KR960019820A - 결정 입계 채널을 갖는 초전도 전계효과 소자와 그 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 결정 입계 채널을 갖는 초전도 전계 효과 소자의 제조 방법에 관한 것으로, 본 발명의 방법은, 산화물 단결정 기판을 준비하는 공정과; 상기 산화물 단결정 기판의 주표면 위에 제1의 고온 초전도 박막을 증착하는 공정과; 상기 제1의 고온 초전도 박막을 패터닝하여 개구를 갖는 패턴된 초전도 박막을 형성하는 공정과; 그 위에 제1의 소정의 온도에서 밑틀층을 증착하는 공정과; 이 밑틀층을 선택적으로 에치 백하여 상기 밑틀층이 제거된 노출부와 상기 밑틀층이 증착된 성장부를 갖는 패턴된 밑틀층을 형성하는 공정과; 제2의 소정의 온도에서 제2의 고온 초전도 박막을 성장시켜 상기 노출부와 상기 밑틀층 사이에 그들의 배향 방위에 따라서 결정 입계를 형성하는 공정과; 상기 제2의 고온 초전도 박막 위에 절연층을 형성하여 상기 제2의 고온 초전도 박막이 대기 중에서의 특성으로 인해 열화되는 것을 방지하는 공정과; 상기 절연층을 선택적으로 에치 백하여 상기 개구 위에 형성된 증착부와 상기 패턴된 초전도 박막 위에 형성된 에치부들을 갖는 패턴된 절연층을 형성하는 공정과; 상기 패턴된 절연층 위에 게이트 절연층을 형성하는 공정 및; 그 위에는 금속 전극들을, 상기 에치부들 위에는 각각 소오스/드레인 전극들을, 그리고 상기 결정 입계 바로 위의 상기 게이트 절연층의 상기 증착부 위에는 게이트 전극을 코팅하는 공정으로 구성된다.
이렇게 제조되는 본 발명의 초전도 FET에 있어서는, 결정 입계 위에 직접적으로 게이트 전극이 형성되기 때문에, 게이트 절연층을 통해 인가되는 전압에 의해 소오스 및 드레인 사이의 전류 흐름을 제어할 수 있게 된다.
또한, 고가의 쌍결정 기판을 사용함이 없이 보다 저가의 산화물 단결정 기판에 채널로서 작용하는 결정 입계를 형성할 수 있기 때문에, 고온 초전도 FET를 경제적으로 제조할 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3H도는 본 발명의 일실시예에 따라 고온 초전도 전계효과 소자를 제조하는 공정들을 나타낸 단면도들.
Claims (16)
- 산화물 단결정 기판과; 상호간 전기적으로 격리되고, 각각이 소오스/드레인으로서 역할하는 제1의 고온 초전도 박막들과; 상기 제1의 고온 초전도 박막들 중 하나 위와 상기 기판의 노출된 표면 위에 형성되는 밑틀층과; 위에 상기 밑틀층이 존재하지 않는 그리고 c-축에 수직하게 배향되는 제1의 부분과, 위에 상기 밑틀층이 존재하는 그리고 c-축에 평행하게 배향되는 제2의 부분을 갖고, 그리고 상기 제1의 부분과 상기 제2의 부분 사이에 결정 입계가 형성되는 제2의 고온 초전도 박막과; 상기 제2의 고온 초전도 박막 위에 형성되는 게이트 절연층과; 상기 게이트 절연층 위에 형성되는 게이트 전극 및; 상기 제1의 고온 초전도 박막들 모두 위의 상기 제2의 고온 초전도 박막의 노출된 표면들 위에 형성되는 소오스 전극 및 드레인 전극을 포함하는 결정 입계 채널을 갖는 초전도 전계 효과 소자.
