JPH0629267A - ブラシ洗浄装置 - Google Patents
ブラシ洗浄装置Info
- Publication number
- JPH0629267A JPH0629267A JP17949692A JP17949692A JPH0629267A JP H0629267 A JPH0629267 A JP H0629267A JP 17949692 A JP17949692 A JP 17949692A JP 17949692 A JP17949692 A JP 17949692A JP H0629267 A JPH0629267 A JP H0629267A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- brush
- glass substrate
- cleaning
- cleaning liquid
- brush plate
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Abstract
(57)【要約】
【目的】基板全面で洗浄が均一で、ダストの発生率の低
いブラシ洗浄装置を提供する。 【構成】植毛した網目状の柔軟なブラシプレート８と、
ブラシプレート８を平行に保持して略円弧運動する機構
と、ブラシプレート８に洗浄液を送り、同時に圧力をか
ける給液機構と、ガラス基板１の送り機構とを設けた構
成とする。
いブラシ洗浄装置を提供する。 【構成】植毛した網目状の柔軟なブラシプレート８と、
ブラシプレート８を平行に保持して略円弧運動する機構
と、ブラシプレート８に洗浄液を送り、同時に圧力をか
ける給液機構と、ガラス基板１の送り機構とを設けた構
成とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体用ウエハや、液
晶表示デバイス用基板に付着した有害物を取り除くブラ
シ洗浄装置に関する。
晶表示デバイス用基板に付着した有害物を取り除くブラ
シ洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に半導体用ウエハや、液晶表示デバ
イス等では、付着する有害物除去の作業は重要なことで
あり、これまでに種々の洗浄装置が開発されてきてい
る。
イス等では、付着する有害物除去の作業は重要なことで
あり、これまでに種々の洗浄装置が開発されてきてい
る。
【０００３】以下、図面を参照しながら、従来のブラシ
洗浄装置について説明する。図４は液晶表示デバイス用
基板に付着した有害物を取り除く従来のブラシ洗浄装置
を示すものである。図中の１は、ガラス基板、２は前記
ガラス基板１上に配置されたディスクブラシ、３はガラ
ス基板１の洗浄される面であり、ディスクブラシ２は、
ガラス基板１に平行に千鳥配列されている。
洗浄装置について説明する。図４は液晶表示デバイス用
基板に付着した有害物を取り除く従来のブラシ洗浄装置
を示すものである。図中の１は、ガラス基板、２は前記
ガラス基板１上に配置されたディスクブラシ、３はガラ
ス基板１の洗浄される面であり、ディスクブラシ２は、
ガラス基板１に平行に千鳥配列されている。
【０００４】以上のように構成された液晶表示デバイス
用基板に付着した有害物を取り除くブラシ洗浄装置の動
作について、以下に説明する。ディスクブラシ２をθ方
向に回転させ、ガラス基板１を、Ｙ方向に平面送りさ
せ、洗浄液供給口より、洗浄液をふきつけることによ
り、ガラス基板１の洗浄を行っていた。
用基板に付着した有害物を取り除くブラシ洗浄装置の動
作について、以下に説明する。ディスクブラシ２をθ方
向に回転させ、ガラス基板１を、Ｙ方向に平面送りさ
せ、洗浄液供給口より、洗浄液をふきつけることによ
り、ガラス基板１の洗浄を行っていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような洗浄装置では、ディスクブラシ２のガラス基板１
に対する当り方にガラス基板１上の場所による差があ
り、洗浄効果が不均一になる。
ような洗浄装置では、ディスクブラシ２のガラス基板１
に対する当り方にガラス基板１上の場所による差があ
り、洗浄効果が不均一になる。
【０００６】また、ディスクブラシ２をθ方向に回転さ
せる機構がガラス基板１上にあるので、ダストが発生し
やすい。また、ディスクブラシ２の上に付着した、除去
すべき有害物を含んだ水滴が乾くとダスト源になるとい
った問題を有していた。
せる機構がガラス基板１上にあるので、ダストが発生し
やすい。また、ディスクブラシ２の上に付着した、除去
すべき有害物を含んだ水滴が乾くとダスト源になるとい
った問題を有していた。
【０００７】本発明は、上記問題点に鑑み、基板全面で
高度で均一な洗浄効果を発揮し、ダストの発生率を減少
させるブラシ洗浄装置を提供することを目的とする。
高度で均一な洗浄効果を発揮し、ダストの発生率を減少
