KR970012017A - 변형 조명 방법 - Google Patents
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Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Abstract
반도체 사진 공정에서 사입사광을 얻는 변형 조명 방법을 개시한다. 사입사 조명법인 ATOM(Advancde Tilted illumination On Mask)변형 조명 방법에 있어서, 마스크상에 설치되어 있는 그레이팅(grating)을 플라이즈 아이(fly's eye)렌즈 뒷면에 설치한 것을 특징으로 하는 변형 조명 방법을 제공한다.
본 발명에 의하면, 그레이팅(grating)을 플라이즈 아이(fly's eye)렌즈 뒷면에 설치함으로써 플라이즈 아이(fly's eye) 렌즈와 웨이퍼 면 상이에 광의 손실이 없으므로 노광장비의 적분(integrator)기능을 100% 사용할 수 있으므로, 광원의 세기에 따라 매번 입력에너지가 변하는 문제를 해결하고 기존의 마스크클 그대로 사용함으로써 검사나 제작상의 어려움이 없어지게 된다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제5도는 본 발명에 의한 변형 조명 방법을 나타낸 개략도이다
제6도는 본 발명에 의한 변형 조명 방법을 사용했을 때의 광의 빔형상을 나타낸다.
Claims (4)
- 사입사 조명법인 ATOM(Advancde Tilted illumination On Mask)변형 조명 방법에 있어서, 마스크상에 설치되어 있는 그레이팅(grating)을 플라이즈 아이(fly's eye)렌즈 뒷면에 설치한 것을 특징으로 하는 변형 조명 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 크레이팅(grating)은 180°의 위상차를 가지는 크롬제거형 더미 플레이트(chromless dummy plate)를 사용하는 것을 특징으로 하는 변형 조명 방법.
- 제2항에 있어서, 상기 크롬제거형 더미 플레이트(chromless dummy plate)는 피치를 1~12㎛까지 변화하여 사입사 각도를 조절하는 것을 특징으로 하는 변형 조명 방법.
- 제2항에 있어서, 상기 크롬제거형 더미 플레이트(chromless dummy plate)를 기존의 마스크와 별도로 제작하여 장착하는 것을 특징으로 하는 변형 조명 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950028523A KR970012017A (ko) | 1995-08-31 | 1995-08-31 | 변형 조명 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950028523A KR970012017A (ko) | 1995-08-31 | 1995-08-31 | 변형 조명 방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970012017A true KR970012017A (ko) | 1997-03-29 |
Family
ID=66596598
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019950028523A KR970012017A (ko) | 1995-08-31 | 1995-08-31 | 변형 조명 방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR970012017A (ko) |
-
1995
- 1995-08-31 KR KR1019950028523A patent/KR970012017A/ko not_active Application Discontinuation
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