KR950009985A - 광학조사장치 - Google Patents
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Abstract
광학조사장치는 광반사 및 접속부재에 의하여 수은 아크램프로부터의 광을 반사 및 집속하고 그리고 광을 반사 및 편향시키며, 그 다음에 반사 및 편향된 광은 조준렌즈 또는 입력렌즈, 밴드패스필터 및 플라이 아이렌즈를 통하여 중계 렌즈시스템으로 전달된다. 필터에 의하여 불순물이 제거된 가스는 광학부재 주위에 흘러서 광학부재의 서리를 발생시키는 물질을 포함한 공기로부터 광학부재를 격리시키며 이에 의하여 광학부재의 서리가 억제된다. 반대로, 또는 추가로, 이산화항의 흡수 대역의 광에 대한 광반사 및 접속부재 및/또는 미러의 반사율은 작게 만들어져 광학부재에 서리가 끼는 것을 방지한다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제6도는 본 발명의 광학 조명장치의 제1실시예를 표시하는 부분단면도를 포함하는 구성도.
Claims (27)
- 방전램프; 상기 방전램프로부터 광을 반사 및 집속하기 위한 부재; 상기 광반사 및 집속부재에 의해 반사 및 집속된 광으로부터 사전설정된 대역내의 파장을 가진 광을 선택하기 위한 파장선택부재; 상기 방전램프에서 상기 파장선택부재까지의 광경로내에 위치한 일부 또는 모든 광학부재 주위를 흐르는 가스로부터 유기 규소화합물, 암모니아 및 황산이온중 적어도 하나를 제거하기 위한 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학조사장치.
- 제1항에 있어서, 상기 반전램프로부터 상기 파잔선택부재까지의 광경로의 대부분을 감싸기 위한 부재; 상기 감싸는 부재의 외부가스의 압력보다 높은 압력을 가진 가스를 상기 감싸는 부재로 통과시키는 가스공급장치를 더 포함하며; 상기 제거부재는 상기 싸는 부재내에 공급된 가스로부터 유기규소화합물, 암모니아 및 황산이온 중 적어도 하나는 제거하는 것을 특징으로 하는 광학조사장치.
- 제1항에 있어서, 상기 제거부재는 이온교환섬유 및 활성카본 또는 제올라이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학조사장치.
- 제3항에 있어서, 상기 이온교환섬유는 산성양이온 교환섬유 및 염기성 음이온 교환섬유를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학조사장치.
- 제1항에 있어서, 이산화항에 대한 흡수대녁 내의 파장을 가진 광에 대한 상기 광반사 및 집속부재의 반사율은 작게 유지되는 것을 특징으로 하는 광학조사장치.
- 제1항에 있어서, 상기 광반사 및 집속부재의 반사면의 온도를 황산 암모늄의 분해노도로 유지하기 위한 부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학조사장치.
- 제5항에 있어서, 상기 광반사 및 집속부재의 반사면의 온도를 황산 암모늄의 분해온도로 유지하기 위한 부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학조사장치.
- 제5항에 있어서, 4개의 파장대역 105㎚-180㎚, 180-240㎚, 260-340㎚, 및 340-390㎚중 적어도 하나를 가진 광에 대한 상기 광반사 및 집속부재의 반사율은 작게 유지되는 것을 특징으로 하는 광학조사장치.
- 제5항에 있어서, 260-340㎚의 파장대역을 가진 광에 대한 상기 광반사 및 집속부재의 반사율은 0.5 이하로 설정되는 것을 특징으로 하는 광학조사 장치.
- 제1항에 있어서, 광전송부재는 상기 광반사 및 집속부재와 조사될 물체사이의 광조사경로내에 위치하고, 4개의 파장대역 105㎚-180㎚, 180-240㎚, 260-340㎚, 및 340-390㎚중 적어도 하나를 가진 광에 대한 상기 광전송부재의 투과율은 작게 유지되는 것을 특징으로 하는 광학조사장치.
- 방전램프; 상기 방전램프로부터의 광을 반사 및 집속하기 위한 부재; 상기 광방전 및 집속부재에 의하여 반사 및 집속된 광으로부터 사전설정된 대역내의 파장을 가진 광을 선택하기 위한 파장선택부재; 불순물을 가진 가스로부터 상기 광학부재를 격리시키기 위하여 상기 방전 램프로부터 상기 파장선택부재까지의 광학경로에 위치한 광학부재중 적어도 하나에 가스를 송풍하여, 제거부재에 의하여 유기규소화합물, 암모니아, 및 황산이온 중 적어도 하나가 제거되도록 하는 가수를 송풍하기 위한 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학조사장치.
