KR950011956B1 - 액정표시소자의 러빙 방법 및 장치 - Google Patents
액정표시소자의 러빙 방법 및 장치 Download PDFInfo
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 19
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 25
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 25
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 claims abstract description 20
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims abstract description 12
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims abstract description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims abstract 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 3
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 3
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 239000002964 rayon Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/10—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
- B08B3/12—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration by sonic or ultrasonic vibrations
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- B08B1/32—
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
- G02F1/13378—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation
- G02F1/133784—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation by rubbing
Abstract
내용 없음.
Description
제1도는 일반적인 액정표시소자 구조도.
제2도는 종래의 배향막 러빙장치 구성도.
제3도는 본 발명의 배향막 러빙 장치 구성도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
11 : 브러쉬 및 러빙롤러 12 : 방송기구
13 : 유리기판 14 : 에어 나이프 노즐
15 : 탈이온수 공급기구 16 : 욕조
17 : 초음파 진동자 18 : 회전 및 이동기구
19 : 탈이온수
본 발명은 액정표시소자 제조방법에 관한 것으로 특히 세정라인(Line)의 브러쉬(Bruch)를 이용한 배향막의 러빙(Rubbing)공정에 관한 것이다.
일반적으로 액정표시소자의 제조 방법은 제1도에 도시한 바와 같이 상하유리기판(1)에 투명전극(2) 및 배향막(3)을 형성하고 배향막(3)을 일정방향으로 러빙하여 상하유리기판(1)을 합착한 뒤 실(Seal)재(4)로 형성된 공간에 액정(5)을 주입하여 표시소자를 형성한다.
이와 같은 액정표시소자 제조방법중 종래의 배향막 러빙방법을 첨부된 도면을 참조하여 설명하는 다음과 같다.
제2도는 종래의 배향막 러빙 장치 구성도로써, 종래의 배향막 러빙방법은 원하는 러빙방향을 결정하기 위한 회전기구(10)와, 유리기판(8)을 진공, 흡착시켜주는 테이블(9)과, 러빙을 실시하기 위한 러빙포(布)가 부착되어있는 러빙롤러(6)와 제전장치(7)로 구성된 러빙장치를 이용하여 유리기판(8)에 배향막(3)을 증착하고 액정을 배향시키기 위하여 배향막(3) 표면을 러빙포(布)(라이론, 레이온)로 일정한 방향으로 러빙을 실시한다.
그러나 이와 같은 종래의 배향막 러빙방법에 있어서는 공기중에 노출되어있는 유리기판 및 러빙롤러에 의한 회전 및 마찰에 의해서 러빙함으로써 유리기판에 정전기가 대전되기 쉽고 대전되어있는 유리기판의 정전기를 방전시키는 과정에서 하부막 및 액정구동소자(TFT)의 파괴를 유발하게되며, 러빙후에는 러빙포(布)가 유리기판에 떨어지므로 이를 제거하기 위해서는 필히 세공공정이 필요하여 공정이 복잡해지는 등의 문제점이 있다.
본 발명은 이와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로써, 정전기 발생을 방지하고 공정수를 줄이는데 그 목적이 있다.
이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은 종래의 브러쉬 세정방법을 개량하여 탈이온수(D.I)속에서 직접 러빙을 실시하는 습식러빙 방법이다.
상기와 같은 본 발명의 액정표시소자 러빙방법을 첨부된 도면을 참조하여 보다 상세히 설명하면 다음과 같다. 제3도는 본 발명의 러빙 장치구성도로써, 유리기판에 형성된 배향막을 직접 러빙하는 브러쉬 및 러빙롤러(11)와, 브러쉬 및 러빙롤러(11)를 상하이동 및 회전시키기 위한 회전 및 이동기구(18)와, 유리기판(13)을 수평으로 반송하여 주는 반송기구(12)와, 러빙과 동시에 초음파 세정을 실시할수 있도록 탈이온수(19)를 채울 수 있고 배출시킬 수 있는 욕조(16)와, 욕조(16)에 부착되어 초음파를 발생하는 복수개의 초음파진동자(17)와, 회전 및 이동기구 일측에서 설치되어 러빙시 정전기 발생억제 및 세척하기위해 탈이온수(19)를 유리기판(13)상에 공급하는 탈이온수 공급기구(15)와, 탈이온수 공급기구(15)의 타측에 설치되어 러빙 및 세정을 마친 유리기판(13)을 건조시키기위한 에어 나이프 노즐(Air Knife Nozzle)(14)로 구성된다. 이와 같이 구성된 본발명의 액정표시소자 러빙방법을 설명하는 다음과 같다.
