KR960001786A - 조광 시스템 - Google Patents
조광 시스템 Download PDFInfo
- Publication number
- KR960001786A KR960001786A KR1019950016072A KR19950016072A KR960001786A KR 960001786 A KR960001786 A KR 960001786A KR 1019950016072 A KR1019950016072 A KR 1019950016072A KR 19950016072 A KR19950016072 A KR 19950016072A KR 960001786 A KR960001786 A KR 960001786A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- dimming system
- dimming
- axicones
- axicon
- elements
- Prior art date
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 claims 1
- 230000005405 multipole Effects 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70066—Size and form of the illuminated area in the mask plane, e.g. reticle masking blades or blinds
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
- G02B13/14—Optical objectives specially designed for the purposes specified below for use with infrared or ultraviolet radiation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
- G02B13/14—Optical objectives specially designed for the purposes specified below for use with infrared or ultraviolet radiation
- G02B13/143—Optical objectives specially designed for the purposes specified below for use with infrared or ultraviolet radiation for use with ultraviolet radiation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B15/00—Optical objectives with means for varying the magnification
- G02B15/02—Optical objectives with means for varying the magnification by changing, adding, or subtracting a part of the objective, e.g. convertible objective
- G02B15/04—Optical objectives with means for varying the magnification by changing, adding, or subtracting a part of the objective, e.g. convertible objective by changing a part
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/001—Axicons, waxicons, reflaxicons
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/42—Coupling light guides with opto-electronic elements
- G02B6/4201—Packages, e.g. shape, construction, internal or external details
- G02B6/4204—Packages, e.g. shape, construction, internal or external details the coupling comprising intermediate optical elements, e.g. lenses, holograms
- G02B6/4206—Optical features
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/42—Coupling light guides with opto-electronic elements
- G02B6/4298—Coupling light guides with opto-electronic elements coupling with non-coherent light sources and/or radiation detectors, e.g. lamps, incandescent bulbs, scintillation chambers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70075—Homogenization of illumination intensity in the mask plane by using an integrator, e.g. fly's eye lens, facet mirror or glass rod, by using a diffusing optical element or by beam deflection
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70091—Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane or angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole or quadrupole settings; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
- G03F7/70108—Off-axis setting using a light-guiding element, e.g. diffractive optical elements [DOEs] or light guides
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/7015—Details of optical elements
- G03F7/70183—Zoom systems for adjusting beam diameter
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Lenses (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
광학 시스템용 조광 시스템, 특히, 동기도(σ)의 변형이 가능한 줌 렌즈(2)와 간격 조절이 가능한 두개의 액시콘(22, 23)을 포함하는 마이크로리소그래픽 프로젝션 노광 시스템이 제공되었다. 상기 간격은 제로까지 줄어들 수 있다. 이는 낮은 광손실을 제공하며, 종래의 조광 시스템의 동기도(σ)를 가변시키고 상호 다른 기하구조를 갖는 멀티플 조광 또는 링 형상의 다이아프램을 제공한다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명 조광 시스템의 바람직한 실시예를 설명하는 략도,
제2a도는 액시콘간의 거리가 제로인 상태에서, 제1도에 포함된 줌-액시콘 렌즈를 도시한 단면도,
제2b도는 제2a도와 동일하나 액시콘이 분리되어 있는 상태에서의 단면도,
제4a도는 또다른 실시예를 설명하는 개략도,
제4c도는 또다른 실시예를 설명하는 개략도,
제4d도는 또다른 실시예를 설명하는 개략도.
Claims (17)
- 줌 렌즈(2)가 제공되어 동기도(σ)를 변화시키며, 두 개의 액시콘(22, 23)이 상기 줌 렌즈(2)내에 집적되며 상기 액시콘간의 간격은 조절가능함을 특징으로 하는, 두 개의 액시콘(22, 23)을 갖춘 광학 시스템, 특히, 마이크로그래픽 프로젝션 노광 시스템요의 조광 시스템.
- 제1항에 있어서, 실행가능하고 광학적으로 타당한, 상기 액시콘(22, 23)은 동일한 꼭지각(σ)을 가짐을 특징으로 하는 조광 시스템.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 액시콘(22, 23)간의 거리(d23)는 상기 액시콘이 접촉할 때까지 줄어들수 있음을 특징으로 하는 조광 시스템.
- 제1항 내지 제3항 중의 하나 이상의 항에 있어서, 상기 액시콘(22, 23)은 원추형임을 특징으로 하는 조광 시스템.
- 제1항 내지 제3항 중의 하나 이상의 항에 있어서, 상기 액시콘(22, 23)은 피라미드 형상을 가짐을 특징으로 하는 조광 시스템
- 제1항 내지 제5항 중의 하나 이상의 항에 있어서, 하나 이상의 상기 액시콘(22, 23)의 제2경계면(221, 232)은 만곡되어 있음을 특징으로 하는 조광 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중의 하나 이상의 항에 있어서, 상기 액시콘(22, 23)은 조준된 빔내에 위치하지 않음을 특징으로 하는 조광 시스템.