- 산화물 단결정 기판을 준비하는 공정과; 상기 산화물 단결정 기판의 주표면 위에 제1의 고온 초전도 박막을 증착하는 공정과; 상기 제1의 고온 초전도 박막을 패터닝하여 개구를 갖는 패턴된 초전도 박막을 형성하는 공정과; 그 위에 제1의 소정의 온도에서 밑틀층을 증착하는 공정과; 상기 밑틀층을 선택적으로 에치 백하여 상기 밑틀층이 제거된 노출부와 상기 밑틀층이 증착된 성장부를 갖는 패턴된 밑틀층을 형성하는 공정과; 제2의 소정의 온도에서 제2의 고온 초전도 박막을 성장시켜 상기 노출부와 상기 패턴된 밑틀층 사이에 그들의 배향 방위에 따라서 결정 입계를 형성하는 공정과; 상기 제2의 고온 초전도 박막 위에 절연층을 형성하여 상기 제2의 고온 초전도 박막이 대기 중에서의 특성으로 의해 열화되는 것을 방지하는 공정과; 상기 절연층을 선택적으로 에치 백하여 상기 개구 위에 형성된 증착부와 상기 패턴된 초전도 박막 위에 형성된 에치부들을 갖는 패턴된 절연층을 형성하는 공정과; 상기 패턴된 절연층 위에 게이트 절연층을 형성하는 공정 및; 그 위에는 금속 전극들을, 상기 에치부들 위에는 각각 소오스/드레인 전극들을, 그리고 상기 결정 입계 바로 위의 상기 게이트 절연층의 상기 증착부 위에는 게이트 전극을 코팅하는 공정을 포함하는 결정 입계 채널을 갖는 초전도 전계 효과 소자의 제조 방법.
- 제2항에 있어서, 상기 산화물 단결정 기판은 초전도체들의 산화물류의 재질들 중 하나로 구성되는 결정 입계 채널을 갖는 초전도 전계 효과 소자의 제조 방법.
- 제3항에 있어서, 상기 초전도체들의 산화물류는 SrTi03의 (100)-배향 절연 기판, 또는 LaSrGaO4의 (100)-배형 절연 기판을 포함하는 결정 입계 채널을 갖는 초전도 전계 효과 소자의 제조 방법.
- 제2항에 있어서, 상기 제1의 고온 초전도 박막을 형성하는 상기 공정은 750℃에서 800℃까지의 기판 온도에서와 약 100mTorr의 산소 압력 하에서 수행되어서 약 100nm의 두께를 갖는 밑틀층을 형성하는 결정 입계 채널을 갖는 초전도 전계 효과 소자의 제조 방법.
- 제2항에 있어서, 상기 밑틀층은 PrBa2Cu3O7-x(O≤x≤7)로 구성되는 결정 입계 채널을 갖는 초전도 전계 효과 소자의 제조 방법.
- 제2항에 있어서, 상기 밑틀층을 증각하는 상기 공정은 600℃에서 650℃까지의 기판 온도에서와 약 100mTorr의 산소 압력 하에서 수행되어서 약 200nm의 두께를 갖는 밑틀층을 형성하는 결정 입계 채널을 갖는 초전도 전계 효과 소자의 제조 방법.
- 제2항에 있어서, 상기 제2의 초전도 박막을 성장시키는 상기 공정은 750℃에서 800℃까지의 기판온도와 약 100mTorr의 산소 압력 하에서 수행되어서 약 100nm의 두께를 갖는 상기 제2의 초전도 박막을 형성하는 결정 입계 채널을 갖는 초전도 전계 효과 소자의 제조방법.
- 제2항에 있어서, 상기 제2의 초전도 박막은 상기 밑틀층의 상기 노출부 위에 고온 초전도 물질이 c-축에 수직하게 배향되는 제1의 부분과, 상기 밑틀층의 상기 성장부 위에 고온 초전도 물질이 c-축에 수평하게 배향되는 제2의 부분 및, 상기 제1 및 제2의 부분들 사이에 형성되는 결정 입계를 가지는 결정 입계 채널을 갖는 초전도 전계 효과 소자의 제조 방법.