させるブラシ洗浄装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の目的を
達成するためブラシ洗浄装置を以下のように構成する。
達成するためブラシ洗浄装置を以下のように構成する。
【０００９】すなわち、被洗浄物を搬送する搬送機構
と、透液性を有し面に垂直方向に可接性を有するブラシ
プレートと、このブラシプレート裏面より洗浄液を供給
する給液機構と、被洗浄物とブラシプレートに、被洗浄
物に対して平行な略円弧軌跡の相対運動を与える運動機
構を有する構成とする。
と、透液性を有し面に垂直方向に可接性を有するブラシ
プレートと、このブラシプレート裏面より洗浄液を供給
する給液機構と、被洗浄物とブラシプレートに、被洗浄
物に対して平行な略円弧軌跡の相対運動を与える運動機
構を有する構成とする。
【００１０】
【作用】上記構成において、ブラシプレートが被洗浄物
の洗浄されるべき面全体に液圧により均一な圧力で押し
つけられ、ブラシプレートの毛の軌跡は被洗浄物の洗浄
されるべき面の全面で同一であるので、洗浄の均一性が
高くなる。また、被洗浄物の洗浄されるべき面に対して
平行な略円弧運動機構を被洗浄物の上部以外に設置可能
とするので、ダスト発生率を小さくすることとなる。さ
らにブラシプレート裏面より洗浄液を供給するので、ブ
ラシの毛自体がダスト源になりにくいこととなる。
の洗浄されるべき面全体に液圧により均一な圧力で押し
つけられ、ブラシプレートの毛の軌跡は被洗浄物の洗浄
されるべき面の全面で同一であるので、洗浄の均一性が
高くなる。また、被洗浄物の洗浄されるべき面に対して
平行な略円弧運動機構を被洗浄物の上部以外に設置可能
とするので、ダスト発生率を小さくすることとなる。さ
らにブラシプレート裏面より洗浄液を供給するので、ブ
ラシの毛自体がダスト源になりにくいこととなる。
【００１１】
【実施例】本発明の実施例について、以下図面を参照し
ながら説明する。 （実施例１）図１と図２は本発明の第１の実施例のブラ
シ洗浄装置を示す斜視図、図２は、図１のブラシ洗浄装
置をｘｙ平面に平行な面で切った断面図である。なお、
従来例と同じ構成部材には同じ符号を用いる。同図にお
いて、１はガラス基板、５はローラであり、このローラ
５はガラス基板１をＸＹ平面に保持し、α方向に回転し
てガラス基板１をｙ方向に平面送りするようになってい
る。洗浄液供給部６は、装置上部に固定されており（図
示せず）、液圧に耐えうる材料よりなっている。ブラシ
プレート８はｚ方向に可接性を有するとともに網目状に
形成され、ガラス基板１と接触する面には、ブラシの毛
７が植毛されている。前記ブラシプレート８は保持部９
で保持されており、洗浄液供給部６のシーリングをして
いる。モータ10は装置側部（図示せず）に固定されてい
る。そしてその回転軸14は保持部９に設けたクランク11
に連結されている。また前記回転軸14にはプーリー12が
設けられ、タイミングベルト13を介して、他方のプーリ
ー12、クランク11を駆動するようにしている。
ながら説明する。 （実施例１）図１と図２は本発明の第１の実施例のブラ
シ洗浄装置を示す斜視図、図２は、図１のブラシ洗浄装
置をｘｙ平面に平行な面で切った断面図である。なお、
従来例と同じ構成部材には同じ符号を用いる。同図にお
いて、１はガラス基板、５はローラであり、このローラ
５はガラス基板１をＸＹ平面に保持し、α方向に回転し
てガラス基板１をｙ方向に平面送りするようになってい
る。洗浄液供給部６は、装置上部に固定されており（図
示せず）、液圧に耐えうる材料よりなっている。ブラシ
プレート８はｚ方向に可接性を有するとともに網目状に
形成され、ガラス基板１と接触する面には、ブラシの毛
７が植毛されている。前記ブラシプレート８は保持部９
で保持されており、洗浄液供給部６のシーリングをして
いる。モータ10は装置側部（図示せず）に固定されてい
る。そしてその回転軸14は保持部９に設けたクランク11
に連結されている。また前記回転軸14にはプーリー12が
設けられ、タイミングベルト13を介して、他方のプーリ
ー12、クランク11を駆動するようにしている。
【００１２】以上のように構成されたブラシ洗浄装置に
ついて、その動作および、洗浄方法を説明する。洗浄液
供給部６より供給される洗浄液は、ブラシプレート８の
網目からガラス基板１に射出される。一方、モーター10
がθ方向に回転すると、回転軸14、クランク11がθ方向
に回転し、保持部９およびブラシプレート８は、ｘｙ平
面に平行な略円弧運動をする。またローラ５は、α方向
に回転することにより、ガラス基板１をｙ方向に平面送
りする。
ついて、その動作および、洗浄方法を説明する。洗浄液
供給部６より供給される洗浄液は、ブラシプレート８の
網目からガラス基板１に射出される。一方、モーター10
がθ方向に回転すると、回転軸14、クランク11がθ方向
に回転し、保持部９およびブラシプレート８は、ｘｙ平
面に平行な略円弧運動をする。またローラ５は、α方向