- 제1항 내지 제7항 중의 하나 이상의 항에 있어서, 종래의 조광 및 상이한 기하학적 구조를 갖는 멀티폴조광 또는 링 형상의 다이아프래은 상기 두개의 액시콘(22, 23) 사이의 간격(d23) 또는 하나 이상의 줌 소자(24)의 위치를 변화시킴으로서 연속적으로 조절됨을 특징으로 하는 조광 시스템.
- 제1항 내지 제8항 중의 하나 이상의 항에 있어서, 상기 조광 시스템은 광선 안티그레이트로서의 유리봉(5)을 포함함을 특징으로 하는 조광 시스템.
- 제9항에 있어서, 마스킹 시스템(51)이 상기 유리봉(5)의 출력 단부면에 위치함을 특징으로 하는 조광 시스템.
- 제1항 내지 제10항 중의 하나 이상의 항에 있어서, 애퍼츄어(13)가 램프 거울(12)의 초점(121) 외부에 위치하며 제2광원을 포함함을 특징으로 하는 조광 시스템.
- 제1항 내지 제11항 중의 하나 이상의 항에 있어서, 상기 광선 인티그레이터(5) 뒤에는 빔 형성용의 스탑 또는 다이아프램이 전혀 위치하지 않음을 특징으로 하는 조광 시스템.
- 제8항을 포함하며, 제1항 내지 제12항 중의 하나 이상의 항에 있어서, 상기 조절 절차는 프로그램에 의하여 제어되며 컴퓨터에 의하여 수행됨을 특징으로 하는 조광 시스템.
- 제1항 내지 제13항 중의 하나 이상의 항에 있어서, 상기 줌 렌즈의 두개 소자(2121, 2120;240)는 대체 가능함을 특징으로 하는 조광 시스템.
- 제14항에 있어서, 하나의 대체 가능한 소자(2121, 2120)는 인접하는 고정 소자(2112, 2113)의 면(2113)과 거의 동일한 면(2121)을 가지며, 상기 양면(2113, 2121)은 상호 접촉할 때까지 서로 이동됨을 특징으로 하는 조광 시스템.
- 제15항에 있어서, 상기 대체 가능한 소자(2121;2120)와 고정 소자(2112, 2113)는 동일한 굴절율 n을 가지는 유리로 이루어짐을 특징으로 하는 조광 시스템.
- 제14항 내지 제16항 중의 하나 이상의 항에 있어서, 동기도(σ)가 작은 경우에, 상기 두개의 대체 가능한 소자(2121, 2120;240)는 상기 두개의 액시콘(220, 230)으로부터 멀리 떨어져 위치하며, 동기도(σ)가 큰 경우에 있어서는 상기 액시콘에 근접함을 특징으로 하는 조광 시스템.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEP4421053.1 | 1994-06-17 | ||
DE4421053A DE4421053A1 (de) | 1994-06-17 | 1994-06-17 | Beleuchtungseinrichtung |
DE4441947A DE4441947A1 (de) | 1994-06-17 | 1994-11-25 | Beleuchtungseinrichtung |
DEP4441947.3 | 1994-11-25 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR960001786A true KR960001786A (ko) | 1996-01-25 |
KR100384551B1 KR100384551B1 (ko) | 2003-10-11 |
Family
ID=6520742
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019950016072A KR100384551B1 (ko) | 1994-06-17 | 1995-06-16 | 조광시스템 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100384551B1 (ko) |
DE (3) | DE4421053A1 (ko) |
TW (1) | TW298629B (ko) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6060735A (en) * | 1996-09-06 | 2000-05-09 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Thin film dielectric device |
KR100563124B1 (ko) * | 1998-04-08 | 2006-03-21 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피 장치 |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7130129B2 (en) | 1996-12-21 | 2006-10-31 | Carl Zeiss Smt Ag | Reticle-masking objective with aspherical lenses |
EP0949541B1 (en) * | 1998-04-08 | 2006-06-07 | ASML Netherlands B.V. | Lithography apparatus |
US6583937B1 (en) | 1998-11-30 | 2003-06-24 | Carl-Zeiss Stiftung | Illuminating system of a microlithographic projection exposure arrangement |
DE19855108A1 (de) | 1998-11-30 | 2000-05-31 | Zeiss Carl Fa | Mikrolithographisches Reduktionsobjektiv, Projektionsbelichtungsanlage und -Verfahren |
TW587199B (en) | 1999-09-29 | 2004-05-11 | Asml Netherlands Bv | Lithographic method and apparatus |
DE10109592C2 (de) * | 2001-02-28 | 2003-10-30 | Zeiss Carl Jena Gmbh | Anordnung zum Erzeugen eines leuchtenden Feldes |
DE10144243A1 (de) | 2001-09-05 | 2003-03-20 | Zeiss Carl | Zoom-System für eine Beleuchtungseinrichtung |
DE10144244A1 (de) | 2001-09-05 | 2003-03-20 | Zeiss Carl | Zoom-System, insbesondere für eine Beleuchtungseinrichtung |
US7079321B2 (en) | 2001-10-18 | 2006-07-18 | Asml Holding N.V. | Illumination system and method allowing for varying of both field height and pupil |
US6775069B2 (en) * | 2001-10-18 | 2004-08-10 | Asml Holding N.V. | Advanced illumination system for use in microlithography |
US6813003B2 (en) | 2002-06-11 | 2004-11-02 | Mark Oskotsky | Advanced illumination system for use in microlithography |
US7006295B2 (en) | 2001-10-18 | 2006-02-28 | Asml Holding N.V. | Illumination system and method for efficiently illuminating a pattern generator |
KR100431883B1 (ko) * | 2001-11-05 | 2004-05-17 | 삼성전자주식회사 | 노광방법 및 투영 노광 장치 |