- 제2항에 있어서, 상기 제2의 초전도 박막을 성장시키는 상기 공정은 상기 밑틀층의 상기 노출부 위에 c-축에 수직하는 배향 방위를 갖는 고온 초전도 물질을 증착하는 단계 및, 상기 밑틀층의 상기 성장부 위에 c-축에 수직하는 배향 방위를 갖는 고온 초전도 물질을 증착하는 단계를 포함하고, 이로써, 상기 결정 입계가 수직-수평 배향 방위를 갖는 물질들 사이에 형성되도록 하는 결정 입계 채널을 갖는 초전도 전제효과 소자의 제조 방법.
- 제2항에 있어서, 상기 제2의 초전도 박막은 YBa2Cu3O7-X(0≤x≤7)로 구성되는 결정 입계 채널을 갖는 초전도 전계 효과 소자의 제조 방법.
- 제2항에 있어서, 상기 절연층을 형상하는 상기 공정은 650℃에서 700℃까지의 기판 온도에서와 약 100mTorr의 산소 압력 하에서 수행되어서 약 10nm의 두께를 갖는 절연층을 형성하는 결정 입계 채널을 갖는 초전도 전계 효과 소자의 제조 방법.
- 제2항에 있어서, 상기 절연층은 SrTi03로 구성되는 결정 입계 채널을 갖는 초전도 전계 효과 소자의 제조 방법.
- 제2항에 있어서, 상기 게이트 절연층을 형성하는 상기 공정은 650℃에서 700℃까지의 기관 온도에서와 약 100mTorr의 산소 압력 하에서 수행되어서 약 100nm의 두께를 갖는 게이트 절연층을 형성하는 결정입계 채널을 갖는 초전도 전계 효과 소자의 제조 방법.
- 제12항에 있어서, 상기 게이트 절연층은 SrTiO3로 구성되는 결정 입계 채널을 갖는 초전도 전계 효과 소자의 제조 방법.
- 제2항에 있어서, 상기 금속 전극들 각각은 약 100nm의 두께를 가지며 Ag 또는 Au로 구성되는 결정 입계 채널을 갖는 초전도 전계 효과 소자의 제조 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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DE4443800A DE4443800C2 (de) | 1994-11-28 | 1994-12-08 | Supraleitende Feldeffekteinrichtung mit Korngrenzenkanal und Verfahren zu ihrer Herstellung |
NL9402097A NL9402097A (nl) | 1994-11-28 | 1994-12-09 | Supergeleidende veldeffektinrichting met korrelgrens kanaal, en werkwijze voor het vervaardigen daarvan. |
JP6307902A JP2798361B2 (ja) | 1994-11-28 | 1994-12-12 | 結晶粒界チャンネルをもつ超伝導電界効果素子とその製造方法 |
US08/560,962 US5846846A (en) | 1994-11-28 | 1995-11-20 | Method for making a superconducting field-effect device with grain boundary channel |
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Families Citing this family (28)
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WO1997025748A1 (en) * | 1996-01-12 | 1997-07-17 | International Business Machines Corporation | Electronic device |
JP3699799B2 (ja) * | 1997-03-11 | 2005-09-28 | テルモ株式会社 | 血液検査具 |
US6693033B2 (en) | 2000-02-10 | 2004-02-17 | Motorola, Inc. | Method of removing an amorphous oxide from a monocrystalline surface |
US6501973B1 (en) | 2000-06-30 | 2002-12-31 | Motorola, Inc. | Apparatus and method for measuring selected physical condition of an animate subject |
US6427066B1 (en) * | 2000-06-30 | 2002-07-30 | Motorola, Inc. | Apparatus and method for effecting communications among a plurality of remote stations |
US6590236B1 (en) | 2000-07-24 | 2003-07-08 | Motorola, Inc. | Semiconductor structure for use with high-frequency signals |
US6555946B1 (en) | 2000-07-24 | 2003-04-29 | Motorola, Inc. | Acoustic wave device and process for forming the same |
US6638838B1 (en) | 2000-10-02 | 2003-10-28 | Motorola, Inc. | Semiconductor structure including a partially annealed layer and method of forming the same |
US6673646B2 (en) | 2001-02-28 | 2004-01-06 | Motorola, Inc. | Growth of compound semiconductor structures on patterned oxide films and process for fabricating same |
US6709989B2 (en) | 2001-06-21 | 2004-03-23 | Motorola, Inc. | Method for fabricating a semiconductor structure including a metal oxide interface with silicon |
US6531740B2 (en) | 2001-07-17 | 2003-03-11 | Motorola, Inc. | Integrated impedance matching and stability network |
US6646293B2 (en) | 2001-07-18 | 2003-11-11 | Motorola, Inc. | Structure for fabricating high electron mobility transistors utilizing the formation of complaint substrates |
