KR960006065A - 인터라인 전달 ccd 이미지 센서의 화소배열구조를 가진 고체촬상장치 - Google Patents

인터라인 전달 ccd 이미지 센서의 화소배열구조를 가진 고체촬상장치 Download PDF

Info

Publication number
KR960006065A
KR960006065A KR1019950021950A KR19950021950A KR960006065A KR 960006065 A KR960006065 A KR 960006065A KR 1019950021950 A KR1019950021950 A KR 1019950021950A KR 19950021950 A KR19950021950 A KR 19950021950A KR 960006065 A KR960006065 A KR 960006065A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
region
solid state
conductivity type
transfer gate
imaging device
Prior art date
Application number
KR1019950021950A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100233185B1 (ko
Inventor
노부히꼬 무또
노부까즈 데라니시
Original Assignee
가네꼬 히사시
닛뽕덴끼 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 가네꼬 히사시, 닛뽕덴끼 가부시끼가이샤 filed Critical 가네꼬 히사시
Publication of KR960006065A publication Critical patent/KR960006065A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100233185B1 publication Critical patent/KR100233185B1/ko

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/148Charge coupled imagers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/148Charge coupled imagers
    • H01L27/14831Area CCD imagers
    • H01L27/14843Interline transfer

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)

Abstract

고체촬상장치는, 제2전도형 축적영역(3) 및 제1전도형 표면층(4)을 가지는 포토다이오드부(30)와, 제2전도형의 매입층(6) 및 복수개의 전달전극(10)을 가지는 수직 CCD 레지스터(32)와, 전달 게이트 전극(20)을 가지는 전달 게이트(31)을 구비한다. 제2전도형 채널 제어 영역(13)은 전달 게이트(31)에 의해 덮혀진 반도체 기판영역의 표면에 제공된다, 전달 게이트의 반도체 기판 영역의 표면 부분에 제2전도형의 채널 제어 영역을 제공함으로서, 축적영역으로부터 매입층으로 전하를 독출하는 전하 독출 채널이 쉽게 형성될 수 있다. 따라서, 독출전압을 감소시키거나 전달 게이트의 게이트 길이를 감소시킬 수 있다.

Description

인터라인 전달 CCD 이미지 센서의 화소배열구조를 가진 고체촬상장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명에 따른 실시예의 고체 이미징 장치의 주요부분을 나타내는 단면도.

Claims (3)

  1. 고체촬상장치에 있어서, 반도체 기판(1)의 제1전도형 영역의 표면부에 제공된 제1전도형의 축적영역(3)과 상기 축적영역(3)의 표면에 형성된 제1전도형의 표면층(4)을 포함하는 포토다이오드부(30)와, 상기 제1전도형 영역(2)의 표면부분에 상기 축적영역(3)과 소정의 거리만큼 떨어져서 형성된 제2전도형의 매입층(6)과 상기 매입층(6)과 교차하는 복수개의 전달 전극(10)을 포함하는 수작 CCD 레지스터(32)와, 상기 축적영역(3)과 상기 매입층(6) 사이의 반도체 기판 영역의 표면을 사이에 끼워진 게이트 절연막(9)과 함게 덮고 전달 게이트 전극(20)을 포함하는 전달 게이트(31)와, 상기 전달 게이트(31)에 의해 덮혀진 반도체 기판 영역의 표면에 제공된 제2전도형의 채널 제어 영역(13)을 구비하는 고체촬상장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1전도형은 P형이고 상기 제2전도형은 N형인 것을 특징으로 하는 고체촬상장치.
  3. 제1항에 있어서, 축적영역(3)의 저부가 매입층(6)의 저부보다 반도체 기판의 표면에서 더 크에 떨어져 있는 것을 특징으로 하는 고체촬상장치.
    ※참고사항:최초출원 내용에 의하여 공개되는 것임.
KR1019950021950A 1994-07-28 1995-07-24 인터라인 전달 ccd 이미지 센서의 화소배열구조를 가진 고체촬상장치 KR100233185B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6176388A JP3062010B2 (ja) 1994-07-28 1994-07-28 固体撮像装置
JP94-176388 1994-07-28

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR960006065A true KR960006065A (ko) 1996-02-23
KR100233185B1 KR100233185B1 (ko) 1999-12-01

Family

ID=16012784

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019950021950A KR100233185B1 (ko) 1994-07-28 1995-07-24 인터라인 전달 ccd 이미지 센서의 화소배열구조를 가진 고체촬상장치