US7511886B2 (en) | 2003-05-13 | 2009-03-31 | Carl Zeiss Smt Ag | Optical beam transformation system and illumination system comprising an optical beam transformation system |
AU2003255441A1 (en) | 2003-08-14 | 2005-03-29 | Carl Zeiss Smt Ag | Illuminating device for a microlithographic projection illumination system |
DE102004015148B4 (de) * | 2004-03-27 | 2007-04-19 | Fuhrberg, Teichmann, Windolph LISA laser products oHG | Faserlaser mit einer Optischen Vorrichtung zur Formung der Intensitätsverteilung eines Lichtstrahlenbündels |
EP1941313B1 (en) * | 2005-10-27 | 2014-12-03 | Yale University | An optical system for illumination of an evanescent field |
JP6137179B2 (ja) | 2011-07-26 | 2017-05-31 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系及びマイクロリソグラフィ露光方法 |
-
1994
- 1994-06-17 DE DE4421053A patent/DE4421053A1/de not_active Ceased
- 1994-11-25 DE DE4441947A patent/DE4441947A1/de not_active Ceased
-
1995
- 1995-05-03 TW TW084104406A patent/TW298629B/zh not_active IP Right Cessation
- 1995-05-16 DE DE59507458T patent/DE59507458D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1995-06-16 KR KR1019950016072A patent/KR100384551B1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6060735A (en) * | 1996-09-06 | 2000-05-09 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Thin film dielectric device |
KR100563124B1 (ko) * | 1998-04-08 | 2006-03-21 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW298629B (ko) | 1997-02-21 |
DE4441947A1 (de) | 1996-05-30 |
DE59507458D1 (de) | 2000-01-27 |
KR100384551B1 (ko) | 2003-10-11 |
DE4421053A1 (de) | 1995-12-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR960001786A (ko) | 조광 시스템 | |
KR100450556B1 (ko) | 투사형-마이크로리소그래피장치용조명장치 | |
CN101681123B (zh) | 照明光学系统、曝光装置以及元件制造方法 | |
US5675401A (en) | Illuminating arrangement including a zoom objective incorporating two axicons | |
EP2117034B1 (en) | Diffractive optical element element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method | |
US5452054A (en) | Variable annular illuminator for photolithographic projection imager | |
KR970003882B1 (ko) | 사진석판술용 노광 장치의 조명 시스템 | |
KR950019953A (ko) | 투영노광장치 | |
EP1059550A4 (en) | REFRACTION REFLECTION IMAGE FORMING SYSTEM AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS INCLUDING THE OPTICAL SYSTEM | |
KR960042228A (ko) | 포토리도그래피 기법에서 사용하는 혼성(hybrid) 조명 장치 | |
KR950012135A (ko) | 투영노광장치 및 이를 이용한 디바이스제조방법 | |
KR970048690A (ko) | 마이크로리소그래피-투사노즐 장치 및 이를 위한 rema-대물렌즈 | |
KR980005336A (ko) | 조명장치, 노광장치 및 디바이스제조방법 | |
US5386266A (en) | Projection exposure system | |
KR950015638A (ko) | 개량된 해상도 특성을 갖는 스텝 앤드 리피트 노출 시스템 | |
JP2010097975A (ja) | 補正ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
KR970022571A (ko) | 투영노광장치 | |
JP2914035B2 (ja) | 輪帯光束形成方法および照明光学装置 | |
KR950019951A (ko) | 레티클-마스킹시스템을 갖는 광학시스템용 조명장치 | |
KR101079677B1 (ko) | 노광장치 및 디바이스 제조방법 | |
JP3879142B2 (ja) | 露光装置 | |
JPH06331932A (ja) | 投影光学装置 | |
KR0147602B1 (ko) | 콘트라스트 증대를 위한 조명 장치 | |
JPS6380243A (ja) | 露光装置用照明光学装置 | |
KR970022395A (ko) | 조명광학계 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
AMND | Amendment | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
AMND | Amendment | ||
E601 | Decision to refuse application | ||
J201 | Request for trial against refusal decision | ||
AMND | Amendment | ||
B701 | Decision to grant | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
O035 | Opposition [patent]: request for opposition | ||
O132 | Decision on opposition [patent] | ||
O074 | Maintenance of registration after opposition [patent]: final registration of opposition | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130425 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140424 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150423 Year of fee payment: 13 |
|
EXPY | Expiration of term |