US6693298B2 (en) | 2001-07-20 | 2004-02-17 | Motorola, Inc. | Structure and method for fabricating epitaxial semiconductor on insulator (SOI) structures and devices utilizing the formation of a compliant substrate for materials used to form same |
US6498358B1 (en) | 2001-07-20 | 2002-12-24 | Motorola, Inc. | Structure and method for fabricating an electro-optic system having an electrochromic diffraction grating |
US6585424B2 (en) | 2001-07-25 | 2003-07-01 | Motorola, Inc. | Structure and method for fabricating an electro-rheological lens |
US6667196B2 (en) | 2001-07-25 | 2003-12-23 | Motorola, Inc. | Method for real-time monitoring and controlling perovskite oxide film growth and semiconductor structure formed using the method |
US6594414B2 (en) | 2001-07-25 | 2003-07-15 | Motorola, Inc. | Structure and method of fabrication for an optical switch |
US6589856B2 (en) | 2001-08-06 | 2003-07-08 | Motorola, Inc. | Method and apparatus for controlling anti-phase domains in semiconductor structures and devices |
US6639249B2 (en) | 2001-08-06 | 2003-10-28 | Motorola, Inc. | Structure and method for fabrication for a solid-state lighting device |
US6673667B2 (en) | 2001-08-15 | 2004-01-06 | Motorola, Inc. | Method for manufacturing a substantially integral monolithic apparatus including a plurality of semiconductor materials |
US20030102470A1 (en) * | 2001-08-30 | 2003-06-05 | Evgeni Il'ichev | Oxygen doping of josephson junctions |
US20030071327A1 (en) * | 2001-10-17 | 2003-04-17 | Motorola, Inc. | Method and apparatus utilizing monocrystalline insulator |
AU2006236905B2 (en) * | 2005-04-15 | 2010-06-03 | The Government Of The United States Of America, As Represented By The Secretary, Department Of Health And Human Services | Methods and compositions for producing an enhanced immune response to a human papillomavirus immunogen |
US9768371B2 (en) | 2012-03-08 | 2017-09-19 | D-Wave Systems Inc. | Systems and methods for fabrication of superconducting integrated circuits |
EP4142457A1 (en) | 2017-02-01 | 2023-03-01 | D-Wave Systems Inc. | Systems and methods for fabrication of superconducting integrated circuits |
US20200152851A1 (en) | 2018-11-13 | 2020-05-14 | D-Wave Systems Inc. | Systems and methods for fabricating superconducting integrated circuits |
CN110512286A (zh) * | 2019-08-26 | 2019-11-29 | 清华大学 | 交流退火制备FeSe多晶界超导薄膜的方法 |
US11563162B2 (en) * | 2020-01-09 | 2023-01-24 | International Business Machines Corporation | Epitaxial Josephson junction transmon device |
Family Cites Families (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5057485A (en) * | 1987-05-15 | 1991-10-15 | Hitachi, Ltd. | Light detecting superconducting Josephson device |
JPH02130969A (ja) * | 1988-11-11 | 1990-05-18 | Seiko Epson Corp | ジョセフソン接合の製造方法 |
US5358927A (en) * | 1990-05-31 | 1994-10-25 | Bell Communications Research, Inc. | Growth of a,b-axis oriented pervoskite thin films |
JPH0484469A (ja) * | 1990-07-27 | 1992-03-17 | Riken Corp | 三端子デバイス |
US5116072A (en) * | 1990-08-20 | 1992-05-26 | Swenson John C | Ball hitch with rotatable ball |
EP0478466B1 (en) * | 1990-09-27 | 1995-11-08 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | A superconducting device and a method for manufacturing the same |
CA2052379C (en) * | 1990-09-27 | 1997-01-07 | Takao Nakamura | Superconducting device having an extremely thin superconducting channel formed of oxide superconductor material |