- 제11항에 있어서, 상기 송풍부재는 상기 광학부재에 인접하여 상기 광학부재에 대하여 개방되어 있는 많은 분사포트를 가지고 있는 것을 특징으로 하는 광학조사장치.
- 제11항에 있어서, 상기 송풍부재는 상기 광학부재를 위해 홀더내에 제공되며 상기 홀더내부원주에 대하여 개방되어 있고 상기 홀더의 원주방향으로 배열되어 있는 많은 분사포트를 가지는 것을 특징으로 하는 광학조사장치.
- 제11항에 있어서, 상기 제거부재는 이온교환섬유 및 활성카본 또는 제올라이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학조사장치.
- 제14항에 있어서, 상기 이온교환섬유는 산성양이온 교환섬유 및 염기성 음이온 교환섬유를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학조사장치.
- 제11항에 있어서, 이산화항에 대한 흡수대역내의 파장을 가진 광에 대한 상기 광반사 및 집속부재의 반사율은 작게 유지되는 것을 특징으로 하는 광학조사장치.
- 제11항에 있어서, 상기 광반사 및 집속부재의 반사면의 온도를 황산암모늄의 분해온도로 유지하기 위한 부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학조사장치.
- 방전램프; 상기 방전램프로부터의 광을 반사 및 집속하여 조사될 물체로 보내기 위한 광반사 및 집속부재를 포함하며, 이산화황에 대한 흡수대역내의 파장을 가진 광에 대한 상기 광반사 및 집속부재의 반사율은 작게 유지되는 것을 특징으로 하는 광학조사장치.
- 제18항에 있어서, 4개의 파장대역 105㎚-180㎚, 180-240㎚, 260-340㎚, 및 340-390㎚중 적어도 하나를 가진 광에 대한 상기 광반사 및 집속부재의 반사율은 작게 유지되는 것을 특징으로 하는 광학조사장치.
- 제18항에 있어서, 260-340㎚의 파장대역을 가진 광에 대한 상기 광반사 및 집속부재의 반사율은 0.5이하로 설정되는 것을 특징으로 하는 광학조사장치.
- 제18항에 있어서, 광전송부재는 상기 광반사 및 집속부재와 조사될 물체사이의 광조사경로내에 위치하고, 4개의 파장대역 105㎚-180㎚, 180-240㎚, 260-340㎚, 및 340-390㎚중 적어도 하나를 가진 광에 대한 상기 광전송부재의 투과율은 작게 유지되는 것을 특징으로 하는 광학조사장치.
- 제18항에 있어서, 상기 광반사 및 집속부재로부터 상기 물체로 광을 반사 및 집속하기 위한 반사부재는 상기 광반사 및 집속부재로부터 아래쪽에 위치하며,260-340㎚의 파장대역을 가진 광에 대한 상기 반사부재의 반사율은 0.2이하로 설정되는 것을 특징으로 하는 광학조사장치.
- 제18항에 있어서, 상기 광반사 및 집속부재의 반사면의 온도를 황산암모늄의 분해온도로 유지하기 위한 부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학조사장치.
- 방전램프; 상기 방전램프로부터의 광을 반사 및 집속하고 이를 조사될 물체로 보내기 위한 부재; 4개의 파장대역 105㎚-180㎚, 180-240㎚, 260-340㎚, 및 340-390㎚중 적어도 하나를 가진 광에 대하여 그 반사율이 작게 유지되고, 상기 광반사 및 집속 부내와 조사될 물체사이의 광학경로에 위치한 광전송부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학조사장치.
- 제24항에 있어서, 상기 광반사 및 집속부재의 반사면의 온도를 황산 암모늄의 분해온도로 유지하기 위한 부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학조사장치.
- 개의 파장대역 105㎚-180㎚, 180-240㎚, 260-340㎚, 및 340-390㎚중 적어도 일부를 가진 광을 발생시키는 광소스; 상기 광소스로부터의 광내의 상기 4개의 파장대역 내에 포함된 어느 파장을 가진 광에 대하여 투과율 및 반사율을 작게 유지하는 광학부재를 포함하여, 상기 광소스로부터 조사될 물체까지 광을 전달하기 위한 광학시스템을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학조사장치.
