KR950701666A - 티오펜 또는 티아졸 계열의 아세탈화된 디아조 성분을 갖는 아조 염료(azo dyes with an acetalised diazo component from the thiophene or thiazol series) - Google Patents
티오펜 또는 티아졸 계열의 아세탈화된 디아조 성분을 갖는 아조 염료(azo dyes with an acetalised diazo component from the thiophene or thiazol series)Info
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Abstract
본 발명은 하기 일반식(1)의 아조 염료, 티에닐아조벤졸 염료의 신규의 결정 변형체, 및 직물을 염색 또는 날염시키기 위한 상기 염료의 사용방법에 관한 것이다:
상기 식에서, L1은 수소, C1-C8-알킬 또는 페닐이고, L4는 수소, 치환될 수 있는 페닐, 할로겐, C1-C8-알콕시, 치환될 수 있는 페녹시, C1-C8-알킬티오, C1-C8-알킬술포닐, 치환될 수 있는 페닐술포닐, C1-C8-알콕시카르보닐, C3-C8-알켄일옥시카르보닐 페녹시카르보닐, X는 질소 또는 잔기 C-L5는 시아노, C1-C8-알콕시카르보닐, C3-C6-알켄일옥시카르보닐, C1-C8-알카노일, 벤조일, 카르바오일, C1-C4-모노 또는 디알킬카르바오일, 페녹시카르바오일, C1-C8-알킬술포닐 치환될수 있는 페닐술포닐이고, K는 커플링 성분의 잔기이며, L2및 L3는 치환될 수 있는 C1-C8-알킬이거나, 또는 L2및 L3는 함께 하기 일반식의 (a) 또는 (b)를 형성한다.
상기 식에서, n은 0,1또는 2이고, Y1및 Y4는 수소, 히드록시메틸, 1,2-디히드록시에틸 또는 일반식 COO-M+의 잔기이고, Y2및 Y3는 수소 또는 히드록시메틸이고, M+은 양이온의 등가물이다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (7)
- 신규의 하기 일반식(Ⅰ)의 아조 염료;(Ⅰ)상기 식에서, L1은 수소, C1-C8-알킬 또는 페닐이고, L4는 수소, 치환될 수 있고 에테르 작용기중의 1또는 2개의 산소 원자에 의해 치환될 수 있는 C1-C8-알킬, 치환 또는 비치환 페닐, 할로겐, C1-C8-알콕시, 치환 또는 비치환 페녹시, C1-C8-알킬티오, C1-C8-알킬 술포닐, 치환 또는 비치환 페닐티오, 치환 또는 비치환 페닐술포닐, C1-C8-알콕시카르보닐, C3-C8-알켄일옥시카르보닐 또는 페녹시카르보닐이고, X는 질소 또는 라디칼 C-L5이며, L5는 시아노, C1-C8-알콕시카르보닐, C3-C6-케닐옥시카르보닐, 페녹시카르보닐, C1-C8-알카노일, 벤조일, 카르바모일, 모노- 또는 디(C1-C4-알킬)카르바모일, 페닐카르바모일, C1-C8-알킬술포닐 또는 치환 또는 비치환 페닐술포닐이고, K는 커플링 성분의 라디칼이며, L2및 L3는 서로 동일하거나 또는 서로 다르며, 각각 서로 무관하게 치환될 수 있고 에테르 작용기중의 1 또는 2개의 산소 원자에 의해 치환될 수 있는 C1-C8-알킬이거나, 또는 함께 하기 일반식의 라디칼을 형성한다.상기 식에서, n은 0,1또는 2이고, Y1및 Y4는 서로 동일하거나 또는 서로 다르며, 각각 서로 무관하게 수소, 히드록시메틸, 1,2-디히드록시에틸 또는 일반식 COO-M+또는 일반식 COO-M+또는 CO3 -M+의 라디칼이고, Y2및 Y3는 서로 동일하거나 또는 서로 다르며, 각각 서로 무관하게 수소 또는 히드록시메틸이고, M+은 양이온의 등가물이다.
- 제1항에 있어서, K가 아닐린, 아미노티아졸, 피라졸, 디아미노피리딘, 히드록시퓨리돈 또는 퀴놀린 계열의 커플링 성분임을 특징으로 하는 이조 염료.
