KR970015660A - 첨가제를 사용하여 제조한 금형 재료 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 첨가제 또는 습윤제 0.05%(w/w) 이상을 함유하는 폴리스티렌 또는 폴리프로필렌을 포함하는 조성물, 콘텍트 렌즈 제조용 금형 및 이를 포함하는 금형 장치와 같은 이의 조성물로 구성된 제품 및 렌즈에서의 구멍, 퍼들, 칩 및 인열과 같은 결함을 최소화시키기 위한 이러한 금형의 용도에 관한 것이다.

Description

첨가제를 사용하여 제조한 금형 재료
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 저산소 환경에서의 금형과 콘택트 렌즈의 성형, 처리 및 취급을 포함하는 콘택트 렌즈 제조를 위한 연속 공정의 흐름도이다.
제2도는 본 발명에 따라 제작된 생산 라인의 정면도이다.
제3a도 및 제3b도는 각각 본 발명에 따른 성형된 제1(자형) 또는 전면 곡선 금형 중의 하나에 양태의 정면도, 및 부분 상세 확대도를 포함하는 측면도이다.
제4a도 및 제4b도는 각각 본 발명에 따라 성형된 제2(웅형) 또는 후면 곡선 금형 중의 하나의 양태의 정면도 및 측면도이다.
제5도는 실시예 1에 기술되어 있는 각종 배합물로 이루어진 팔레트 속에 지지되고 자리잡은 8개의 금형 부분(캐비티)의 기본 곡선 프레임이다.
제6도는 프로브 액 속에 침지된 고체의 고체-증기 및 고체-액체 계면에서의 접촉각 및 표면 장력의 약도이다.
제7도는 접촉각을 측정하는데 사용되는 본 발명의 방법론의 약도이다.
제8도는 접촉각을 결정하는데 있어서의 각종 매개변수의 약도이다.
제9도는 전형적인 수 흡수력 흔적이다.

Claims (52)

  1. 폴리스티렌 또는 폴리프로필렌인 열가소성 중합체와 당해 열가소성 중합체에 함침되어 약 0.05 내지 약 5중량%의 양으로 존재하며 분자량이 약 5000 내지 약 200,000인 폴리에틸렌 또는 폴리프로필렌 왁스, 분자량이 약 200 내지 2000인 화학식 R1CONH2의 아미드 왁스(여기서, R1은 하이드로카빌 그룹이다.) 분자량이 약 2000 내지 약 100,000인 실리콘, 몬탄 왁스, 산화된 왁스, 분자량이 약 200 내지 약 2000인 지방산, 착 에스테르 또는 이들의 혼합물인 내부첨가제를 포함하는, 콘택트 렌즈의 제조에 유용한 금형 부분을 구성하는 금형 재료.
  2. 폴리스티렌과 이와 혼합되는 습윤 유효량의 습윤제를 포함하며 습윤력이 다음 수학식(3)을 만족시키는, 콘택트 렌즈의 제조에 유용한 금형 부분을 구성하는 금형 재료.
    F=2γ1pcosθ (3)
    상기 수학식(3)에서, F는 금형 부분의 습윤력이고, γ1은 증류수의 표면 장력이며, p는 금형 부분이 물에 부분적으로 침지되었을 때 메니스쿠스에서의 금형 재료의 외주 길이이고, θ는 동적 접촉각(여기서, 금형 재료의 접촉각은 100° 미만이다)이다.
  3. 제1항에 있어서, 아미드 왁스가 지방산 아미드 왁스인 금형 재료.
  4. 제1항에 있어서, 열가소성 중합체가 폴리스티렌인 금형 재료.
  5. 제1항에 있어서, 열가소성 중합체가 폴리프로필렌인 금형 재료.
  6. 제1항에 있어서, 첨가제가 약 0.1 내지 약 2.5중량%의 양으로 존재하는 금형 재료.
  7. 제1항에 있어서, 첨가제가 실리콘인 금형 재료.
  8. 제2항에 있어서, 첨가제가 대전 방지제 또는 윤활제인 금형 재료.
  9. 제2항에 있어서, 습윤제가 에톡시화 아민, 하이드록실 알킬 3급 아민 또는 4급 암모늄 설페이트 또는 스테아르산 또는 이의 염인 금형 재료.
