JP3272039B2 - ブラシ洗浄装置およびブラシ洗浄方法 - Google Patents

ブラシ洗浄装置およびブラシ洗浄方法

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brush
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祥二 福井
正樹 鈴木
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体用ウエハや、液
晶表示デバイス用基板に付着した有害物を取り除くブラ
シ洗浄装置およびブラシ洗浄方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に半導体用ウエハや、液晶表示デバ
イス等では、付着する有害物除去の作業は重要なことで
あり、これまでに種々の洗浄装置が開発されてきてい
る。
【0003】以下、図面を参照しながら、従来のブラシ
洗浄装置について説明する。図4は液晶表示デバイス用
基板に付着した有害物を取り除く従来のブラシ洗浄装置
を示すものである。図中の1は、ガラス基板、2は前記
ガラス基板1上に配置されたディスクブラシ、3はガラ
ス基板1の洗浄される面であり、ディスクブラシ2は、
ガラス基板1に平行に千鳥配列されている。
【0004】以上のように構成された液晶表示デバイス
用基板に付着した有害物を取り除くブラシ洗浄装置の動
作について、以下に説明する。ディスクブラシ2をθ方
向に回転させ、ガラス基板1を、Y方向に平面送りさ
せ、洗浄液供給口より、洗浄液をふきつけることによ
り、ガラス基板1の洗浄を行っていた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような洗浄装置では、ディスクブラシ2のガラス基板1
に対する当り方にガラス基板1上の場所による差があ
り、洗浄効果が不均一になる。
【0006】また、ディスクブラシ2をθ方向に回転さ
せる機構がガラス基板1上にあるので、ダストが発生し
やすい。また、ディスクブラシ2の上に付着した、除去
すべき有害物を含んだ水滴が乾くとダスト源になるとい
った問題を有していた。
【0007】本発明は、上記問題点に鑑み、基板全面で
高度で均一な洗浄効果を発揮し、ダストの発生率を減少
させるブラシ洗浄装置およびブラシ洗浄方法を提供する
ことを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の目的を
達成するためブラシ洗浄装置およびブラシ洗浄方法を以
下のように構成する。
【0009】すなわち、被洗浄物の対向面にブラシを有
するブラシプレートと、前記ブラシプレートに連結する
一対のクランクと、前記クランクに回転駆動を伝播する
駆動機構と、前記ブラシプレートのブラシを有する面と
は反対の面から洗浄液を供給する給液機構と、前記ブラ
シプレートが略円弧状で回転する領域内に前記被洗浄物
を搬送する搬送機構とで構成されるブラシ洗浄装置であ
って、前記ブラシプレートとクランクの連結部を、前記
被洗浄物の通過領域外に設けるように構成したことを特
徴とする。
【0010】
【作用】上記構成において、ブラシプレートが被洗浄物
の洗浄されるべき面全体に液圧により均一な圧力で押し
つけられ、ブラシプレートの毛の軌跡は被洗浄物の洗浄
されるべき面の全面で同一であるので、洗浄の均一性が
高くなる。また、被洗浄物の洗浄されるべき面に対して
平行な略円弧運動機構を被洗浄物の上部以外に設置可能
とするので、ダスト発生率を小さくすることとなる。さ
らにブラシプレート裏面より洗浄液を供給するので、ブ
ラシの毛自体がダスト源になりにくいこととなる。
【0011】
【実施例】本発明の実施例について、以下図面を参照し
ながら説明する。 (実施例1)図1と図2は本発明の第1の実施例のブラ
シ洗浄装置を示す斜視図、図2は、図1のブラシ洗浄装
置をxy平面に平行な面で切った断面図である。なお、
従来例と同じ構成部材には同じ符号を用いる。同図にお
いて、1はガラス基板、5はローラであり、このローラ
5はガラス基板1をXY平面に保持し、α方向に回転し
てガラス基板1をy方向に平面送りするようになってい
る。洗浄液供給部6は、装置上部に固定されており(図
示せず)、液圧に耐えうる材料よりなっている。ブラシ
プレート8はz方向に可接性を有するとともに網目状に
形成され、ガラス基板1と接触する面には、ブラシの毛
7が植毛されている。前記ブラシプレート8は保持部9
で保持されており、洗浄液供給部6のシーリングをして
いる。モータ10は装置側部(図示せず)に固定されてい
る。そしてその回転軸14は保持部9に設けたクランク11
に連結されている。また前記回転軸14にはプーリー12が
設けられ、タイミングベルト13を介して、他方のプーリ
ー12、クランク11を駆動するようにしている。
【0012】以上のように構成されたブラシ洗浄装置に
ついて、その動作および、洗浄方法を説明する。洗浄液
供給部6より供給される洗浄液は、ブラシプレート8の
網目からガラス基板1に射出される。一方、モーター10
がθ方向に回転すると、回転軸14、クランク11がθ方向
に回転し、保持部9およびブラシプレート8は、xy平
面に平行な略円弧運動をする。またローラ5は、α方向
に回転することにより、ガラス基板1をy方向に平面送
りする。
【0013】以上のように、本実施例によれば、洗浄液
供給部6の弾性により、洗浄液の液圧が一定で、ブラシ
プレート8がz方向の可接性を有するので、ブラシの毛
7が、ガラス基板1との接触面全体において均一な圧力
で押しつけられ、またブラシの毛7の軌跡がガラス基板
1上の全面で同一であるので、洗浄の均一性が高い。
【0014】また、ガラス基板1とブラシプレート8
に、ガラス基板1に対して平行な略円弧運動機構がガラ
ス基板1の上部にないので、ダストの発生率が小さく、
さらにブラシプレート8の裏面より洗浄液が供給される
ので、ブラシの毛7は、常に洗浄されており、ダスト源
になりにくいという効果を奏する。 (実施例2)図3は、本発明の第2の実施例のブラシ洗
浄装置のxy平面に平行な面で切った断面図である。同
図において、1はガラス基板、5はローラであり、この
ローラ5はガラス基板1をxy平面に平行に保持し、θ
方向に回転して、ガラス基板1をy方向に平面送りする
ようにしてある。洗浄液供給部6、6′はガラス基板1
の上下と下方に配置され、それぞれ装置上部(図示せ
ず)と装置下部に固定されており、液圧に耐えうる材料
よりなっている。ブラシプレート8、8′はガラス基板
1の上下に配置され、z方向に可接性を有する網目状に
形成されている。そしてガラス基板1と接触する面に
は、それぞれブラシの毛7、7′が植毛されている。前
記ブラシプレート8、8′は保持部9、9′で保持され
ており、また洗浄液供給部6、6′のシーリングをして
いる。モータ10、10′は装置側部(図示せず)に固定さ
れ、回転軸14、14′は保持部9、9′に設けたクランク
11、11′に連結されている。また回転軸14、14′の回転
はプーリ12、12′とタイミングベルト13、13′を介して
他方のクランク11、11′を駆動するようにしている。以
上のように構成されたブラシ洗浄装置について、その動
作および洗浄方法を説明する。
【0015】洗浄供給部6、6′より供給される洗浄液
は、ブラシプレート8、8′の網目からガラス基板1に
射出される。一方、モータ10、10′のθ方向回転によ
り、回転軸14、14′、クランク11、11′がθ方向に回転
し、保持部9、9′およびブラシプレート8、8′は、
xy平面に平行な略円弧運動をする。またローラ5はα
方向に回転することにより、ガラス基板1をy方向に平
面送りする。
【0016】以上のように本実施例によれば、洗浄液供
給部6、6′の弾性により洗浄液の液圧が一定で、ブラ
シプレート8、8′がz方向の可接性を有するので、ブ
ラシの毛7、7′がガラス基板1との接触面全体におい
て、z方向のプラスの向き、マイナスの向き両方より均
一な圧力で押しつけられ、またブラシの毛7、7′の軌
跡がガラス基板1上の全面で同一なので、洗浄の均一性
が高くなる。またガラス基板1とブラシプレート8に、
ガラス基板1に対して平行な略円弧運動機構がガラス基
板1の上部にないので、ダストの発生率が小さく、さら
にブラシプレート8、8′の裏面より洗浄液が供給され
るので、ブラシの毛7、7′は、常に洗浄されており、
ダスト源になりにくく、特にガラス基板1の両面を同時
に洗浄できるという効果を奏する。
【0017】
【発明の効果】以上の実施例の説明より明らかなように
本発明によれば、ブラシプレート裏面より、洗浄液を射
出し、ブラシの毛をガラス基板との接触面全体で均一な
圧力で、ガラス基板に押しつけ、ブラシの毛の軌跡がガ
ラス基板全面で同一なので、洗浄効果が高度で均一で、
ダストの発生率を低くすることができるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例のブラシ洗浄装置の斜視図
【図2】同ブラシ洗浄装置の断面図
【図3】本発明の他の実施例のブラシ洗浄装置の断面図
【図4】従来のブラシ洗浄装置の斜視図
【符号の説明】
1 ガラス基板 5 ローラ 6 洗浄液供給部 7 ブラシの毛 8 ブラシプレート 10 モータ 11 クランク
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−23161(JP,A) 特開 昭63−109443(JP,A) 特開 昭59−137954(JP,A) 実開 平1−97789(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/304 G03F 7/30 B08B 1/00

