておき， 光源３１および４１からの
光ビームが， 受光器３２および４２にそれぞれ入射す
るようにカセット１の姿勢制御を行えば， ウエハ２を
カセット１内の所定溝６に確実に挿入可能となる。
【００１４】この姿勢制御を行うための制御装置（図示
省略）の動作は， まず， 昇降機構１０を作動してカ
セット１を上方（または下方）に移動し， 光センサ４
によりカセット１内のウエハ２の有無を検出する。ウエ
ハ２が存在する場合には， ウエハ２が検出されない位
置までカセット１を移動し， 昇降機構１０を停止する
。次いで， 昇降機構２２を作動し， 光源３１または
４１からの光ビームが， カセット１の両側面の開口７
を通過して受光器３２または４２に入射するようにカセ
ット１の姿勢制御を行う。
省略）の動作は， まず， 昇降機構１０を作動してカ
セット１を上方（または下方）に移動し， 光センサ４
によりカセット１内のウエハ２の有無を検出する。ウエ
ハ２が存在する場合には， ウエハ２が検出されない位
置までカセット１を移動し， 昇降機構１０を停止する
。次いで， 昇降機構２２を作動し， 光源３１または
４１からの光ビームが， カセット１の両側面の開口７
を通過して受光器３２または４２に入射するようにカセ
ット１の姿勢制御を行う。
【００１５】このときに， 光源３１および４１のそれ
ぞれからの光ビームが， 受光器３２および４２により
検出されたならば， 姿勢制御を完了とする。上記昇降
機構２２の作動によって， 光源３１または４１の一方
の光ビームのみが検出された場合には， 次いで， 昇
降機構２２および２３を同一速度で同一方向に作動し，
光源３１および４１からの光ビームが受光器３２およ
び４２にそれぞれ入射するようにカセット１の姿勢制御
を行う。このようにして， カセット１に設けられてい
る前記溝６は， 光源３１と４１および受光器３２と４
２の配置面と一致され， 前記溝６にウエハ２を確実に
挿入可能となり， また， カセット１とウエハ２との
接触面に無理な力が加わることが防止され， レジスト
膜の剥離が回避可能となる。
ぞれからの光ビームが， 受光器３２および４２により
検出されたならば， 姿勢制御を完了とする。上記昇降
機構２２の作動によって， 光源３１または４１の一方
の光ビームのみが検出された場合には， 次いで， 昇
降機構２２および２３を同一速度で同一方向に作動し，
光源３１および４１からの光ビームが受光器３２およ
び４２にそれぞれ入射するようにカセット１の姿勢制御
を行う。このようにして， カセット１に設けられてい
る前記溝６は， 光源３１と４１および受光器３２と４
２の配置面と一致され， 前記溝６にウエハ２を確実に
挿入可能となり， また， カセット１とウエハ２との
接触面に無理な力が加わることが防止され， レジスト
膜の剥離が回避可能となる。
【００１６】なお， 光センサ４は前記と同様の光セン
サを用いればよく， また， 光源３１と４１および受
光器３２と４２としては， 周知のものを適宜用いるこ
とができる。とくに， 光源からの光を光ファイバによ
ってカセット１の側面に導き， 開口７を通過した光を
光ファイバに入射させて受光器に導く方式の光センサ（
例えばキーエンス社製の型番ＰＳ−５２，サンクス社製
の型番ＳＳ−３００， 立石電機社製の型番Ｅ３２−Ｔ
Ｃ２００Ｂ） 等が好適である。
サを用いればよく， また， 光源３１と４１および受
光器３２と４２としては， 周知のものを適宜用いるこ
とができる。とくに， 光源からの光を光ファイバによ
ってカセット１の側面に導き， 開口７を通過した光を
光ファイバに入射させて受光器に導く方式の光センサ（
例えばキーエンス社製の型番ＰＳ−５２，サンクス社製
の型番ＳＳ−３００， 立石電機社製の型番Ｅ３２−Ｔ
Ｃ２００Ｂ） 等が好適である。
【００１７】
【発明の効果】本発明によれば， カセットに対する半
導体ウエハの取り出しおよび収納を確実にすることがで
き， その結果， 工程のスループット向上およびウエ
ハの汚染防止を可能とする効果がある。
導体ウエハの取り出しおよび収納を確実にすることがで
き， その結果， 工程のスループット向上およびウエ
ハの汚染防止を可能とする効果がある。
【図１】 請求項１記載の発明の一実施例説明図
【図
２】 請求項２記載の発明の一実施例説明図
２】 請求項２記載の発明の一実施例説明図
【図３】
従来の問題点説明図
従来の問題点説明図
１はカセット
２はウエハ
３と１４と１６は載置台
４と２５と２６は光センサ
６は溝
７は開口
１０と２２と２３は昇降機構
１１はモータ
１２は支持軸
２１は二軸回動機構
３１と４１は光源
３２と４２は受光器
Claims (2)
- 【請求項１】 第１の昇降機構によって上下される第
１の載置台と， ウエハが収納され且つ該ウエハが通過
可能な取り出し面を有するカセットが載置され且つ該第
１の載置台上に配置された第２の載置台と， 該カセッ
トの前記取り出し面の背面直下に配置され且つ該第１の
載置台と第２の載置台とを結合する二軸回動機構と，
各々が該カセットの前記取り出し面直下に配置され且つ
該第１の載置台上に固定された固定部と該第２の載置台
を支持する可動部とを有する第２の昇降機構と， 該カ
セットの前記背面に対向して配置され且つ前記背面に表
出する前記ウエハの端面を検出する第１の検出器と，該
第１の検出器と同一水平面内に配置され且つ該カセット
の前記取り出し面に表出する前記ウエハの端面を検出す
る第２の検出器と， 該第２の昇降機構を停止した状態
