KR200151379Y1

KR200151379Y1 - 반도체 스테퍼장비의 조명계

Info

Publication number: KR200151379Y1
Application number: KR2019960034961U
Authority: KR
Inventors: 권정현
Original assignee: 구본준; 엘지반도체주식회사
Priority date: 1996-10-22
Filing date: 1996-10-22
Publication date: 1999-07-15
Also published as: KR19980021658U

Abstract

본 고안은 반도체 스테퍼장비의 조명계에 관한 것으로, 종래에는 인테그래터의 전, 후부에 설치되어 있는 필터와 제2 플랫미러의 장기간 사용에 따른 노화에 의하여 조도의 균일도가 저하되는 문제점이 있었다. 본 고안 반도체 스테퍼장비의 조명계는 마스킹 블레이드와 컨덴싱 렌즈 사이에 조도 균일도를 향상시키기 위한 컨덴싱 플라이 아이를 설치하여, 레티클에 투사되기 전에 빛의 세기를 균일하게 조정함으로서 조도 균일도를 향상시키게 되는 효과가 있다.

Description

반도체 스테퍼장비의 조명계

본 고안은 반도체 스테퍼(STEPPER)의 조명계에 관한 것으로, 특히 웨이퍼(WAFER)에 노광(EXPOSURE)되는 빛의 균일도(UNIFORMITY)를 향상시키도록 하는데 적합한 반도체 스테퍼장비의 조명계에 관한 것이다.

반도체 웨이퍼 제조공정 중 노광공정에서는 감광유제(PHOTO RESIST)가 코팅된 웨이퍼의 상부에 회로모양이 반복형성되어 있는 마스크(MASK)를 위치시키고, 그 마스크의 상부에서 자외선 광원을 비추어서 마스크에 형성되어 있는 회로모양의 패턴(PATTERN)을 웨이퍼에 노광 이식하게 된다. 이와 같은 노광공정을 진행하는 장비를 스테퍼장비라고 하며, 그 스테퍼장비의 조명계가 제1도에 도시되어 있는 바, 이를 간단히 설명하면 다음과 같다.

제1도는 종래 반도체 스테퍼장비의 조명계 구조를 보인 계통도로서, 도시된 바와 같이, 종래 반도체 스테퍼장비의 조명계는 머큐리램프(MERCURY LAMP)(1), 엘립틱미러(ELLIPTIC MIRROR)(2), 제1 플랫미러(FALT MIRROR)(3), 프리셔터(PRESHUTTER)(4), 필터(FILTER)(5), 인테그래터(INTEGRATOR)(6), 아팟추어(APERTURE)(7), 메인셔터(MAIN SHUTTER)(8), 제2 플랫미러(FLAT MIRROR)(9), 컨덴서 렌즈(CONDENSOR LENS)(10), 마스킹 블레이드(MASKING BLADE)(11), 레티클(RETICLE)(12), 리덕션 렌즈(REDUCTION LENS)(13)로 구성되어 있다.

도면중 미설명 부호 W는 웨이퍼이다.

상기와 같이 구성된 종래 스테퍼 장비의 조명계는 머큐리램프(1)에서 발광된 빛이 엘립틱미러(2)에서 집광되고, 그 집광된 빛은 제1 플랫미러(3)에서 반사되며, 이 반사된 빛은 필터(5)를 통과하며 원하는 파장의 빛으로 만들어 진다.

그리고, 상기와 같이 원하는 파장으로 된 빛은 인테그래터(6)를 통과하며 균일해지고, 설정된 아팟추어(7)의 크기를 통과하게 된다. 그런 다음, 제2 플랫미러(9)와 컨덴서 렌즈(10)를 통과한 빛은 레티클(12)에 투사하게 되고, 리덕션 렌즈(13)를 통과하면서 레티클(12)에 형성된 패턴을 1/5로 축소하여 웨이퍼(W)의 상면에 그 이미지를 노광시키게 된다.

그러나, 상기와 같은 종래 스테퍼 장비의 조명계에서는 균일한 빛을 얻기 위하여 인테그래터(6)를 채용하였으나, 그 인테그래터(6)의 전, 후부에 설치되어 있는 필터(5)와 제2 플랫미러(9)의 장기간 사용에 따른 노화에 의하여 조도의 균일도가 저하되는 문제점이 발생하였다.

상기와 같은 문제점을 감안하여 안출한 본 고안의 목적은 조도의 균일도를 향상시키도록 하는데 적합한 반도체 스테퍼장비의 조명계를 제공함에 있다.

제1도는 종래 반도체 스테퍼장비의 조명계를 보인 계통도.

제2도는 본 고안 반도체 스테퍼장비의 조명계를 보인 계통도.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

1 : 머큐리램프 2 : 엘립틱미러

3 : 제1 플랫미러 4 : 프리셔터

5 : 필터 6 : 인테그래터

7 : 아팟추어 8 : 메인셔터

9 : 제2 플랫미러 10 : 컨덴서 렌즈

11 : 마스킹 블레이드 12 : 레티클

13 : 리덕션 렌즈 20 : 컨덴싱 플라이 아이

상기와 같은 본 고안의 목적을 달성하기 위하여 머큐리램프에서 발광된 빛이 엘립틱미러, 제1 플랫미러, 프리셔터, 필터, 인테그래터, 아팟추어, 메인셔터, 제2 플랫미러, 컨덴서 렌즈, 마스킹 블레이드, 레티클, 리덕션 렌즈를 통과하여 웨이퍼의 상면에 노광되도록 구성되어 있는 반도체 스테퍼 장비의 조명계에 있어서, 상기 마스킹 블레이드와 컨덴서 렌즈 사이에 빛의 강도를 일정하게 투사시키기위한 컨덴싱 플라이 아이를 설치하여서 구성된 것을 특징으로 하는 반도체 스테퍼장비의 조명계가 제공된다.

이하, 상기와 같이 구성되는 본 고안 반도체 스테퍼장비의 조명계를 첨부된 도면의 실시예를 참고하여 보다 상세히 설명하면 다음과 같다.

제2도는 본 고안 반도체 스테퍼장비의 조명계 구조를 보인 계통도로서, 도시된 바와 같이, 본 고안 반도체 스테퍼장비의 조명계는 머큐리램프(1), 엘립틱미러(2), 제1 플랫미러(3), 프리셔터(4), 필터(5), 인테그래터(6), 아팟추어(7), 메인셔터(8), 제2 플랫미러(9), 컨덴서 렌즈(10), 마스킹 블레이드(11), 레티클(12), 리덕션 렌즈(13)로 구성되는 것은 종래와 유사하다.

여기서, 본 고안은 상기 마스킹 블레이드(11)와 컨덴서 렌즈(10) 사이에 빛의 강도를 일정하게 투사시키기 위한 컨덴싱 플라이 아이(CONDENSING FLY EYE)(20)를 설치한 것을 특징으로 한다.

상기 컨덴싱 플라이 아이(20)는 직경 1㎜ 이하의 광섬유가 원통형으로 밀집충적되어 있는 형태로서, 이러한 밀집충적되어 있는 광섬유에 빛을 통과시키게 된다.

미설명 부호 W는 웨이퍼이다.

종래와 동일한 부분에 대해서는 동일 부호를 부여하였다.

상기와 같이 구성되는 본 고안 반도체 스테퍼장비의 조명계는 머큐리램프(1)에서 발광된 빛이 엘립틱미러(2)에서 집광되고, 그 집광된 빛은 제1 플랫미러(3)에서 반사되며, 이 반사된 빛은 필터(5)를 통과하며 원하는 파장의 빛으로 만들어 진다.

그리고, 상기와 같이 원하는 파장으로 된 빛은 인테그래터(6)를 통과하며 균일해지고, 설정된 아팟추어(7)의 크기를 통과하게 된다. 그런 다음, 제2 플랫미러(9)와 컨덴서 렌즈(10)를 통과한 빛은 레티클(12)에 투사되기 전에 빛의 세기를 균일하게 조정하는 컨덴싱 플라이 아이(20)를 통과하게 되고, 리덕션 렌즈(13)에서 레티클(12)에 형성된 패턴을 1/5로 축소하여 웨이퍼(W)의 상면에 그 이미지를 노광시키게 된다.

즉, 본 고안에서는 직경 1㎜ 이하의 광섬유가 밀집충적된 컨덴싱 플라이 아이(20)가 빛의 세기를 균일하게 조정하는 것이다.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이 본 고안 반도체 스테퍼장비의 조명계는 마스킹 블레이드와 컨덴싱 렌즈 사이에 조도 균일도를 향상시키기 위한 컨덴싱 플라이 아이를 설치하여, 레티클에 투사되기 전의 빛의 세기를 균일하게 조정함으로서 조도 균일도를 향상시키게 되는 효과가 있다.

Claims

머큐리램프에서 발광된 빛이 엘립틱미러, 제1 플랫미러, 프리셔터, 필터, 인테그래터, 아팟추어, 메인셔터, 제2 플랫미러, 컨덴서 렌즈, 마스킹 블레이드, 레티클, 리덕션 렌즈를 통과하여 웨이퍼의 상면에 노광되도록 구성되어 있는 반도체 스테퍼장비의 조명계에 있어서, 상기 마스킹 블레이드와 컨덴서 렌즈 사이에 빛의 강도를 일정하게 조정하기 위한 컨덴싱 플라이 아이를 설치하여서 구성된 것을 특징으로 하는 반도체 스테퍼장비의 조명계.
제1항에 있어서, 상기 컨덴싱 플라이 아이는 직경 1㎜ 이하의 광섬유가 밀집충적된 것을 특징으로 하는 반도체 스테퍼장비의 조명계.