DE69119022T2 (de) * | 1990-10-08 | 1996-10-31 | Sumitomo Electric Industries | Supraleitende Einrichtung mit ultradünnem Kanal aus oxydisch supraleitendem Material und Verfahren zu deren Herstellung |
DE69109054T3 (de) * | 1990-10-29 | 2002-05-02 | Sumitomo Electric Industries | Supraleitende Einrichtung mit extrem kurzer supraleitender Kanallänge aus oxydisch supraleitendem Material und Verfahren zu deren Herstellung. |
DE69118106T2 (de) * | 1990-10-31 | 1996-10-31 | Sumitomo Electric Industries | Aus extrem dünnem supraleitendem Oxydfilm gebildete supraleitende Einrichtung mit extrem kurzem Kanal und Verfahren zu dessen Herstellung |
CA2054795C (en) * | 1990-11-01 | 1996-08-06 | Hiroshi Inada | Superconducting device having an extremely thin superconducting channel formed of oxide superconductor material and method for manufacturing the same |
DE69132972T2 (de) * | 1991-01-07 | 2003-03-13 | Ibm | Supraleitender Feldeffekttransistor mit inverser MISFET-Struktur und Verfahren zu dessen Herstellung |
JPH05251773A (ja) * | 1991-12-02 | 1993-09-28 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ジョセフソン素子とその作製方法 |
US5157466A (en) * | 1991-03-19 | 1992-10-20 | Conductus, Inc. | Grain boundary junctions in high temperature superconductor films |
DE69117503T2 (de) * | 1991-07-19 | 1996-09-19 | Ibm | Verbesserter supraleitender Feldeffekt-Transistor mit inverser MISFET-Struktur und Verfahren zu dessen Herstellung |
DE69210150T2 (de) * | 1991-08-26 | 1996-10-31 | Sumitomo Electric Industries | Supraleitende Einrichtung mit extrem dünnen supraleitenden Kanal aus oxydisch supraleitendem Material und Verfahren zu deren Herstellung |
JPH05251771A (ja) * | 1991-12-02 | 1993-09-28 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 人工粒界型ジョセフソン接合素子およびその作製方法 |
US5274249A (en) * | 1991-12-20 | 1993-12-28 | University Of Maryland | Superconducting field effect devices with thin channel layer |
JPH05291637A (ja) * | 1992-04-09 | 1993-11-05 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 超電導電界効果型素子 |
JPH05335638A (ja) * | 1992-05-29 | 1993-12-17 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ジョセフソン接合構造体およびその作製方法 |
CA2099640A1 (en) * | 1992-06-24 | 1993-12-25 | Michitomo Iiyama | Superconducting device having a superconducting channel formed of oxide superconductor material and method for manufacturing the same |
JP2708671B2 (ja) * | 1992-07-28 | 1998-02-04 | 日本電信電話株式会社 | 超伝導薄膜粒界接合素子の製造方法。 |
EP0973208B1 (en) * | 1992-07-28 | 2005-04-27 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Lattice matching device and method for fabricating the same |
US5358928A (en) * | 1992-09-22 | 1994-10-25 | Sandia Corporation | High temperature superconductor step-edge Josephson junctions using Ti-Ca-Ba-Cu-O |
JPH06112538A (ja) * | 1992-09-30 | 1994-04-22 | Fuji Electric Co Ltd | 超電導素子 |
US5273136A (en) * | 1992-12-18 | 1993-12-28 | Chrysler Corporation | Lubrication system for a north-south automatic transaxle |
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1994
- 1994-11-28 KR KR1019940031493A patent/KR0148596B1/ko not_active IP Right Cessation
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Also Published As
Publication number | Publication date |
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JP2798361B2 (ja) | 1998-09-17 |
NL9402097A (nl) | 1996-07-01 |
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