KR970012965A - Soi 웨이퍼 및 그의 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명에서는 다음의 단계: 제 1의 미러 연마된 반도체 실리콘 웨이퍼의 미러 연마된 표면상에 산화 표면막을 베이스 웨이퍼로서 형성하는 단계; 제 2의 미러 연마된 반도체 실리콘 웨이퍼의 미러 연마된 표면상에 불순물로 도핑된 층을 본드 웨이퍼로서 형성하는 단계; 베이스 웨이퍼와 본드 웨이퍼를 산화표면막과 도핑된 층으로 서로 접촉시키는 단계; 이렇게 접촉된 반도체 실리콘 웨이퍼를 열처리하여 SOI 웨이퍼의 프리커서로의 일체화 접착에 영향을 주는 단계로 이루어진 SOI 웨이퍼의 제조 방법을 제안한다. 본 발명은 제조 방법을 층간에 접착력에 현저한 향상이 이루어지도록 베이스 웨이퍼와 본드 웨이퍼가 상기 산화 표면막과 상기 도핑된 층으로 접촉되어 접합되기 전에 본드 웨이퍼 상의 도핑된 층의 표면을 연마하는 것을 특징으로 한다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
도 1은 여러 온도에서 열처리에 의하여 일체화 접착된 웨이퍼의 접착력을 나타내는 도표.
도 2A 및 도 2B는 각각 실시예의 미러 연마된 표면에 대한 전과 후의 확산 표면 내의 시트 저항의 분포를 나타내는 도면.
도 3A 내지 도 3F는 고농도의 불순물 층으로 에칭 정지하는 방법 출원의 종래 기술에서 SOI 웨이퍼를 제작하는 단계를 나타내는 개략도.
도 4는 헤이즈 레벨 값과 RMS값에 의하여 표현되는 표면 거칠기값을 나타내는 막대그래프.
도 5는 연마 시간의 함수로서 연마된 표면의 헤이즈 레벨 값들의 변화를 나타내는 그래프.
Claims (6)
- (a)제 1의 미러 연마된 반도체 실리콘 웨이퍼의 미러 연마된 표면상에 산화 표면막을 형성하는 단계; (b)제 2의 미러 연마된 반도체 실리콘 웨이퍼의 고농도의 불순물로 도핑된 층을 형성하는 단계; (c) 제 1과 제 2반도체 실리콘 웨이퍼를 산화표면막과 도핑된 층에서 서로 접촉시키는 단계; (d)이렇게 접촉된 반도체 실리콘 웨이퍼를 열처리시켜 SOI 웨이퍼의 프리커서로 일체화 접착하는 단계를 포함하는 SOI 웨이퍼의 제조 방법에 있어서,단계(c)에서 제 1과 제 2반도체 실리콘 웨이퍼를 상기 산화된 표면막과 상기 도핑층에서 서로 접촉시키기 전에 상기 제 2의 반도체 실리콘 웨이퍼상에 도핑층의 표면을 연마하는 것을 특징으로 하는 SOI 웨이퍼의 제조 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 도핑층의 연마에 의한 두께 감소는 1㎛를 넘지 않는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항에 있어서, 연마후 도핑층은 표면은 헤이즈 레벨 값이 20비트를 넘지 않는 것을 특징으로 한다.
- (a)제1의 미러 연마된 반도체 실리콘 웨이퍼의 미러 연마된 표면상에 산화 표면막을 형성하는 단계; (b)제2의 미러 연마된 빈도체 실리콘 웨이퍼의 미러 연마된 표면상에 고농도의 불순물로 도핑된 층을 형성하는 단계; (c)제1과 제2반도체 실리콘 웨이퍼를 산화표면막과 도핑된 층에서 서로 접촉시키는 단계; (d)이렇게 접촉된 반도체 실리콘 웨이퍼를 열처리시켜 SOI 웨이퍼의 프리커서로 일체화 접착하는 단계; (e) 단계(d)에서 얻어진 SOI 웨이퍼의 프리커서를 형성하는 제 2반도체 실리콘 웨이퍼를 박막화시키는 단계를 포함하는 SOI 웨이퍼의 제조 방법에 있어서,단계(c)에서 제 1과 제 2반도체 실리콘 웨이퍼를 상기 산화된 표면막과 상기 도핑층에서 서로 접촉시키기 전에 상기 제2의 반도체 실리콘 웨이퍼상의 도핑층의 표면을 연마하는 것과 단계(e)에서 고농도의 불순물층에 의한 에칭 정지 방법으로 제 2의 반도체 실리콘 웨이퍼를 박막화하는 것을 특징으로 하는 SOI 웨이퍼의 제조 방법.
- 제4항에 있어서, 도핑층의 연마에 의한 두께 감소는 1㎛를 넘지 않는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제4항에 있어서, 연마후 도핑층의 표면은 헤이즈 레벨 값이 20비트를 넘지 않는 것을 특징으로 하는 방법.
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