KR960005886A - 바이폴라 소자 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 메몰층과 메몰층의 사이에 산화막을 사용하여 격리시킴으로서 소자면적을 감소시키고 회로의 동작속도를 증가하도록 하는 바이폴라 소자 제조방법에 관한 것이다.
본 발명은 바이폴라 소자의 제조방법에 있어서, 가)반도체기판 위에 제1장벽산화막과 제1질화막을 차례로 증착하고 격리영역을 형성할 부위의 제1질화막, 제1장벽산화막을 사진식각공정으로 차례로 식각한 후 기판을 소정의 깊이로 식각하여 기판의 오픈부위를 형성하는 단계와, 나) 채널스톱층을 형성할 불순물이온을 주입하고 기판의 오픈 부위에 격리층을 형성하는 단계와, 다) 메몰층 영역을 사진식각공정으로 노출시켜 메몰층을 형성하는 단계와, 라) 기판 전면에 에피층을 형성하고, 에피층 위에 제2장벽산화막과 제2질화막을 증착하는 단계와, 마)제1절연체 상부의 제2질화막과 제2장벽산화막을 일부 식각하는 단계와, 바) 이온주입한 후, 산화시켜 제1절연체의 상부에 제2산화막을 형성하는 단계를 포함하는 바이폴라 소자 제조방법이다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명의 기술의 주요공정도이다.
Claims (9)
- 바이폴라 소자의 제조방법에 있어서, 가)반도체기판 위에 제1장벽산화막과 제1질화막을 차례로 증착하고 격리영역을 형성할 부위의 제1질화막, 제1장벽산화막을 사진식각공정으로 차례로 식각한 후 기판을 소정의 깊이로 식각하여 기판의 오픈부위를 형성하는 단계와, 나) 채널스톱층을 형성할 불순물이온을 주입하고 기판의 오픈 부위에 격리층을 형성하는 단계와, 다) 메몰층 영역을 사진식각공정으로 노출시켜 메몰층을 형성하는 단계와, 라) 기판 전면에 에피층을 형성하고, 에피층 위에 제2장벽산화막과 제2질화막을 증착하는 단계와, 마)제1절연체 상부의 제2질화막과 제2장벽산화막을 일부 식각하는 단계와, 바) 이온주입한 후, 산화시켜 제1절연체의 상부에 제2산화막을 형성하는 단계를 포함하는 바이폴라 소자 제조방법.
- 제1항에 있어서, 가)단계에서 격리층은 비전도성 재질로 형성하는 것이 특징인 바이폴라 소자 제조방법.
- 제2항에 있어서, 상기 비전도성물질은 산화막인 것을 특징인 바이폴라 소자 제조방법.
- 제3항에 있어서, 상기 산화막은 오픈부위의 기판을 선택적산화 (LOCOS) 공정으로 산화하여서 형성하는 것이 특징인 바이폴라 소자 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 나)단계에서 불순물이온은 보론이온을 사용하는 것이 특징인 바이폴라 소자 제조방법.
- 제4항에 있어서, 상기 오픈부위의 기판은 형성할 메몰층의 깊이의 1/3깊이로 식각한 것이 특징인 바이폴라 소자 제조방법.
- 제1항에 있어서, 마)단계 이후에 제1절연체 상부의 에피층을 식각하는 단계를 추가하는 것이 특징인 바이폴라 소자 제조방법.
- 제1항에 있어서, 바)단계의 제2산화막의 최종두께는 상기 에피층의 두께 이상으로 조절하는 것이 특징인 바이폴라 소자 제조방법.
- 제1항에 있어서, 다)단계의 식각공정에서 제1절연체를 구성하는 글래스를 함께 제거하는 것이 특징인 바이폴라 소자 제조방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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KR1019940017446A KR0140444B1 (ko) | 1994-07-20 | 1994-07-20 | 바이폴라 소자 제조방법 |
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KR0140444B1 KR0140444B1 (ko) | 1998-07-15 |
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ID=19388355
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Country Status (1)
Country | Link |
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KR (1) | KR0140444B1 (ko) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100450370B1 (ko) * | 2000-06-02 | 2004-09-30 | 주식회사 원진 | 돌로마이트질 무수 부정형 라이닝재 및 그 시공방법 |
KR100694265B1 (ko) * | 2000-12-21 | 2007-03-14 | 재단법인 포항산업과학연구원 | 알루미나 내화갑에 지르코니아를 습식코팅하는 방법 |
-
1994
- 1994-07-20 KR KR1019940017446A patent/KR0140444B1/ko not_active IP Right Cessation
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR100450370B1 (ko) * | 2000-06-02 | 2004-09-30 | 주식회사 원진 | 돌로마이트질 무수 부정형 라이닝재 및 그 시공방법 |
KR100694265B1 (ko) * | 2000-12-21 | 2007-03-14 | 재단법인 포항산업과학연구원 | 알루미나 내화갑에 지르코니아를 습식코팅하는 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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KR0140444B1 (ko) | 1998-07-15 |
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