KR960002688A - 열처리장치 - Google Patents

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KR960002688A
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와타루 오카세
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이노우에 아키라
도오교오 에레구토론 가부시끼가이샤
요시다 미쓰다카
도오교오 에레구토론 도오호쿠 가부시끼가이샤
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Abstract

아래편쪽으로부터 웨이퍼를 로딩하는 반응관 및 그 주위에 설치된 가열부를 갖춘 종형열처리장치, 혹은 반응관 속에 1개의 웨이퍼를 유지구에 얹어서 로딩하고 열처리를 하는 낱장식의 열처리장치에 있어서, 반응관의 예를 들면 2층의 적층구조로 하고, 열처리분위기에 접하는 내표면부인 제1층부를, 사염화규소 등의 규소화합물을 원료로 하는 합성석영 유리에 의하여 구성하고, 제1층부의 바깥쪽의 제2층부를 수정을 원료로 하는 용융석 영유리에 의하여 구성한다. 합성석영유리는 금속의 함유량이 매우 미량이기 때문에, 반응관이 고온에 쬐더라도 열처리분위기로의 금속의 비산량은 실질영이고, 더구나, 합성석영유리와 용융석영유리를 적층하고 있으므로 반응관의 내열성도 크다. 이에 의하여 피처리체 예를 들면 반도체 웨이퍼를 산화처리, 확산처리 기타의 열처리를 함에 당면하여서, 불순물 오염을 경감할 수 있다.

Description

열처리장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 열처리장치의 1실시예인 배치식 종형 열처리장치의 전체구성을 나타낸 종단면도,
제2도는 제1도에 나타낸 종형열처리장치에 사용하는 반응관의 일부확대 종단면도.

Claims (10)

  1. 피처리체를 반응용기내에 반이하여 열처리하는 장치에 있어서, 상기 반응용기가 열처리분위기에 접하고 내표면부를 형성하는 합성석영유리로 이루어진 제1층부와, 이 제1층부의 바깥쪽에 적층되고 용융석영유리로 이루어진 제2층부로 이루어진 열처리장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 반응용기의 제2층부가 불투명석영인 열처리장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 반응용기의 제2층부의 위에 다시 합성석영유리 혹은 용융석영유리로 이루어진 제3층부를 적층한 열처리장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 반응용기의 주위에 균열관을 배치한 열처리장치.
  5. 열처리분위기내 또는 열처리분위기에 연속하는 분위기내에는 유리구조물이 배치되고 피처리체를 반응용기내에 반입하여서 열처리하는 장치에 있어서, 상기 유리구조물의 적어도 일부가 열처리분위기 또는 열처리분위기에 연속하는 분위기에 접하는 합성석영유리로 이루어진 외층부와, 이 외층부의 안쪽에 적층되고, 용융석영유리로 이루어진 내층부로 이루어진 열처리장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 유리구조물이, 피처리체를 유지하는 피처리체 유지구인 열처리장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 피처리체 유지구가 웨이퍼보우트이며, 그 천정판, 바닥판 및 지주의 외층부가 합성석영유리, 내층부가 용융석영유리로 이루어진 열처리장치.
  8. 피처리체유지구를 중간개재부를 개재하여 승강하는 덮개체의 위에 얹어놓고, 다수의 피처리체를 피처리체 유지구에 상하로 선반형상으로 탑재하여서 반응관내에 반입함과 동시에 덮개체에 의하여 반응관의 하단 개구부를 밀폐하는 열처리장치에 있어서, 상기 중간개재부의 적어도 일부가 반응관내의 분위기에 접하는 합성석영유리로 이루어진 외층부와, 이 외층부의 안쪽에 적층되고 용융석영유리로 이루어진 내층부로 이루어진 열처리장치.
  9. 제8항에 있어서, 상기 중간개재부가 보온통인 열처리장치.
  10. 피처리체를 반응용기내에 반입하여 열처리하는 장치에 있어서, 상기 반응용기의 상면의 바로 아래쪽에 다수의 가스도입구멍을 갖춘 가스도입판을 일체로 형성함과 동시에, 이 가스도입판이 합성석영유리로 이루어진 상하 2층의 외층부와, 이 외층부의 내층쪽에 샌드위치형상으로 적층된 용융석영유리로 이루어진 내층부로 이루어진 열처리장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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