KR960001925A - 전자사진 장치, 프로세스 카트리지 및 화상 형성 방법 - Google Patents

전자사진 장치, 프로세스 카트리지 및 화상 형성 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 전자사진 감광 부재 및, 이 감광 부재에 대향하여 충전 수단, 화상 노광 수단 및 현상 수단이 순서대로 배치되어 있는 전자사진 장치에 관한 것이다. 이 감광 부재는 전하-주입층을 포함하는 표면층을 갖는다. 상기 충전 수단은 자성입자를 포함하는 충전 부재를 포함하고, 그에 의해 수용되는 전압에 기초하여 감광 부재를 충전시킬 수 있도록 감광 부재와 접촉 가능하게 배치된다. 상기 자성 입자는 1×104내지 1×109ohm·cm 범위의 체적 저항률을 갖고, 상기 자성 입자는 최대 1×109ohm·cm의 체적 저항률을 갖는 표면층을 갖는다.

Description

전자사진 장치, 프로세스 카트리지 및 화상 형성 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 화상 형성 장치의 한 실시태양의 개략도.
제2도는 본 발명에 사용하기 적합한 자성 입자의 체적 저항률을 측정하기 위한 장치의 개략도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 감광 부재 2 : 충전 부재
2a : 비자성 슬리브(sleeve) 2b : 자성 입자
2c : 자석 롤러 3 : 화상 노광 수단
4 : 현상 수단 9 : 주 전극
10 : 상부 전극 11 : 절연 물질
12 : 전류계 13 : 전압계
14 : 정전압 공급원 15 : 자성 입자
16 : 안내 고리 17 : 클리닝 수단
21 : 전력 공급원

Claims (36)

