KR950025018A - 스틸벤 기재물질, 그 제조방법 및 그 사용 - Google Patents

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Abstract

이 발명은 다음 일반식(I)의 물질에 관한 것이다.
위 식에서, R1, R2및 R3는 각각의 경우 서로 각각 같거나 다르며, 수소원자, 할로겐원자, 히드록시기, 니트로기, 시아노기 또는 1가의 선택치환 유기래디컬이고, R4는 수소원자, 할로겐원자, 니트로기, 시아노기 또는 1가의 선택치환 유기래디컬이며, R5는 같거나 다르며, 할로겐원자, 히드록시기, 니트로기, 시아노기 또는 1가의 선택치환유기래디컬이다.

Description

스틸벤 기재물질, 그 제조방법 및 그 사용
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (10)

  1. 다음 일반식(I)의 물질,
    위 식에서, R1, R2및 R3는 각각의 경우 서로 각각 같거나 다르며, 수소원자, 할로겐원자, 히드록시기, 니트로기, 시아노기 또는 1가의 선택치환 유기래디컬이고, R4는 수소원자, 할로겐원자, 니트로기, 시아노기 또는 1가의 선택치환유기래디컬이며, R5는 같거나 다르며, 할로겐원자, 히드록시기, 니트로기, 시아노기 또는 1가의 선택치환유기래디컬이다.
  2. 제1항에 있어서, R1, R2및 R3는 각각의 경우 서로 각각 수소원자 또는 알킬, 알케닐, 알콕시 또는 알켄옥시 래디컬이고, R4는 수소원자 또는 알킬래디컬이며, R5는 알킬래디컬임을 특징으로하는 일반식(I) 의 물질.
  3. 제1항에 있어서, R1은 알켄옥시래디컬이고, R2는 수소원자 또는 알킬 또는 알콕시래디컬이며, R3는 수소원자이고, R4는 수소원자이며, R5는 메틸래디컬임을 특징으로하는 일반식(I)의 물질.
  4. 선택치환 1-인다논을 알킬할라이드와 알킬화시키고, 그 다음으로 그 생성물과 그리냐르반응에서의 선택치환벤질마그네슘 할라이드를 반응시린 다음 그 생성물을 산처리시킴을 특징으로하는 일반식(I)의 물질을 제조하는 방법.
  5. 1가 래디컬 R1∼R5중 하나를 2가 래디컬에 의해 치환시킨 일반식(I)의 적어도 하나의 스틸벤래디컬을 포함한 폴리머.
  6. 제5항에 있어서, 그 액정특성을 가진 측쇄폴리머임을 특징으로하는 폴리머.
  7. 제5항 또는 제6항에 있어서, 그 폴리머의 골격은 환상 및/또는 선상폴리실록산으로 구성됨을 특징으로하는 폴리머.
  8. 제5항에 있어서, 그 폴리머골격은 아크릴레이트, 메타아크릴레이트, 크로로아크릴레이트 및 시아노 아크릴레이트로 구성되는 그룹에서 선택되는 하나 또는 그 이상의 모노머로부터 구성됨을 특징으로하는 폴리머.
  9. 제5항에 있어서, 그 폴리머는 비닐에테르, 비닐에스테르, 스티렌 및 α-메틸스티렌으로 구성되는 그룹에서 선택된 하나 또는 그 이상의 모노머로부터 구성됨을 특징으로하는 폴리머.
  10. 제1항 내지 제3항중 하나이상에서의 물질 또는 제5항 내지 제9항중 하나이상에서의 적어도 하나의 폴리머로 구성되는 광학소자.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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