KR890013712A - 종형 열처리로 및 열처리 방법 - Google Patents
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Abstract
내용 없음.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본발명의 실시예에 관한 종형 열처리를 나타낸 단면도,
제2도는 제1도의 열처리로에 있어서, 프로세스 튜우브내에 보우트가 넣어져 있는 상태를 나타낸 도면,
제3도는 제1도의 열처리로에서이 히이터를 나타낸 종단면도.
Claims (11)
- 길이방향을 수직으로하여 배열 설치되고, 피처리체를 수용하여 소정의 조건에서 처리하기위한 프로세스 튜우브(20)와, 열처리시에 프로세스 튜우브(20)의 주위에 형성되어, 프로세스 튜우브(20)내의 피처리체를 가열하기 위한 가열수단과, 프로세스 튜우브(20) 및 가열수단의 상대적인 위치로만 변화시켜서 프로세스 튜우브(20)와 가열수단과를 격리시키기 위한 위치 변화 수단과를 구비하고 있는 종형 열처리로.
- 제1항에 있어서, 상기 위치 변화수단은, 상기 가열수단을 이동시키는 이동 장치를 갖고있는 종형 열처리로.
- 제2항에 있어서, 상기 이동 장치는, 상기 가열수단을, 열처리 위치와 그 윗쪽의 이탈 위치와의 사이에서 상하로 이동시키는 수직 이동 기구를 갖고 있는 종형 열처리로.
- 제3항에 있어서, 상기 이동 장치는, 가열수단을 상기 이탈 위치와 그 측면쪽의 후퇴 위치와의 사이에서 이동시키는 수평 이동 기구를 더욱 갖고있는 종형 열처리로.
- 제4항에 있어서, 상기 가열수단이 후퇴 위치에 있는 경우에, 가열수단을 보온하기 위한 보온수단을 갖고 있는 종형 열처리로.
- 제2항에 있어서, 상기 가열수단은, 열처리시에 조합되어 프로세스 튜우브(2O)의 주위를 에워싸는 2개의 가열부재와, 이들을 각각 개폐가 자유롭게 지지하는 지지부재와를 갖고, 냉각시에는 상기 가열부재가 지지부재를 중심으로하여 바깥쪽으로 회전운동되어서 프로세스 튜우브(2O)로부터 격리하는 종형 열처리로.
- 제1항에 있어서, 상기 피처리체를 튜우브(20) 내에 반입하고, 프로세스 튜우브 (20) 내에서 반출하기 위한 반입/반출수단을 더욱 갖고 있는 종형 열처리로.
- 길이 방향을 수직으로하여 배열 설치되고, 피처리체를 수용하여 소정의 조건에서 처리하기 위한 프로세스 튜우브(220)와, 프로세스 튜우브(220)의 주위에 형성되어 프로세스 튜우브 (220)내의 피처리체를 가열하기 위한 가열수단과를 구비하고, 상기 프로세스 튜우브(220)는, 열처리 영역(220a) 과 냉각영역 (220b) 과를 갖고, 상기 가열수단은 각각 상기 열처리 영역(220a) 및 냉각 영역(220b) 에 대응하여 분할하여 형성된 열처리용 히이터(231)와 냉각용 히이터(232)와를 갖고, 각히이터(231), (232)의 출력을 소정의 값으로 세트하여 상기 열처리 영역(220a)의 온도를 열처리 온도로 하고, 상기 냉각영역(220b)의 온도를 열처리 온도보다도 낮은 냉각 온도로 하는 종형 열처리로.
- 제8항에 있어서, 상기 열처리용 히이트 (231)는, 상기 냉각용 히이터 (232) 위에 설치되어 있는 종형 열처리로.
- 제8항에 있어서 , 상기 피처리체를 프로세스 튜우브 (220) 내에 반입하고, 프로세스 튜우브 (220) 내에서 반출하기 위한 반입 /반출수단을 더욱 갖고 있는 종형 열처리로.
- 길이 방향을 수직으로하여 배열 설치되고, 피처리체를 수용하여 소정의 처리조건에서 처리 하기 위한 프로세스 튜우브(220)와, 프로세스 튜우브 (220)의 주위에 형성되어 프로세스 튜우브 (220) 내의 피처리체를 가열하기 위한 가열수단과를 구비한 종형 열처리로에 있어서, 가열수단에 의하여 프로세스 튜우브 (220) 내에 열처리 온도로 설정된 열처리 영역 (22a)과 열처리 영역 (220a)보다도 낮은 온도인 냉각온도로 설정된 냉각영역(220b)과를 형성하여, 피처리체를 프로세스 튜우브 (220) 내의 열처리영역(220a)에 위치시켜서 열처리하고, 이어서 피처리체를 냉각영역(220b)에 위치시켜서 소정온도까지 냉각하고, 그후에 피처리체를 프로세스 튜우브(220)로부터 반출하는 열처리 방법 .※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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