  10. 제9항에 있어서, 습윤제가 에톡시화 3급 아민, N, N-비스(2-하이드록시에틸)알킬아민, 스테아르산 아연, (3-라우르아미도프로필)트리메틸 암모늄메틸 설페이트 또는 소이 디메틸 에틸 암모늄 에토설페이트인 금형 재료.
  11. 요면, 철면 및 원주 가장자리를 한정하는 중앙 곡면(여기서, 요면과 철면 중의 하나 이상의 중앙부는 금형 장치 안에서 제조될 목적하는 팽윤되거나 팽윤되지 않은 콘택트 렌즈의 이면 곡선의 치수를 갖는다)을 가지며 콘택트 렌즈 표면과 접촉하고 있는 중합성 조성물의 중합에 의해 형성돈 콘택트 렌즈의 표면이 광학적으로 허용될 수 있도록 하기에 충분한 평활도와 윤곽을 가지며, 원형 원주 가장자리를 둘러싸며 이와 일체화되고 이로부터 요면의 축에 수직한 평면으로 연장되는 환상 플란지를 가지며, 요면의 축에 수직한 평면에 위치하며 플란지로부터 연장되는 대체로 삼각형인 탭을 가지며, 열을 전달하고 금형 장치로부터 금형 부분을 분리하기 위해 가해지는 분리력을 견디기에 효과적인 박도와 강성을 지니며, 제1항에 따르는 첨가제 또는 습윤방지제와 혼합된 열가소성 중합체로 이루어진 금형 재료로 이루어지는 일체품을 포함하는, 금형 부분과 제2금형 부분으로 이루어진 금형 장치 안에서 중합성 조성물을 중합시켜 콘택트 렌즈를 제조하는데 유용한 금형 부분.
  12. 제11항에 있어서, 첨가제가 지방산 아미드 왁스인 금형 부분.
  13. 제11항에 있어서, 열가소성 중합체가 폴리스티렌인 금형 부분.
  14. 제11항에 있어서, 열가소성 중합체가 폴리스티렌인 금형 부분.
  15. 제11항에 있어서, 첨가제가 약 0.1 내지 약 2.5중량%의 양으로 존재하는 금형 부분.
  16. 제11항에 있어서, 첨가제가 실리콘인 금형 부분.
  17. 요면, 철면 및 원주 가장자리를 한정하는 중앙 곡면(여기서, 요면과 철면 중의 하나 이상의 중앙부는 금형 장치 안에서 제조될 목적하는 팽윤되거나 팽윤되지 않은 콘택트 렌즈의 이면 곡선의 치수를 갖는다)을 가지며 콘택트 렌즈 표면과 접촉하고 있는 중합성 조성물의 중합에 의해 형성돈 콘택트 렌즈의 표면이 광학적으로 허용될 수 있도록 하기에 충분한 평활도와 윤곽을 가지며, 원형 원주 가장자리를 둘러싸며 이와 일체화되고 이로부터 요면의 축에 수직한 평면으로 연장되는 환상 플란지를 가지며, 요면의 축에 수직한 평면에 위치하며 플란지로부터 연장되는 대체로 삼각형인 탭을 가지며, 염을 전달하고 금형 장치로부터 금형 부분을 분리하기 위해 가해지는 분리력을 견디기에 효과적인 박도와 강성을 지니는, 일체품을 포함하는, 금형 부분(제1항에 따르는 첨가제 또는 습윤방지제와 혼합된 열가소성 중합체로 이루어진다)과 제2금형 부분으로 이루어진 금형 장치 안에서 중합성 조성물을 중합시켜 콘택트 렌즈를 제조하는데 유용한 금형 부분.
  18. 제17항에 있어서, 금형 재료의 접촉각이 90° 이하인 금형 부분.
  19. 제17항에 있어서, 습윤제가 에톡시화 아민, 하이드록시 알킬 3급 아민 또는 4급 암모늄 설페이트 또는 스테아르산 또는 이의 염인 금형 부분.
  20. 제17항에 있어서, 금형 재료이 접촉각이 75° 이하인 금형 부분.
  21. 제17항에 있어서, 습윤제의 양이 0.05 내지 5%(w/w)인 금형 부분.
  22. 제21항에 있어서, 습윤제의 양이 0.1 내지 2.5%(w/w)인 금형 부분.
