KR840008672A - 액체 오가노실록산 수지조성물 - Google Patents

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Abstract

내용 없음

Description

액체 오가노실록산 수지조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (9)

  1. (A)실온에서 경화 가능하며 가용화된 오가노실록산 블록 코폴리머 적어도 하나 및 (B)일반식이 [(CH3)2SiO]x(여기서 X의 평균치는 3 내지 8임)인 45중량% 이상의 환상 폴리디메틸실록산 적어도 하나로 이루어진 상기 코폴리머용 용매로 이루어지는 액체 오가노실록산 수지조성물에 있어서, 조성물 총중량의 5% 이상으로 이루어지는 상기의 블록 코폴리머가
    (1) 블록 단위당 평균 15 내지 350 반복단위(여기서 단위의 80몰% 이상은 디메틸실록산단위이고 잔여단위는 모두 메틸페닐실록산 또는 메틸실록산임)를 함유하는 디오가노실록산 블록 적어도 하나 ;
    (2) 다음 일반식(Ⅰ)의 반복단위를 3개 이상 함여하며,단위에 대한 디오가노실록산 중의 단위의 몰비가 0.7 내지 3.5인 블록 적어도 하나 ; 및
    (3) 상기의 블록 코폴리머 중에 존재하는 단위의 총수를 기준으로 다음 일반식(Ⅱ)의 말단단위 3 내지 25%로 이루어지는 것을 특징으로 하는 수지조성물.
    (Ⅰ)
    (Ⅱ)
    상기의 일반식에서,
    y는 1내지 1.3이며,
    R1은 1가 탄화수소 래디칼을 나타내는데, 여기서 적어도 래디칼의 50%는 페닐이며, 나머지는 모두 비닐, 메틸, 에틸 및 프로필 래디칼로 이루어진 그룹에서 선택되고,
    Z는 평균치가 1.8 내지 2이고,
    R2는 탄소수 1 내지 6의 알킬, 페닐 또는 비닐이며,
    Y는 탄소수 1 내지 5의 알콕시, 아세톡시 또는 일반식이 -ON=Z인 래디칼이다.
  2. 제1항에 있어서, 상기 디오가노실록산 블록의 반복단위가 모두 디메틸실록산 단위인 조성물.
  3. 제1항에 있어서, R1으로 나타낸 래디칼이 모두 페닐인 조성물.
  4. 제1항에 있어서, R2가 메틸인 조성물.
  5. 제1항에 있어서, Y가 알콕시인 조성물.
  6. 제1항에 있어서, Y가 메톡시인 조성물.
  7. 제1항에 있어서, Y가 ON=CR3 2이며, 개개의 R3가 메틸, 에틸 및 비닐로 이루어진 그룹에서 선택된 조성물.
  8. 제1항에 있어서, Y가 메톡시를 나타내며, 습기의 존재하에 주위온도에서 상기 블록 코폴리머의 경화를 촉진시키기에 충분한 양의 오가노티탄 화합물을 함유하는 조성물.
  9. 기질을 오가노실록산 블록 코폴리머로 피복하는 방법에 있어서, (Ⅰ), (A), (1)블록 단위당 평균 15내지 350 반복단위(여기서 단위의 80몰% 이상은 디메틸실록산 단위이고 잔여단위는 모두 메틸페닐실록산 또는 메틸실록산임)를 함유하는 디오가노실록산 블록 적어도 하나, (2)다음 일반식(Ⅰ)의 반복단위를 3개 이상 함유하며,단위에 대한 디오가노실록산 중의 단위의 몰비가 0.7 내지 3.5인 블록 적어도 하나 및 (3)블록 코폴리머 중에 존재하는 단위의 총 수를 기준으로 다음 일반식(Ⅱ)의 말단단위 3 내지 25%로 이루어지며, 실온에서 경화 가능하고 조성물 총 중량의 5% 이상으로 이루어지는 가용화된 오가노실록산 블록 코폴리머 적어도 하나 및 (B) 일반식이 [(CH3)2SiO]x(여기서 X의 평균치는 3 내지 8임)인 45중량% 이상의 환상 폴리디메틸실록산 적어도 하나로 이루어진 액체 조성물의 검착성이 있는 층 적어도 하나를 유기폴리머 및 경화 실리콘고무로 이루어진 그룹에서 선택한 고체기질에 적용하고, (Ⅱ) 휘발성 용매를 증발시킨 다음 (Ⅲ) 상기의 오가노실록산 블록 코폴리머를 경화시키는 것을 특징으로 하는 피복방법.
    (Ⅰ)
    (Ⅱ)
    상기의 일반식에서,
    y, R1, z, R2, Y, Z, R3및 R4는 상기의 정의와 동일하다.
    ※ 참고사항 : 최초출원내용에 의하여 공개하는 것임.
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