に回転することにより、ガラス基板１をｙ方向に平面送
りする。
【００１３】以上のように、本実施例によれば、洗浄液
供給部６の弾性により、洗浄液の液圧が一定で、ブラシ
プレート８がｚ方向の可接性を有するので、ブラシの毛
７が、ガラス基板１との接触面全体において均一な圧力
で押しつけられ、またブラシの毛７の軌跡がガラス基板
１上の全面で同一であるので、洗浄の均一性が高い。
供給部６の弾性により、洗浄液の液圧が一定で、ブラシ
プレート８がｚ方向の可接性を有するので、ブラシの毛
７が、ガラス基板１との接触面全体において均一な圧力
で押しつけられ、またブラシの毛７の軌跡がガラス基板
１上の全面で同一であるので、洗浄の均一性が高い。
【００１４】また、ガラス基板１とブラシプレート８
に、ガラス基板１に対して平行な略円弧運動機構がガラ
ス基板１の上部にないので、ダストの発生率が小さく、
さらにブラシプレート８の裏面より洗浄液が供給される
ので、ブラシの毛７は、常に洗浄されており、ダスト源
になりにくいという効果を奏する。 （実施例２）図３は、本発明の第２の実施例のブラシ洗
浄装置のｘｙ平面に平行な面で切った断面図である。同
図において、１はガラス基板、５はローラであり、この
ローラ５はガラス基板１をｘｙ平面に平行に保持し、θ
方向に回転して、ガラス基板１をｙ方向に平面送りする
ようにしてある。洗浄液供給部６、６′はガラス基板１
の上下と下方に配置され、それぞれ装置上部（図示せ
ず）と装置下部に固定されており、液圧に耐えうる材料
よりなっている。ブラシプレート８、８′はガラス基板
１の上下に配置され、ｚ方向に可接性を有する網目状に
形成されている。そしてガラス基板１と接触する面に
は、それぞれブラシの毛７、７′が植毛されている。前
記ブラシプレート８、８′は保持部９、９′で保持され
ており、また洗浄液供給部６、６′のシーリングをして
いる。モータ10、10′は装置側部（図示せず）に固定さ
れ、回転軸14、14′は保持部９、９′に設けたクランク
11、11′に連結されている。また回転軸14、14′の回転
はプーリ12、12′とタイミングベルト13、13′を介して
他方のクランク11、11′を駆動するようにしている。以
上のように構成されたブラシ洗浄装置について、その動
作および洗浄方法を説明する。
に、ガラス基板１に対して平行な略円弧運動機構がガラ
ス基板１の上部にないので、ダストの発生率が小さく、
さらにブラシプレート８の裏面より洗浄液が供給される
ので、ブラシの毛７は、常に洗浄されており、ダスト源
になりにくいという効果を奏する。 （実施例２）図３は、本発明の第２の実施例のブラシ洗
浄装置のｘｙ平面に平行な面で切った断面図である。同
図において、１はガラス基板、５はローラであり、この
ローラ５はガラス基板１をｘｙ平面に平行に保持し、θ
方向に回転して、ガラス基板１をｙ方向に平面送りする
ようにしてある。洗浄液供給部６、６′はガラス基板１
の上下と下方に配置され、それぞれ装置上部（図示せ
ず）と装置下部に固定されており、液圧に耐えうる材料
よりなっている。ブラシプレート８、８′はガラス基板
１の上下に配置され、ｚ方向に可接性を有する網目状に
形成されている。そしてガラス基板１と接触する面に
は、それぞれブラシの毛７、７′が植毛されている。前
記ブラシプレート８、８′は保持部９、９′で保持され
ており、また洗浄液供給部６、６′のシーリングをして
いる。モータ10、10′は装置側部（図示せず）に固定さ
れ、回転軸14、14′は保持部９、９′に設けたクランク
11、11′に連結されている。また回転軸14、14′の回転
はプーリ12、12′とタイミングベルト13、13′を介して
他方のクランク11、11′を駆動するようにしている。以
上のように構成されたブラシ洗浄装置について、その動
作および洗浄方法を説明する。
【００１５】洗浄供給部６、６′より供給される洗浄液
は、ブラシプレート８、８′の網目からガラス基板１に
射出される。一方、モータ10、10′のθ方向回転によ
り、回転軸14、14′、クランク11、11′がθ方向に回転
し、保持部９、９′およびブラシプレート８、８′は、
ｘｙ平面に平行な略円弧運動をする。またローラ５はα
方向に回転することにより、ガラス基板１をｙ方向に平
面送りする。
は、ブラシプレート８、８′の網目からガラス基板１に
射出される。一方、モータ10、10′のθ方向回転によ
り、回転軸14、14′、クランク11、11′がθ方向に回転
し、保持部９、９′およびブラシプレート８、８′は、
ｘｙ平面に平行な略円弧運動をする。またローラ５はα
方向に回転することにより、ガラス基板１をｙ方向に平
面送りする。
【００１６】以上のように本実施例によれば、洗浄液供
給部６、６′の弾性により洗浄液の液圧が一定で、ブラ
シプレート８、８′がｚ方向の可接性を有するので、ブ
ラシの毛７、７′がガラス基板１との接触面全体におい
て、ｚ方向のプラスの向き、マイナスの向き両方より均