で該第１の昇降機構を作動し，該第１の検出器によって
前記ウエハの端面が検出されたときに該第１の昇降機構
を停止するとともに該第２の検出器によって前記ウエハ
の端面が検出されるように該第２の昇降機構を作動する
制御装置とを具備して成るウエハ用カセットの姿勢制御
機構。 - 【請求項２】 上下に移動可能に支持された第１の載
置台と， ウエハが収納される収納面を有するカセット
が載置され且つ該第１の載置台上に配置された第２の載
置台と， 該カセットの両側面のそれぞれに該ウエハに
対応して設けられた複数の開口と，該カセットの前記背
面直下に配置され且つ該第１の載置台と第２の載置台と
を結合する二軸回動機構と， 各々が該カセットの前記
収納面直下に配置され且つ該第１の載置台上に固定され
た固定部と該第２の載置台を支持する可動部とを有する
昇降機構と， 該カセットの前記両側面に対向して配置
され且つ前記開口を通過する光ビームの照射および検出
する光源および検出器と， 該第１の載置台を停止した
状態で該昇降機構を作動し，該開口を通過する前記光ビ
ームが該検出器によって検出されたときに該昇降機構を
停止する制御装置とを具備して成るウエハ用カセットの
姿勢制御機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2402120A JPH04215454A (ja) | 1990-12-14 | 1990-12-14 | ウエハ用カセットの姿勢制御機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2402120A JPH04215454A (ja) | 1990-12-14 | 1990-12-14 | ウエハ用カセットの姿勢制御機構 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04215454A true JPH04215454A (ja) | 1992-08-06 |
Family
ID=18511939
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2402120A Withdrawn JPH04215454A (ja) | 1990-12-14 | 1990-12-14 | ウエハ用カセットの姿勢制御機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04215454A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6419439B2 (en) * | 1995-09-27 | 2002-07-16 | Jenoptik Aktiengesellschaft | Indexer for magazine shelves of a magazine and wafer-shaped objects contained therein |
| US6530736B2 (en) * | 2001-07-13 | 2003-03-11 | Asyst Technologies, Inc. | SMIF load port interface including smart port door |
| US6648587B1 (en) * | 1999-08-25 | 2003-11-18 | Maxtor Corporation | Material delivery system for clean room-like environments |
| JP2013125811A (ja) * | 2011-12-14 | 2013-06-24 | Rozefu Technol:Kk | 積み重ね状態のウエハの傾き補正方法およびウエハのスタッキング装置 |
-
1990
- 1990-12-14 JP JP2402120A patent/JPH04215454A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6419439B2 (en) * | 1995-09-27 | 2002-07-16 | Jenoptik Aktiengesellschaft | Indexer for magazine shelves of a magazine and wafer-shaped objects contained therein |
| US6648587B1 (en) * | 1999-08-25 | 2003-11-18 | Maxtor Corporation | Material delivery system for clean room-like environments |
| US6530736B2 (en) * | 2001-07-13 | 2003-03-11 | Asyst Technologies, Inc. | SMIF load port interface including smart port door |
| JP2013125811A (ja) * | 2011-12-14 | 2013-06-24 | Rozefu Technol:Kk | 積み重ね状態のウエハの傾き補正方法およびウエハのスタッキング装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
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