방송기구(12)를 이용하여 배향막이 인쇄된 유리기판(13)을 브러쉬 및 러빙롤러(11)하측에 위치시키고, 탈이온수 공급기구(15)를 통해 탈이온수를 공급하면서 브러쉬 및 러빙롤러(11)를 회전 및 이동기구(18)를 통해 하방향으로 이동하고 회전시켜 러빙을 실시함과 동시에 탈이온수(19) 및 초음파 진동자(17)을 이용하여 욕조(16)에서 유리기판(13)을 세정하고 에어 나이프 노즐(14)를 이용하여 건조시킨다.
여기서 브러쉬 및 러빙롤러(11)를 상하이동 및 회전(360°)이 가능하도록 하여 원하는 러빙방향 결정을 가능하도록 하고 반송기구(12)의 회전 rpm을 조절가능하게 하여 러빙밀도를 변환가능하게 한다.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명의 액정표시소자 러빙 방법 및 장치에 있어서는 습식러빙 방법으로 러빙하므로 인하여 정전기 문제를 해결할 수 있고, 러빙공정과 세정공정을 동시에 수행하므로써, 공정수를 줄일수 있어 품질 및 수율을 향상시키는 효과가 있다.
Claims (2)
- 욕조내에 배향막이 인쇄된 유리기판을 위치시키는 단계와, 상기 유리기판 상에 탈이온수를 공급하면서 러빙함과 동시에 탈이온수 및 초음파를 이용하여 세정하는 단계와, 욕조내의 탈이온수를 배출시킨 후 유리기판을 건조시키는 단계를 포함함을 특징으로하는 액정표시소자 러빙방법.
- 유리기판에 형성된 배향막을 러빙하는 브러쉬 및 러빙롤러(11)와, 브러쉬 및 러빙롤러(11)를 상하이동 및 회전시키는 회전 및 이동기구(18)와, 유리기판(13)을 수평 왕복시키는 반송기구(12)와, 탈이온수(19)를 저장 및 배출시키는 욕조(16)와, 욕조(16)에 부착되어 초음파를 발생하는 복수개의 초음파진동자(17)와, 회전 및 이동기구의 일측에 설치되어 유리기판(13)상에 탈이온수를 공급하는 탈이온수 공급기구(15)와, 상기 탈이온수 공급 기구 타측에 설치되어 러빙 및 세정을 마친 유리기판(13)을 건조시키는 에어 나이프 노즐(14)를 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 액정표시소자 러빙장치.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019920025828A KR950011956B1 (ko) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | 액정표시소자의 러빙 방법 및 장치 |
JP33510993A JP3525261B2 (ja) | 1992-12-28 | 1993-12-28 | 液晶表示素子の配向膜ラビング方法及びその装置 |
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019920025828A KR950011956B1 (ko) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | 액정표시소자의 러빙 방법 및 장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR940015605A KR940015605A (ko) | 1994-07-21 |
KR950011956B1 true KR950011956B1 (ko) | 1995-10-12 |
Family
ID=19346944
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019920025828A KR950011956B1 (ko) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | 액정표시소자의 러빙 방법 및 장치 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5464478A (ko) |
JP (1) | JP3525261B2 (ko) |
KR (1) | KR950011956B1 (ko) |
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-
1992
- 1992-12-28 KR KR1019920025828A patent/KR950011956B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1993
- 1993-12-28 JP JP33510993A patent/JP3525261B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1993-12-28 US US08/174,002 patent/US5464478A/en not_active Expired - Lifetime
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Legal Events
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---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
G160 | Decision to publish patent application | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
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FPAY | Annual fee payment |
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