Country Status (3)

Country Link
US (1) US5774182A (ko)
JP (1) JP3062010B2 (ko)
KR (1) KR100233185B1 (ko)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR0186183B1 (ko) * 1995-12-19 1999-03-20 문정환 컬러 고체촬상소자
JP3440722B2 (ja) * 1996-09-20 2003-08-25 ソニー株式会社 固体撮像装置およびその駆動方法並びにカメラ
JP3033524B2 (ja) * 1997-05-23 2000-04-17 日本電気株式会社 固体撮像装置
US6278169B1 (en) 1998-05-07 2001-08-21 Analog Devices, Inc. Image sensor shielding
US6570615B1 (en) 1998-07-14 2003-05-27 Analog Devices, Inc. Pixel readout scheme for image sensors
US6512546B1 (en) * 1998-07-17 2003-01-28 Analog Devices, Inc. Image sensor using multiple array readout lines
KR100663354B1 (ko) * 2005-01-25 2007-01-02 삼성전자주식회사 포토레지스트 스트리퍼 조성물을 이용한 포토레지스트 제거공정을 갖는 반도체소자 제조방법들
JP2008153428A (ja) * 2006-12-18 2008-07-03 Fujifilm Corp 固体撮像素子及びその製造方法
US9979905B2 (en) 2015-11-17 2018-05-22 Microsoft Technology Licensing, Llc. Multimode photosensor
CN114975498A (zh) * 2022-05-09 2022-08-30 长春长光辰芯光电技术有限公司 一种尺寸可拓展的cmos图像传感器像素及电子设备

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62155559A (ja) * 1985-12-27 1987-07-10 Toshiba Corp 固体撮像装置
JP2822393B2 (ja) * 1988-07-30 1998-11-11 ソニー株式会社 固体撮像装置及びその駆動方法
JP3097121B2 (ja) * 1990-09-27 2000-10-10 ソニー株式会社 電荷/電圧変換効率の測定方法
JP2644937B2 (ja) * 1991-09-20 1997-08-25 松下電子工業株式会社 固体撮像装置およびその製造方法
JP3153934B2 (ja) * 1992-06-01 2001-04-09 ソニー株式会社 固体撮像装置
JPH06209099A (ja) * 1993-01-07 1994-07-26 Nec Corp 固体撮像素子

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0846168A (ja) 1996-02-16
KR100233185B1 (ko) 1999-12-01
US5774182A (en) 1998-06-30
JP3062010B2 (ja) 2000-07-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR830006824A (ko) 고체촬상소자
KR960002874A (ko) 증폭형 광전변환소자, 이를 이용한 증폭형 고체촬상장치. 및 증폭형 광전변환소자의 제조방법
KR880001065A (ko) 고체촬상소자
KR890004983B1 (ko) 고체 촬상소자
KR960006065A (ko) 인터라인 전달 ccd 이미지 센서의 화소배열구조를 가진 고체촬상장치
JPH04500438A (ja) 2重ゲート型抗曇り構造を備えたccd撮像器
JPS62126667A (ja) 固体撮像素子
KR910013594A (ko) 고체촬상장치와 그 제조방법
KR890015432A (ko) 고체촬상장치
KR830008400A (ko) 고체촬상 장치
AU2003253215A1 (en) Image sensor, camera system comprising the image sensor and method of manufacturing such a device
EP0383210A1 (en) Charge transfer device achieving a large charge transferring efficiency without sacrifice of dynamic range of output signal level
KR930020967A (ko) 고체촬상소자
JPH0412068B2 (ko)
KR950013197A (ko) 저저항 게이트전극을 갖는 고체 촬상소자 및 그 제조방법
KR970077710A (ko) 고체촬상장치
KR920003538A (ko) 고체촬상장치
JP3048011B2 (ja) 電荷結合素子
JPS60244063A (ja) 固体撮像素子
US4665420A (en) Edge passivated charge-coupled device image sensor
JPS58220573A (ja) 固体撮像装置
JP2611634B2 (ja) 電荷転送素子
JPS5869180A (ja) 二次元半導体画像センサ
JP2583897B2 (ja) 固体撮像装置およびその駆動方法
JPS62260362A (ja) 固体撮像装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
J201 Request for trial against refusal decision
AMND Amendment
B701 Decision to grant
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20100825

Year of fee payment: 12

LAPS Lapse due to unpaid annual fee