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】被洗浄物の対向面にブラシを有するブラシ
    プレートと、 前記ブラシプレートに連結する一対のクランクと、 前記クランクに回転駆動を伝播する駆動機構と、 前記ブラシプレートのブラシを有する面とは反対の面か
    ら洗浄液を供給する給液機構と、 前記ブラシプレートが略円弧状で回転する領域内に前記
    被洗浄物を搬送する搬送機構とで構成されるブラシ洗浄
    装置であって、 前記ブラシプレートとクランクの連結部を、前記被洗浄
    物の通過領域外に設けたブラシ洗浄装置。
  2. 【請求項2】前記一対のクランクを前記ブラシプレート
    のブラシを有する側に設けた請求項1記載のブラシ洗浄
    装置。
  3. 【請求項3】前記ブラシプレートが前記給液機構から供
    給される洗浄液の液圧により前記ブラシを被洗浄面に均
    一に押圧するよう構成した請求項1または請求項2記載
    のブラシ洗浄装置。
  4. 【請求項4】被洗浄物の対向面にブラシを有するブラシ
    プレートを一対のクランクを介して連結された駆動機構
    にて回転駆動させ、洗浄液を供給しながら前記ブラシプ
    レートの回転駆動領域を通過する被洗浄物の表面を洗浄
    するに際し、 前記ブラシプレートとクランクとの連結部が前記被洗浄
    物の通過領域外となるようにして前記被洗浄物の表面を
    洗浄するブラシ洗浄方法。
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