- 제26항에 있어서, 상기 광학부재를 상기 광소스로부터의 광을 반사 및 집속하기 위한 타원형인 것을 특징으로 하는 광학조사장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Families Citing this family (47)
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KR100542414B1 (ko) * | 1996-03-27 | 2006-05-10 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광장치및공조장치 |
KR100470720B1 (ko) * | 1997-07-10 | 2005-07-04 | 삼성전자주식회사 | 반도체장치제조용스테퍼설비의조명장치 |
JPH11329951A (ja) | 1998-05-15 | 1999-11-30 | Canon Inc | 光源装置及び露光装置 |
ATE350150T1 (de) * | 1998-07-03 | 2007-01-15 | Chugai Pharmaceutical Co Ltd | Ultraviolett-bestrahlungsvorrichtung für photochemische reaktionen und verfahren zur zubereitung von vitamin-d-präparaten unter verwendung der vorrichtung |
JP4575596B2 (ja) | 1998-08-20 | 2010-11-04 | インテグリス・インコーポレーテッド | 多孔質の強酸性重合体を用いたフィルター |
JP2000082322A (ja) * | 1998-09-08 | 2000-03-21 | Ushio Inc | 光源ユニット |
JP2000091192A (ja) | 1998-09-09 | 2000-03-31 | Nikon Corp | 露光装置 |
US6313953B1 (en) | 1999-01-15 | 2001-11-06 | Donaldson Company, Inc. | Gas chemical filtering for optimal light transmittance; and methods |
US6762412B1 (en) | 1999-05-10 | 2004-07-13 | Nikon Corporation | Optical apparatus, exposure apparatus using the same, and gas introduction method |
KR20010007152A (ko) * | 1999-06-01 | 2001-01-26 | 오노 시게오 | 결함검사장치 및 결함검사방법 |
JP2000347233A (ja) * | 1999-06-08 | 2000-12-15 | Sony Corp | 紫外線光学装置 |
JP2001133885A (ja) * | 1999-08-26 | 2001-05-18 | Mitsubishi Electric Corp | プロジェクター |
TW563002B (en) * | 1999-11-05 | 2003-11-21 | Asml Netherlands Bv | Lithographic projection apparatus, method of manufacturing a device using a lithographic projection apparatus, and device manufactured by the method |
JP2001144003A (ja) | 1999-11-16 | 2001-05-25 | Canon Inc | 露光装置およびデバイス製造方法 |
US6571057B2 (en) * | 2000-03-27 | 2003-05-27 | Nikon Corporation | Optical instrument, gas replacement method and cleaning method of optical instrument, exposure apparatus, exposure method and manufacturing method for devices |
EP2269710A1 (en) | 2000-05-05 | 2011-01-05 | Entegris, Inc. | Filters employing both acidic polymers and physical-adsorption media |
US7540901B2 (en) * | 2000-05-05 | 2009-06-02 | Entegris, Inc. | Filters employing both acidic polymers and physical-adsorption media |
JP2002158170A (ja) | 2000-09-08 | 2002-05-31 | Nikon Corp | 露光装置及びデバイス製造方法 |
KR20030097781A (ko) * | 2000-09-19 | 2003-12-31 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광장치, 노광방법, 및 디바이스 제조방법 |
US7050149B2 (en) * | 2002-06-11 | 2006-05-23 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and exposure method |
AU2003242268A1 (en) * | 2002-06-11 | 2003-12-22 | Nikon Corporation | Exposure system and exposure method |
US10340424B2 (en) | 2002-08-30 | 2019-07-02 | GE Lighting Solutions, LLC | Light emitting diode component |
CN2637885Y (zh) * | 2003-02-20 | 2004-09-01 | 高勇 | 发光面为曲面的led灯泡 |
TWI237733B (en) * | 2003-06-27 | 2005-08-11 | Asml Netherlands Bv | Laser produced plasma radiation system with foil trap |
JP2005197191A (ja) * | 2004-01-09 | 2005-07-21 | Ushio Inc | 超高圧水銀ランプおよび該超高圧水銀ランプを用いた光照射装置 |
US7098994B2 (en) * | 2004-01-16 | 2006-08-29 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
US7136142B2 (en) * | 2004-05-25 | 2006-11-14 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus having a gas flushing device |
JP4189354B2 (ja) * | 2004-06-01 | 2008-12-03 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置 |
SG156682A1 (en) * | 2004-10-28 | 2009-11-26 | Novartis Ag | Apparatus for the transport of light emitted by a short-arc lamp |