  23. 제17항에 있어서, 금형 재료가 에톡시화 3급 아민, N,N-비스(2-하이드록시에틸)알킬아민, 스테아르산 아연, 3-(라우르아미도프로필)트리메틸암모늄 메틸 설페이트 또는 소이 디메틸 에틸 암모늄 에토설페이트인 금형 부분.
  24. 금형 전부[이는 자외선에 대해 투명한 열가소성 중합체로 된 제1물품(여기서, 물품은 요면, 철면 및 원형 원주 가장자리를 갖는 중앙 곡면을 가지며, 중합성 조성물과 접촉하는 요면 부분은 금형 장치 안에서 제조되는 콘택트 렌즈의 전면 곡선의 곡률을 가지며 콘택트 렌즈 표면과 접촉하는 중합성 조성물의 중앙에 의해 형성된 콘택트 렌즈의 표면이 광학적으로 허용될 수 있도록 하기에 충분할 만큼 평활하고, 원형 원주 가장자리를 둘러싸서 일체화되고 요면의 축에 수직인 평면으로 연장되는 환상 플란지 및 요면의 축에 수직인 평면에 위치하고 플란지로부터 연장되는 대체로 삼각형인 탭을 갖는다)을 포함한다.] 이와 접촉함으로써 그 사이에 캐비티를 한정하고 둘러싸는 금형 후부〔이는 자외선에 대해 투명한 열가소성 중합체로 된 제2물품(여기서, 물품은 요면, 철면 및 원형 원주 가장자리를 갖는 중앙 곡면을 가지며, 중합성 조성물과 접촉하는 철면 부분은 금형 장치 안에서 제조되는 콘택트 렌즈의 전면 곡선의 곡률을 가지며 콘택트 렌즈 표면과 접촉하는 중합성 조성물의 중합에 의해 형성된 콘택트 렌즈의 표면이 광학적으로 허용될 수 있도록 하기에 충분할 만큼 평활하고, 원형 원주 가장자리를 둘러싸서 일체화되고 요면의 축에 수직인 평면으로 연장되는 환상 풀란지 및 요면의 축에 수직인 평면에 위치하고 플란지로부터 연장되는 대체로 삼각형인 탭을 가지며, 금형 후부의 요면은 금형 전부의 원주 가장자리와 접촉하며, 제1항에 따르는 첨가제와 혼합된 열가소성 중합체로 이루어진 금형 재료로 이루어진다)을 포함한다〕 및 양 금형 부분과 접촉하는 캐비티 속의 중합성 조성물을 포함하는, 중합성 조성물을 내부에서 중합시켜 콘택트 렌즈를 제조하는데 사용하는 금형 장치.
  25. 제24항에 있어서, 첨가제가 지방산 아미드 왁스인 금형 장치.
  26. 제24항에 있어서, 열가소성 중합체가 폴리스티렌인 금형 장치.
  27. 제24항에 있어서, 열가소성 중합체가 폴리프로필렌인 금형 장치.
  28. 제24항에 있어서, 첨가제 또는 습윤제가 약 0.1 내지 약 2.5중량%의 양으로 존재하는 금형 장치.
  29. 제24항에 있어서, 첨가제가 실리콘인 금형 장치.
  30. 금형 전부 〔이는 자외선에 대해 투명한 열가소성 중합체로 된 제1물품(여기서, 물품은 요면, 철면 및 원형 원주 가장자리를 갖는 중앙 곡면을 가지며, 중합성 조성물과 접촉하는 요면 부분은 금형 장치 안에서 제조되는 콘택트 렌즈의 전면 곡선의 곡률을 가지며 콘택트 렌즈 표면과 접촉하는 중합성 조성물의 중합에 의해 형성된 콘택트 렌즈의 표면이 광학적으로 허용될 수 있도록 하기에 충분할 만큼 평활하고, 원형 원주 가장자리를 둘러싸서 일체화되고 요면의 축에 수직인 평면으로 연장되는 환상 플란지 및 요면의 축에 수직인 평면에 위치하고 플란지로부터 연장되는 대체로 삼각형인 탭을 갖는다)을 포함한다〕, 이와 접촉함으로써 그 사이에 캐비티를 한정하고 둘러싸는 금형 후부〔이는 자외선에 대해 투명한 열가소성 중합체로 된 제2물품(여기서, 물품은 요면, 철면 및 원형 원주 가장자리를 갖는 중앙 곡면을 가지며, 중합성 조성물과 접촉하는 철면 부분은 금형 장치 안에서 제조되는 콘택트 렌즈의 후면 곡선의 곡률을 가지며 콘택트 렌즈 표면과 접촉하는 중합성 조성물의 중합에 의해 형성된 콘택트 렌즈의 표면이 광학적으로 허용될 수 있도록 하기에 충분할 만큼 평활하고, 원형 원주 가장자리를 둘러싸서 일체화되고 요면의 축에 수직인 평면으로 연장되는 환상 풀란지 및 요면의 축에 수직인 평면에 위치하고 플란지로부터 연장되는 대체로 삼각형인 탭을 가지며, 금형 후부의 요면은 금형 전부의 원주 가장자리와 접촉하며, 제2항에 따르는 습윤제와 혼합된 폴리스티렌으로 이루어진 금형 재료로 이루어진다)을 포함한다〕 및 양 금형 부분과 접촉하는 캐비티 속의 중합성 조성물을 포함하는, 중합성 조성물을 내부에서 중합시켜 콘택트 렌즈를 제조하는 데 사용되는 금형 장치.
  31. 제30항에 있어서, 접촉각이 90° 미만인 금형 장치.
  32. 제30항에 있어서, 습윤제가 에톡시화 아민, 하이드록시 알킬 3급 아민, 4급 암모늄 설페이트, 스테아르산 또는 이의 염인 금형 장치
  33. 제30항에 있어서, 습윤제가 에톡시화 3급 아민, N, N-비스(2-하이드록시에틸)알킬아민, 스테아르산 아연, 3-(라우르아미노프로필)트리메틸 암모늄메틸 설페이트 또는 소이 디메틸 에틸 암모늄 에토설페이트인 금형 장치.
  34. 제30항에 있어서, 접촉각이 약 75° 이하인 금형 장치.
  35. 제30항에 있어서, 습윤제가 약 0.05 내지 5%(w/w)의 양으로 존재하는 금형 장치.
  36. 제35항에 있어서, 습윤제가 약 0.1 내지 약 2.5%(w/w)의 양으로 존재하는 금형 장치.
  37. 금형 전부〔이는 자외선에 대해 투명한 열가소성 중합체로 된 제1물품(여기서, 물품은 요면, 철면 및 원형 원주 가장자리를 갖는 중앙 곡면을 가지며, 중합성 조성물과 접촉하는 요면 부분은 금형 장치 안에서 제조되는 콘택트 렌즈의 전면 곡선의 곡률을 가지며 콘택트 렌즈 표면과 접촉하는 중합성 조성물의 중합에 의해 형성된 콘택트 렌즈의 표면이 광학적으로 허용될 수 있도록 하기에 충분할 만큼 평활하다)을 포함한다〕이와 접촉함으로써 그 사이에 캐비티를 한정하고 둘러싸는 금형 후부〔이는 자외선에 대해 투명한 열가소성 중합체로 된 제2물품(여기서, 물품은 요면, 철면 및 원형 원주 가장자리를 갖는 중앙 곡면을 가지며, 중합성 조성물과 접촉하는 철면 부분은 금형 장치 안에서 제조되는 콘택트 렌즈의 후면 곡선의 곡률을 가지며 콘택트 렌즈 표면과 접촉하는 중합성 조성물의 중합에 의해 형성된 콘택트 렌즈의 표면이 광학적으로 허용될 수 있도록 하기에 충분할 만큼 평활하고, 금형 후부의 요면은 금형 전부의 원주 가장자리와 접촉한다)을 포함한다〕을 포함하며 캐비티 속에 양 금형 부분과 접촉하는 중합성 조성물이 들어 있는, 금형 장치에서, 금형 전부를 금형 후부에 대해 클램핑하고, 중합성 조성물을 자외선을 사용하는 예비 경화 및 경화 조건하에서 중합시키며 이형 공정 동안 후면 곡선을 전면 곡선과 콘택트 렌즈로부터 분리시키고, 이어서 전면 곡선을 콘택트 렌즈로부터 분리시킴으로써, 금형 전부와 이와 접촉하여 그 사이에 캐비티를 한정하여 둘러싸는 금형 후부를 포함하며 양 금형 부분과 접촉하는 중합성 조성물을 캐비티속에 함유하는 금형 장치로부터 콘택트 렌즈를 형성시키는 방법에 있어서, 제1항의 금형 재료로 이루어진 후면 곡선 금형을 사용함을 포함함을 특징으로 하는 방법.
  38. 제37항에 있어서, 열가소성 중합체가 폴리스티렌인 방법.
  39. 제37항에 있어서, 열가소성 중합체가 폴리프로필렌인 방법.
  40. 제37항에 있어서, 첨가제가 0.1 내지 2.5중량%의 양으로 존재하는 방법.
  41. 제37항에 있어서, 첨가제가 실리콘인 방법.
  42. 금형 전부〔이는 자외선에 대해 투명한 열가소성 중합체로 된 제1물품(여기서, 물품은 요면, 철면 및 원형 원주 가장자리를 갖는 중앙 곡면을 가지며, 중합성 조성물과 접촉하는 요면 부분은 금형 장치 안에서 제조되는 콘택트 렌즈의 전면 곡선의 곡률을 가지며 콘택트 렌즈 표면과 접촉하는 중합성 조성물의 중합에 의해 형성된 콘택트 렌즈의 표면이 광학적으로 허용될 수 있도록 하기에 충분할 만큼 평활하다)을 포함한다〕이와 접촉함으로써 그 사이에 캐비티를 한정하고 둘러싸는 금형 후부〔이는 자외선에 대해 투명한 열가소성 중합체로 된 제2물품(여기서, 물품은 요면, 철면 및 원형 원주 가장자리를 갖는 중앙 곡면을 가지며, 중합성 조성물과 접촉하는 철면 부분은 금형 장치 안에서 제조되는 콘택트 렌즈의 후면 곡선의 곡률을 가지며 콘택트 렌즈 표면과 접촉하는 중합성 조성물의 중합에 의해 형성된 콘택트 렌즈의 표면이 광학적으로 허용될 수 있도록 하기에 충분할 만큼 평활하고, 금형 후부의 요면은 금형 전부의 원주 가장자리와 접촉한다)을 포함한다〕을 포함하며 캐비티속에 양 금형 부분과 접촉하는 중합성 조성물이 들어 있는, 금형 장치에서, 금형 전부를 금형 후부에 대해 클램핑하고, 중합성 조성물을 자외선을 사용하는 예비 경화 및 경화 조건하에서 중합시키며 이형 공정 동안 후면 곡선을 전면 곡선과 콘택트 렌즈로부터 분리시키고, 이어서 전면 곡선을 콘택트 렌즈로부터 분리시킴으로써, 금형 전부와 이와 접촉하여 그 사이에 캐비티를 한정하여 둘러싸는 금형 후부를 포함하며 양 금형 부분과 접촉하는 중합성 조성물을 캐비티속에 함유하는 금형 장치로부터 콘택트 렌즈를 형성시키는 방법에 있어서, 제2항의 금형 재료로 이루어진 후면 곡선 금형을 사용함을 특징으로 하는 방법.
  43. 제42항에 있어서, 접촉각이 90°이하인 방법.
  44. 제42항에 있어서, 접촉각이 75°이하인 방법.
  45. 제42항에 있어서, 습윤제가 약 0.05 내지 약 5%(w/w)의 양으로 존재하는 방법.
  46. 제42항에 있어서, 습윤제가 약 0.1 내지 약 2.5%(w/w)의 양으로 존재하는 방법.
  47. 제42항에 있어서, 습윤 방지제가 에톡시화 아민, 하이드록시 알킬 3급 아민 또는 4급 암모늄 설페이트 또는 스테아르산 또는 이의 염인 방법.
  48. 제42항에 있어서, 금형 재료가 에톡시화 3급 아민, N, N-비스(2-하이드록시에틸)알킬아민, 스테아르산아연, 3-(라우르아미도프로필)트리메틸 암모늄 메틸 설페이트 또는 소이 디메틸 에틸 암모늄 에토설페이트인 방법.
  49. 제2항에 있어서, 습윤제가 약 0.05 내지 약 5%(w/w)의 양으로 존재하는 금형 재료.
  50. 제49항에 있어서, 습윤제가 0.1 내지 2.5%(w/w)의 양으로 존재하는 금형 재료.
  51. 제2항에 있어서, 동적 접촉각이 90° 이하인 금형 재료.
  52. 제51항에 있어서, 동적 접촉각이 약75° 이하인 금형 재료.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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