KR950014880A - 입자분석장치 - Google Patents

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Abstract

1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야 : 본 발명은 입자의 형태를 분석하는 입자분석장치에 관한 것이다.
2.발명이 해결하려고 하는 기술적과제 : 전기적검지대법과 광산란검출법을 조합해서 그들의 특징을 활용하므로서 종래의 전기적검지대법에서는 검출불가능한 미소입자의 입자직경을 측정할 수 있게한 입자분석장치를 제공하는 것이다.
3. 발명의 해결방법의 요지 : 제1및 제2셀(cell)(la)(1b)과 양 셀을 연통하는 세공을 갖고 전해액에 부유시킨 입자를 시이스액으로 싸서 세공을 통과시키는 플로우셀(1)과, 제1및 제2셀의 전해액중에 각각 설치된 전극간(4)(5)에 전압을 인가하는 전압 인가수단과, 입자가 세관을 통과한는때의 전극간의 전기저항의 변화를 검출하는 저항검출수단과, 저항검출수단의 출력에 기초하여 입자의 입자직경을 산출하는 제1의 입자직경산출수단과 시이스액으로 싸인 입자의 흐름에 광비임을 조사하는 광원수단과 조사된 입자의 산란광의 강도를 검지하는 광검지 수단과, 저항검출수단및 광검지수단의 출력에 기초헤서 입자의 굴절율을 산출하는 굴절율산출수단과, 산출된 굴절율과 광검지수단의 출력에 기초하여 입자의 입자 직경을 산출하는 제2의 입자직경산출수단을 구비한 입자분석장치이다.
4. 발명의 중요한 용도 : 본 발명은 파인세라믹스입자, 안료 혹은 화장품용분말등의 입자의 형태를 분석하는 입자분석 장치이다.

Description

입자분석장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 실시예의 구성을 나타내는 측면도.
제2도는 본 발명의 실시예의 구성을 나타내는 상면도.
제3도는 실시예의 주요부의 신호를 나타내는 타임차아트.
제4도는 실시예의 신호처리장치의 구성을 나타내는 블록도.
제5도는 체적상당직경과 산란광강도의 관계를 나타내는 특성도.
제6도는 체적상당직경과 산란광강도의 관계를 나타내는 특성도.
제7도는 체적상당직경과 측면방향산란광 강도비율의 관계를 나타내는 특성도.
제 8도는 제1도의 실시예의 변형예를 나타내는 구성설명도.

Claims (7)

  1. 제1및 제2셀(cell)(la)(Ib)과 양 셀(la)(Ib)을 연통하는 세공을 갖고 전해 액에 부유시킨 입자를 시스액으로 싸서 세공을 통과시키는 플로우셀(1)과, 제1및 제2셀(la)(Ib)의 전해액중에 각각 설치된 전극(4)(5)간에 전압을 인가하는 전압인가수단과, 입자가 세관을 통과하는때의 전극(4)(5)간의 전기저항의 변화를 검출하는 저항검출수단과, 저항검출수단의 출력에 기초하여 입자의 입자직경을 산출하는 제1의 입자직경산출수단과, 시이스액으로 싸인 입자의 흐름에 광비임을 조사하는 광원수단과, 조사된 입자의 산란광의 강도를 검지하는 광검지수단과, 저항검출수단및 광검지수단의 출력에 기초해서 입자의 굴절율을 산출하는 굴절율산출수단과, 산출된 굴절율과 광검지수단의 출력에 기초하여 입자의 입자직경을 산출하는 제2의 입자직경산출수단을 구비한 입자분석장치.
  2. 제1항에 있어서, 제1및 제2의 입자직경산출수단으로부터 얻어진 입자직경과 데이터수로부터 입자크기분포를 산출하는 입자크기분포산출수단과, 광검지수단으로부터의 각 출력신호의 시간간격을 계시하는 계시수단과를 구비하고, 계시한 간격이 소정치 이상의 입자에 대해 입자크기분포를 입자크기분포산출수단으로 산출하는것을 특징으로하는 입자분석장치.
  3. 제2항에 있어서, 계시수단에의해 계시되는 시간간격치를 소정개수의 입자마다에 그 시간 간격치의 평균치나 누적치를 산출하는 산출수단을 구비해 세관의 막힘이나 시이스플로웅우의 안정성을 감시하는 것을 특징으로하는 입자분석장치.
  4. 제1항에 있어서, 광검지수단이 입자의 전방산란광을 검지하는 제1광검지수단과, 입자의 측면방향 산란광을 검지하는 제2광검지수단으로되고, 제1및 제2검지수단의 출력을 가산하는 가산수단을 구비하고 그 가산결과를 산란광강도로 하는것을 특징으로하는 입자분석장치.
  5. 제4항에 있어서, 저항검출수단의 출력의 크기가 동일한 복수의 입자에 대해 측면방향산란 광강도의 불균일의정도로부터 입자의 구형도나 응집정도에 관한 지표를 산출하는 지표산출수단을 구비한것을 특징으로하는 입자분석장치.
  6. 제4항에 있어서, 산란광강도에 대한 전방이나 측면방향산란광강도의 비율을 산출하는 비율산출수단과, 저항검출수단의 출력의 크기가 동일한 복수의 입자에 대해 산출된 비율의 불균일에 기초해서 입자의 구형도나 응집정도에 관한 지표를 산출하는 지표산출수단을 구비한것을 특징으로하는 입자분석 장치.
  7. 제4항에 있어서, 구형에 가깝고 굴절율이 기지의 복수의 입자에 대해 산란광강도에 대한 전방이나 측면방향산란광강도의 비율을 산출하는 비율산출수단과, 산출된비율과 저항검출수단의 출력과에 기초하여 입자표면의 평활도나 입자표출부의 광학적특성의 변이나 입자의 응집정도에 관한 지표를 산출하는 지표산출수단을 구비한것을 특징으로하는 입자분석장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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