一な圧力で押しつけられ、またブラシの毛７、７′の軌
跡がガラス基板１上の全面で同一なので、洗浄の均一性
が高くなる。またガラス基板１とブラシプレート８に、
ガラス基板１に対して平行な略円弧運動機構がガラス基
板１の上部にないので、ダストの発生率が小さく、さら
にブラシプレート８、８′の裏面より洗浄液が供給され
るので、ブラシの毛７、７′は、常に洗浄されており、
ダスト源になりにくく、特にガラス基板１の両面を同時
に洗浄できるという効果を奏する。
給部６、６′の弾性により洗浄液の液圧が一定で、ブラ
シプレート８、８′がｚ方向の可接性を有するので、ブ
ラシの毛７、７′がガラス基板１との接触面全体におい
て、ｚ方向のプラスの向き、マイナスの向き両方より均
一な圧力で押しつけられ、またブラシの毛７、７′の軌
跡がガラス基板１上の全面で同一なので、洗浄の均一性
が高くなる。またガラス基板１とブラシプレート８に、
ガラス基板１に対して平行な略円弧運動機構がガラス基
板１の上部にないので、ダストの発生率が小さく、さら
にブラシプレート８、８′の裏面より洗浄液が供給され
るので、ブラシの毛７、７′は、常に洗浄されており、
ダスト源になりにくく、特にガラス基板１の両面を同時
に洗浄できるという効果を奏する。
【００１７】
【発明の効果】以上の実施例の説明より明らかなように
本発明によれば、ブラシプレート裏面より、洗浄液を射
出し、ブラシの毛をガラス基板との接触面全体で均一な
圧力で、ガラス基板に押しつけ、ブラシの毛の軌跡がガ
ラス基板全面で同一なので、洗浄効果が高度で均一で、
ダストの発生率を低くすることができるものである。
本発明によれば、ブラシプレート裏面より、洗浄液を射
出し、ブラシの毛をガラス基板との接触面全体で均一な
圧力で、ガラス基板に押しつけ、ブラシの毛の軌跡がガ
ラス基板全面で同一なので、洗浄効果が高度で均一で、
ダストの発生率を低くすることができるものである。
【図１】本発明の一実施例のブラシ洗浄装置の斜視図
【図２】同ブラシ洗浄装置の断面図
【図３】本発明の他の実施例のブラシ洗浄装置の断面図
【図４】従来のブラシ洗浄装置の斜視図
１ ガラス基板 ５ ローラ ６ 洗浄液供給部 ７ ブラシの毛 ８ ブラシプレート 10 モータ 11 クランク
Claims (1)
- 【請求項１】 被洗浄物を搬送する搬送機構と、透液性
を有し、面に垂直方向に可接性を有するブラシプレート
と、ブラシプレート裏面より洗浄液を供給する給液機構
と、被洗浄物とブラシプレートに、被洗浄物に対して平
行な略円弧軌跡の相対運動を与える運動機構とを有する
ブラシ洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17949692A JP3272039B2 (ja) | 1992-07-07 | 1992-07-07 | ブラシ洗浄装置およびブラシ洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17949692A JP3272039B2 (ja) | 1992-07-07 | 1992-07-07 | ブラシ洗浄装置およびブラシ洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0629267A true JPH0629267A (ja) | 1994-02-04 |
| JP3272039B2 JP3272039B2 (ja) | 2002-04-08 |
Family
ID=16066842
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17949692A Expired - Fee Related JP3272039B2 (ja) | 1992-07-07 | 1992-07-07 | ブラシ洗浄装置およびブラシ洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3272039B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11283951A (ja) * | 1998-03-27 | 1999-10-15 | Kaijo Corp | 半導体ウエーハ等用洗浄装置 |
-
1992
- 1992-07-07 JP JP17949692A patent/JP3272039B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11283951A (ja) * | 1998-03-27 | 1999-10-15 | Kaijo Corp | 半導体ウエーハ等用洗浄装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3272039B2 (ja) | 2002-04-08 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |