JP3153934B2 - 固体撮像装置 - Google Patents

固体撮像装置

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JP3153934B2 JP16539292A JP16539292A JP3153934B2 JP 3153934 B2 JP3153934 B2 JP 3153934B2 JP 16539292 A JP16539292 A JP 16539292A JP 16539292 A JP16539292 A JP 16539292A JP 3153934 B2 JP3153934 B2 JP 3153934B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、固体撮像装置に関し、
特に、センサ部に隣接してオーバーフロードレインを形
成したいわゆる横型オーバーフロードレイン構造を有す
る固体撮像装置に関する。
【0002】
【従来の技術】この種の固体撮像装置の一例として、C
CD(Charge Coupled Device) リニアセンサを図2に示
す。図2において、センサ列1の各センサ部2で発生し
た信号電荷は、読出しゲート(ROG)3とオーバーフ
ローコントロールゲート(OFCG)4及びセンサ部2
間に形成されたチャネルストップ部14(図1(b)を
参照)によって囲まれた領域に蓄積される。
【0003】各センサ部2に蓄積された電荷は、読出し
ゲート3によって電荷転送路5に読み出されて出力部6
側に転送される一方、オーバーフローコントロールゲー
ト4を介してオーバーフロードレイン(OFD)8に掃
き捨てられる。かかるCCDリニアセンサの場合のよう
に、オーバーフロードレイン構造を有する固体撮像装置
では、その出力電圧‐入射光量の特性を示す図6から明
らかなように、オーバーフロー点を越えると対数特性を
示すことが知られている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】このため、オーバーフ
ロードレイン構造を有する従来の固体撮像装置では、出
力電圧として、対数特性を示すオーバーフロー領域を避
けてリニアな特性を示す領域のみを使用していた。した
がって、センサ部のダイナミックレンジは、オーバーフ
ロー点までの入射光量で決まってしまい、ダイナミック
レンジの拡大に限界があった。
【0005】本発明は、上述した点に鑑みてなされたも
のであり、対数特性を示すオーバーフロー領域を積極的
に活用することにより、センサ部の入射光量に対するダ
イナミックレンジの拡大を可能とした固体撮像装置を提
供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明による固体撮像装
置は、入射光に応じて発生した電荷を蓄積するセンサ部
と、このセンサ部に隣接して形成されたオーバーフロー
ドレインと、センサ部に蓄積された電荷をオーバーフロ
ードレインに掃き出すオーバーフローコントロールゲー
トとを具備し、センサ部とオーバーフローコントロール
ゲートとの間に存在するポテンシャルバリアのポテンシ
ャルを、オーバーフローコントロールゲートのポテンシ
ャルの設定により制御することによって出力電圧−入射
光量の特性として任意の対数特性を得る構成を採ってい
る。
【0007】
【作用】センサ部とオーバーフローコントロールゲート
との間に存在するポテンシャルバリアのポテンシャル
制御することによって少ない入射光量で出力電圧−入射
光量の特性として対数特性を得、この対数特性を示すオ
ーバーフロー領域の出力を使用することで、入射光量に
対するダイナミックレンジを拡大する。特に、センサ部
がHAD(Hole Accumulated Diode) センサ構造のもの
では、オーバーフローコントロールゲートのゲート電極
をマスクとして不純物を打ち込むことから、その後の熱
工程等において不純物がオーバーフローコントロールゲ
ートへ拡散することによってセンサ部とオーバーフロー
コントロールゲートとの間にディップができ、ポテンシ
ャルバリアとなる。したがって、オーバーフローコント
ロールゲートのポテンシャルをセンサ部のポテンシャル
よりも深く設定することで、少ない入射光量で出力電圧
−入射光量の特性として対数特性を得ることができるよ
うに、ディップのポテンシャルを設定する。
【0008】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。図2は、本発明が適用される横型オーバー
フロードレイン構造を持つリニアセンサの一例の構成図
である。このリニアセンサでは、センサ列1の各センサ
部2で光電変換によって発生した信号電荷が、読出しゲ
ート3とオーバーフローコントロールゲート4及び各セ
ンサ部2を分離しているチャネルストップ部14によっ
て囲まれた領域に蓄積される構造を採っている。
【0009】センサ列1の各センサ部2に蓄積された電
荷は、ゲート端子11から入力される読出しパルスφro
g によって読出しゲート3を介して電荷転送路5に読み
出される。電荷転送路5は、シフトレジスタによって構
成され、2相のクロックパルスφ1,φ2による2相駆
動によって電荷を順次転送する。電荷転送路5の出力端
には、例えばフローティング・ディフュージョン・アン
プ構成の出力部6が設けられている。そして、転送され
た電荷は、出力部6で電圧に変換されて出力端子7から
導出される。
【0010】センサ列1に対して電荷転送路5の反対側
にはオーバーフロードレイン8が配置されて横型オーバ
ーフロードレインを構成している。このオーバーフロー
ドレイン8は電気的に抵抗が低くなっており、ドレイン
端子9に与えられた電位(ポテンシャル)VD に固定さ
れる。そのポテンシャルをセンサ部2よりも深くしてお
く一方、ゲート端子10に所定の直流電圧VG を印加し
てオーバーフローコントロールゲート4にポテンシャル
バリアを形成しておく。すると、各センサ部2に蓄積さ
れている電荷は、オーバーフローコントロールゲート4
のポテンシャルバリアを越えた分だけオーバーフロード
レイン8の方に流れ出していく。この流れ出した電荷
は、オーバーフロードレイン8を通じて排出される。
【0011】図1は本発明の一実施例を示す構成図であ
り、図(a)に図2のA‐A′矢視断面構造を、図
(b)にその要部の平面パターンを示す。図1におい
て、センサ部2は、入射光に応じて発生した電荷を蓄積
するN+ 型不純物層からなる電荷蓄積層13上に、感度
の向上と表面暗電流を抑える目的で積層されたP+ 型不
純物層からなる正孔蓄積層12を有するHADセンサ構
造を採っている。このHADセンサ構造のセンサ部2に
おいて、正孔蓄積層12の下に存在するN型半導体層
(電荷蓄積層13)とP型半導体層が、光電変換を行う
フォトダイオードの役割をなしている。
【0012】正孔蓄積層12の形成に際しては、図3に
示すように、オーバーフローコントロールゲート4のゲ
ート電極15をマスクとして用い、オーバーフローコン
トロールゲート4に対してセルフアラインで正孔蓄積層
12を形成するようにイオン注入が行われる。
【0013】ところで、上述したようにしてイオン注入
されたP+ 型不純物(一般には、ホウ素)は、イオン注
入工程以降の熱工程等において拡散し、図3から明らか
なように、ゲート電極15の下に入り込んでしまう。こ
れにより、正孔蓄積層12が接地レベルに固定され、仮
想電極の役割を果たすことから、図4のポテンシャル図
に見られるように、オーバーフローコントロールゲート
4のP+ 型不純物が拡散したエッジ部分にディップ16
ができ、ポテンシャルバリアとなる。
【0014】このディップ16を考慮して、本発明にお
いては、センサ部2とディップ16との間に適当なポテ
ンシャル差φBOが生ずるように、好ましくはオーバーフ
ローコントロールゲート4のポテンシャルφG がセンサ
部2のポテンシャルφS よりも深くなるように、オーバ
ーフローコントロールゲート4のポテンシャルφG を設
定する。このときのポテンシャルを図4に示す。オーバ
ーフローコントロールゲート4のポテンシャルφG の設
定は、オーバーフローコントロールゲート4のイオン注
入のドーズ量又はゲート電極15に印加するゲートパル
スφcgの直流電圧の調整によって行える。
【0015】上述した構成のリニアセンサにおいて、セ
ンサ部2に光が入射すると、その光の強さに応じた電荷
がセンサ部2に溜まる。このセンサ部2に溜まった電荷
は、読出しゲート3に読出しパルスφrog が印加される
ことによって電荷転送路5に転送される一方、センサ部
2が一杯にならなくても拡散によってオーバーフローコ
ントロールゲート4へ流れる。この拡散電流が流れるこ
とによって先述した対数特性が得られ、拡散電流を制御
することによって任意の対数特性が得られる。
【0016】すなわち、オーバーフローコントロールゲ
ート4のポテンシャルφG を、センサ部2のポテンシャ
ルφS よりも深くなるように設定することにより、図6
に示す従来の出力電圧‐入射光量特性よりも、少ない入
射光量で対数特性を得ることができるように、センサ部
2とオーバーフローコントロールゲート4との間にでき
るディップ16のポテンシャルを設定できる。本発明に
係る出力電圧‐入射光量の特性を図5に示す。
【0017】このように、ディップ16のポテンシャル
を適当に設定することにより、少ない入射光量で対数特
性を得ることができるため、同じ出力電圧V1 でより多
い入射光量を扱えることになる。換言すれば、より少な
い入射光量で対数特性を得て、この対数特性を示すオー
バーフロー領域を積極的に活用することにより、入射光
量に対するダイナミックレンジを拡大できることにな
る。
【0018】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、特にセンサ部がHADセンサ構造の固体撮像装置
において、センサ部とオーバーフローコントロールゲー
トとの間にできるディップによるポテンシャルバリア
ポテンシャルを制御することによって少ない入射光量で
出力電圧−入射光量の特性として対数特性を得て、この
対数特性を示すオーバーフロー領域を積極的に活用する
ようにしたので、入射光量に対するダイナミックレンジ
を拡大できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示す構成図であり、図
(a)に図2のA‐A′矢視断面構造を、図(b)にそ
の要部の平面パターンを示す。
【図2】横型オーバーフロードレイン構造を有するリニ
アセンサの構成図である。
【図3】HADセンサ構造の場合のイオン注入工程を示
す構成図である。
【図4】本発明に係るポテンシャル図である。
【図5】本発明に係る出力電圧‐入射光量の特性図であ
る。
【図6】従来の出力電圧‐入射光量の特性図である。
【符号の説明】
1 センサ列 2 センサ部 3 読出しゲート 4 オーバーフローコントロールゲート 5 電荷転送路 8 オーバーフロードレイン 12 正孔蓄積層 13 電荷蓄積層 14 チャネルストップ部 16 ディップ
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H04N 5/335 H01L 27/14

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 入射光に応じて発生した電荷を蓄積する
    センサ部と、 前記センサ部に隣接して形成されたオーバーフロードレ
    インと、 前記センサ部に蓄積された電荷を前記オーバーフロード
    レインに掃き出すオーバーフローコントロールゲートと
    を具備し、前記センサ部と 前記オーバーフローコントロールゲート
    との間に存在するポテンシャルバリアのポテンシャル
    を、前記オーバーフローコントロールゲートのポテンシ
    ャルの設定により制御することによって出力電圧−入射
    光量の特性として任意の対数特性を得るようにしたこと
    を特徴とする固体撮像装置。
  2. 【請求項2】 前記オーバーフローコントロールゲート
    のポテンシャルを前記センサ部のポテンシャルよりも深
    くなるように設定したことを特徴とする請求項1記載の
    固体撮像装置。
  3. 【請求項3】 前記オーバーフローコントロールゲート
    のイオン注入のドーズ量又はそのゲート電極に印加する
    直流電圧によって前記オーバーフローコントロールゲー
    トのポテンシャルを設定することを特徴とする請求項2
    記載の固体撮像装置。
  4. 【請求項4】 前記センサ部は、入射光に応じて発生し
    た電荷を蓄積する領域上に積層された正孔蓄積層を有す
    ることを特徴とする請求項1又は2記載の固体撮像装
    置。
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