DE102005044141B4 (de) * | 2005-09-15 | 2008-08-14 | Qimonda Ag | Belichtungsgerät und Verfahren zum Betrieb eines Belichtungsgeräts |
KR100727848B1 (ko) * | 2005-09-27 | 2007-06-14 | 세메스 주식회사 | 기판 가장자리 노광 장치 |
KR100727850B1 (ko) * | 2005-10-27 | 2007-06-14 | 세메스 주식회사 | 기판 노광 장치 |
US20070222950A1 (en) * | 2006-03-21 | 2007-09-27 | Chin-Chung Chen | Projection apparatus and illmination system |
JP5305568B2 (ja) * | 2006-05-22 | 2013-10-02 | 株式会社東芝 | 露光装置及びケミカルフィルタ寿命検知方法 |
TWI417130B (zh) * | 2006-07-13 | 2013-12-01 | Entegris Inc | 過濾系統 |
JP2009276521A (ja) * | 2008-05-14 | 2009-11-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクル |
EP2287644B1 (en) | 2009-08-18 | 2014-04-09 | Mitsubishi Electric Corporation | Light source device and method of producing the same |
US8593040B2 (en) | 2009-10-02 | 2013-11-26 | Ge Lighting Solutions Llc | LED lamp with surface area enhancing fins |
JP2011107572A (ja) * | 2009-11-20 | 2011-06-02 | Hitachi High-Technologies Corp | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の光学部品保護方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
NL2008184A (en) | 2011-02-28 | 2012-08-29 | Asml Netherlands Bv | Gas manifold, module for a lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method. |
CN102518964A (zh) * | 2011-12-11 | 2012-06-27 | 深圳市光峰光电技术有限公司 | 光源和照明装置 |
US9587820B2 (en) | 2012-05-04 | 2017-03-07 | GE Lighting Solutions, LLC | Active cooling device |
US9500355B2 (en) | 2012-05-04 | 2016-11-22 | GE Lighting Solutions, LLC | Lamp with light emitting elements surrounding active cooling device |
JP5983020B2 (ja) | 2012-05-18 | 2016-08-31 | セイコーエプソン株式会社 | 波長可変干渉フィルター、光学フィルターデバイス、光学モジュール、及び電子機器 |
DE102012212394A1 (de) * | 2012-07-16 | 2013-05-29 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abtrennvorrichtung und abtrennverfahren für projektionsbelichtungsanlagen |
JP6224354B2 (ja) * | 2013-05-31 | 2017-11-01 | 株式会社トプコン | スペクトル画像取得装置及びスペクトル画像取得方法 |
CN111373328B (zh) * | 2017-11-21 | 2023-06-09 | Asml荷兰有限公司 | 多孔石墨表膜 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3988129A (en) * | 1974-12-16 | 1976-10-26 | Union Carbide Corporation | Process for removing sulfur dioxide from gas streams |
US4684510A (en) * | 1985-12-20 | 1987-08-04 | Hewlett-Packard Company | Method and apparatus for prevention of atmospheric corrosion of electronic equipment |
US4734835A (en) * | 1986-09-26 | 1988-03-29 | General Signal Corporation | Lamp housing and ventilating system therefor |
US4758250A (en) * | 1987-06-01 | 1988-07-19 | Air Products And Chemicals, Inc. | Ammonia separation using ion exchange polymeric membranes and sorbents |
JPH0675199B2 (ja) * | 1990-04-18 | 1994-09-21 | 株式会社オーク製作所 | 照射光の透光装置 |
JP2788533B2 (ja) * | 1990-04-20 | 1998-08-20 | 株式会社小糸製作所 | 自動車用ヘッドランプ |
JP2626199B2 (ja) * | 1990-07-25 | 1997-07-02 | 日産自動車株式会社 | 車両用放電灯ヘッドランプ |
JP3266156B2 (ja) * | 1990-09-19 | 2002-03-18 | 株式会社ニコン | 照明用光源装置および露光装置 |
JPH04139453A (ja) * | 1990-10-01 | 1992-05-13 | Fujitsu Ltd | 露光装置及びその空冷方法 |
US5298939A (en) * | 1991-11-04 | 1994-03-29 | Swanson Paul A | Method and apparatus for transfer of a reticle pattern onto a substrate by scanning |
US5166530A (en) * | 1991-12-20 | 1992-11-24 | General Signal Corporation | Illuminator for microlithographic integrated circuit manufacture |
US5430303A (en) * | 1992-07-01 | 1995-07-04 | Nikon Corporation | Exposure apparatus |
JP3309867B2 (ja) * | 1993-01-06 | 2002-07-29 | 株式会社ニコン | 露光装置及び照明光学装置 |
-
1993
- 1993-09-02 JP JP21827893A patent/JP3448670B2/ja not_active Expired - Fee Related
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