- 제1항에 있어서, K가 하기 일반식(Ⅱa) 내지 (Ⅱf)로부터 선택된 라디칼임을 특징으로 하는 이조 염료.R1및 R2는 서로 동일하거나 또는 서로 다르며, 각각 서로 무관하게 수소, 에테르 작용기중의 1또는 2개의 산소 원자에 의해 차단될 수 있는 치환 또는 비치환 C1-C8-알킬, C5-C7-시클로알킬, 또는 할로겐에 의해 치환될 수 있는 C3-C6-알켄일이고, R3는 수소, C1-C8-알킬 또는 C1-C8-알콕시이고, R4는 수소 C1-C8-알킬, C1-C8-알콕시, C1-C8-알킬술포닐아미노, 치환 또는 비치환 C1-C8-알카노일아미노 또는 벤조일아미노이고, R5는 수소, C1-C8-알킬, 치환 또는 비치환 페닐 또는 티에닐이고, R6는 아미노 또는 히드록실이고, R7는 에테르 작용기중의 1 또는 2개의 산소 원자에 의해 차단될 수 있는 C1-C8-알킬, 벤질, C5-C7-시클로알킬, C3-C6-알켄일 또는 치환 또는 비치환 페닐이고, R8은 수소 또는 C1-C8-알킬이고, R9는 시아노, 카르바모일 또는 아세틸이고, R10, R11및 R12는 서로 동일하거나 또는 서로 다르며, 각각 서로 무관하게 에테르 작용기중의 1 또는 2개의 산소 원자에 의해 차단될 수 있는 치환 또는 비치환 C1-C8-알킬, C5-C7-시클로알킬, 치환 또는 비치환 페닐, C3-C6-알켄일, 치환 또는 비치환 벤조일, C1-C알카노일, C1-C알킬술포닐 또는 치환 또는 비치환 페닐수포닐이거나, 또는 R11과 R12는 이들을 서로 연결시키는 질소 원자와 함께, 헤테로원자를 더 함유할 수 있는 5-또는 6-원자 포화 헤테로 고리 라디칼을 형성하고, R13은 수소 또는 C1-C8-알킬이다.
- 제1항에 있어서, L1이 수소 또는 C1-C8-알킬이고, L4는 치환 또는 비치환 페닐, 할로겐 또는 C1-C8-알콕시이고, X가 질소 또는 C-L5(L5는 시아노 또는 C1-C8-알콕시카르보닐)임을 특징으로 하는 아조 염료.
- 제1항에 있어서, L2및 L3가 각각 서로 무관하게, 비치환 또는 히드록실-치환 C1-C8-알킬이거나 또는 L2와 L3가 함께 하기 식의 라디칼을 형성함을 특징으로 하는 아조 염료:상기 식에서, Y1및 Y2는 제1항에서 정의한 바와같다.
- 방직 섬유 또는 직물을 염색 또는 날염시키기 위한 제1항의 이조 염료의 사용방법.
- 하기의 X-선 회절도(Cu-Ka방사선)를 갖는, 하기 식(Ⅲa) 내지 (Ⅲc)의 염료 각각에 대한 결정 형태:Ⅲa) 회절각도 0에서의 높은 세기의 라인[˚]: 8.497 및 9.175; 회절각도 0에서의 중간 세기의 라인[˚]: 7.018, 11.836 및 9.721; 회절각도 0에서의 낮은 세기의 라인[˚]:25.164. 5.920, 25.934, 24.425, 23.442, 150224, 13.119, 17.906, 15.674, 13.963, 15.153, 27.471, 14.630, 17.028, 18.833, 20.982, 28.275, 21.247, 19.490, 29.899, 30.726 및 34.570;Ⅲb) 회절각도 0에서의 높은 세기의 라인[˚]: 24.971 및 12.551; 회전각도 0에서의 중간 세기의 라인[˚]: 22.850 및 11.093; 회전각도 0에서의 낮은 세기의 라인[˚]: 11.548, 9.100, 27.564, 29.233, 17.967, 7.424, 22.255, 30.296, 28.175, 13.645, 14.406, 17.368, 26.458, 16.108, 16.809, 19.206, 20.006, 32.464, 34.775, 33.479 및 33.833;Ⅲc) 회절각도 0에서의 높은 세기의 라인[˚]: 7.441; 회절각도 0에서의 중간 세기의 라인[˚]: 11.090; 회절각도 0에서의 낮은 세기의 라인[˚]: 8.662, 10.063, 26.181, 17.373, 19.540, 22.901, 14.950, 12.888, 14.097, 15.961, 28.237, 27.752, 29.035, 32.108, 34.326, 33.239 및 33.543.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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