  1. 전자사진 감광 부재 및, 이 감광 주재에 대향하여 충전 수단, 화상 노광 수단 및 현상 수단이 순서대로 배치되어 있는 전자사진 장치에 있어서, 상기 감광 부재가 전하-주입층을 포함하는 표면층을 갖고, 상기 충전 수단이 자성 입자를 포함하는 충전 부재를 포함하고, 그에 의해 수용된 전압에 기초하여 감광 부재를 충전시킬 수 있도록 감광 부재와 접촉 가능하게 배치되어 있고, 상기 자성 입자가 1×104내지 1×109ohm·cm 범위의 체적 저항률을 갖고, 상기 자성 입자가 최대 1×109ohm·cm의 체적 저항률을 갖는 표면층을 갖는 것을 특징으로 하는 전자사진 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 전하-주입층이 1×108내지 1×1015ohm·cm 범위의 체적 저항률을 갖는 장치.
  3. 제1 또는 제2항에 있어서, 상기 충전 부재가 1×104내지 1×109ohm범위의 저항을 갖는 장치.
  4. 제1 또는 제2항에 있어서, 상기 자성 입자가 코어 및 이 코어를 피복하는 표면층을 포함하는 것인 장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 표면층이 전기전도성 입자 및 결합제 수지를 포함하는 장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 표면층이 윤활성 입자를 함유하는 장치.
  7. 제5항에 있어서, 상기 표면층이 1×104내지 1×109ohm·cm 범위의 저항을 갖는 장치.
  8. 제4항에 있어서, 상기 표면층이 코어에 부착되어 있고 코어와는 상이한 무기물질을 포함하는 장치.
  9. 제8항에 있어서, 상기 표면층이 최대 1×107ohm·cm의 체적 저항률을 갖는 장치.
  10. 제8항에 있어서, 상기 표면층이 코어보다 낮은 체적 저항률을 갖는 장치.
  11. 제1 또는 2항에 있어서, 상기 전하-주입층이 전기전도성 입자 및 결합제 수지를 포함하는 장치.
  12. 제11항에 있어서, 상기 전하-주입층이 윤활성 입자를 함유하는 장치.
  13. 전자사진 감광 부재 및, 이 감광 부재에 대향하여 충전 수단 및 현상 수단이 순서대로 배치되어 있는 프로세스 카트리지에 있어서, 상기 감광 부재가 전하-주입층을 포함하는 표면층을 갖고, 상기 충전 수단이 자성 입자를 포함하는 충전 부재를 포함하고, 그에 의해 수용된 전압에 기초하여 감광 부재를 충전시킬 수 있도록 감광 부재와 접촉 가능하게 배치되어 있고, 상기 자성 입자가 1×104내지 1×109ohm·cm 범위의 체적 저항률을 갖고, 상기 자성 입자가 최대 1×109ohm·cm의 체적 저항률을 갖는 표면층을 갖고, 상기 전자사진 감광 부재, 충전 부재 및 현상 부재가 일체적으로 지지되어 전자사진 장치 본체에 분리 가능하게 장착 가능한 카트리지를 형성하는 것을 특징으로 하는 프로세스 카트리지.
  14. 제13항에 있어서, 상기 전하-주입층이 1×108내지 1×1015ohm·cm 범위의 체적 저항률을 갖는 프로세스 카트리지.
  15. 제13 또는 14항에 있어서, 상기 충전 부재가 1×104내지 1×109ohm·cm 범위의 저항을 갖는 프로세스 카트리지.
  16. 제13 또는 14항에 있어서, 상기 자성 입자가 코어 및 이 코어를 피복하는 표면층을 포함하는 것인 프로세스 카트리지.
  17. 제16항에 있어서, 상기 표면층이 전기전도성 입자 및 결합제 수지를 포함하는 프로세스 카트리지.
  18. 제17항에 있어서, 상기 표면층이 윤활성 입자를 함유하는 프로세스 카트리지.
  19. 제17항에 있어서, 상기 표면층이 1×104내지 1×109ohm·cm 범위의 저항을 갖는 프로세스 카트리지.
  20. 제16항에 있어서, 상기 표면층이 코어에 부착되어 있고 코어와는 상이한 무기 물질을 포함하는 프로세스 카트리지.
  21. 제21항에 있어서, 상기 표면층이 최대 1×107ohm·cm 이 체적 저항률을 갖는 프로세스 카트리지.
  22. 제20항에 있어서, 상기 표면층이 코어보다 낮은 체적 저항률을 갖는 프로세스 카트리지.
  23. 제13 또는 제14항에 있어서, 상기 전하-주입층이 전기 전도성 입자 및 결합제 수지를 포함하는 프로세스 카트리지.
  24. 제23항에 있어서, 상기 전하-주입층이 윤활성 입자를 함하는 프로세스 카트리지.
  25. 자성 입자를 포함하고 감광 부재와 접촉하도록 배치된 충전수단에 전압을 인가하여 전자사진 감광 부재를 충전시키는 단계, 충전된 감광 부재를 화상 노광 시켜 감광 부재 상에 정전하 상을 형성시키는 단계, 정전하 상을 현상시키는 단계를 포함하고, 상기 감광 부재가 전하-주입층을 포함하는 표면층을 갖고, 상기 자성 입자가 1×104내지 1×109ohm·cm 범위의 체적 저항률을 갖고, 상기 자성 입자가 최대 1×109ohm·cm 의 체적 저항률을 갖는 표면층을 갖는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
  26. 제25항에 있어서, 상기 전하-주입층이 1×108내지 1×1015ohm·cm 범위의 체적 저항률을 갖는 방법.
  27. 제25 또는 26항에 있어서, 상기 충전 부재가 1×104내지 1×109ohm·cm 범위의 저항을 갖는 방법.
  28. 제25 또는 26항에 있어서, 상기 자성 입자가 코어 및 코어를 피복하는 표면층을 포함하는 것인 방법.
  29. 제28항에 있어서, 상기 표면층이 전기전도성 입자 및 결합제 수지를 포함하는 방법.
  30. 제29항에 있어서, 상기 표면층이 윤활성 입자를 함유하는 방법.
  31. 제29항에 있어서, 상기 표면층이 1×104내지 1×109ohm·cm 범위의 체적 저항률을 갖는 방법.
  32. 제28항에 있어서, 상기 표면층이 코어에 부착되어 있고 코어와는 상이한 무기 물질을 포함하는 방법.
  33. 제32항에 있어서, 상기 표면층이 최대 1×107ohm·cm의 체적 저항률을 갖는 방법.
  34. 제32항에 있어서, 상기 표면층이 코어보다 낮은 체적 저항률을 갖는 방법.
  35. 제25 또는 26항에 있어서, 상기 전하-주입층이 전기전도성 입자 및 결합제 수지를 포함하는 방법.
  36. 제35항에 있어서, 상기 전하-주입층이 윤활성 입자를 함유하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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