JPH0675199B2 - 照射光の透光装置 - Google Patents
照射光の透光装置Info
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- JPH0675199B2 JPH0675199B2 JP2102650A JP10265090A JPH0675199B2 JP H0675199 B2 JPH0675199 B2 JP H0675199B2 JP 2102650 A JP2102650 A JP 2102650A JP 10265090 A JP10265090 A JP 10265090A JP H0675199 B2 JPH0675199 B2 JP H0675199B2
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/12—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
- B01J19/122—Incoherent waves
- B01J19/123—Ultraviolet light
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70341—Details of immersion lithography aspects, e.g. exposure media or control of immersion liquid supply
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0073—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
- H05K3/0082—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces characterised by the exposure method of radiation-sensitive masks
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/227—Drying of printed circuits
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はプリント回路基板のパターン形成用，各種印刷
物の写真製版用，各種光硬化型塗料，樹脂，インキ，ワ
ニス等の乾燥、又は硬化膜形成用等のために使用される
露光装置、乾燥装置、又は写真パネルのプリント装置、
その他に幅広く適用できる照射光の透光装置、特に光源
と被照射物とを結ぶ光路の途中に介在して照射光中の熱
線及び不都合な波長成分を除去することができ、更に装
置を冷却する冷却液中に混入した気泡の悪影響を有効に
防止し得る照射光の透光装置に関するものである。
物の写真製版用，各種光硬化型塗料，樹脂，インキ，ワ
ニス等の乾燥、又は硬化膜形成用等のために使用される
露光装置、乾燥装置、又は写真パネルのプリント装置、
その他に幅広く適用できる照射光の透光装置、特に光源
と被照射物とを結ぶ光路の途中に介在して照射光中の熱
線及び不都合な波長成分を除去することができ、更に装
置を冷却する冷却液中に混入した気泡の悪影響を有効に
防止し得る照射光の透光装置に関するものである。
プリント回路基板にパターンを形成するための露光装
置、又は樹脂硬化用紫外線照射装置等には、その光源と
なる放電灯の寿命を延長するため、直接液冷式、強制空
冷式等の冷却手段が種々提案されて広く利用されている
反面、被照射物表面の熱膨張の抑制及び感光材料の正常
な機能の発揮並びに保全を目的として照射光中の不都合
な波長成分を除去する透光装置（いわゆる間接冷却手
段）については充分に研究されていない状況にある。
置、又は樹脂硬化用紫外線照射装置等には、その光源と
なる放電灯の寿命を延長するため、直接液冷式、強制空
冷式等の冷却手段が種々提案されて広く利用されている
反面、被照射物表面の熱膨張の抑制及び感光材料の正常
な機能の発揮並びに保全を目的として照射光中の不都合
な波長成分を除去する透光装置（いわゆる間接冷却手
段）については充分に研究されていない状況にある。
前記透光装置の一例を第17図及び第18図を参照して説明
すると、この装置は石英、又は硬質ガラスでつくった２
枚の透光板1,1と、各透光板1,1の周辺部に沿って各透光
板1,1の間に介在し、前記透光板1,1と共に、内方に偏平
な空間２を形成した筒状の枠体３と、前記枠体３の前側
及び後側の各部分4,5に取り付けた給液管６及び排液管
７等からなり、照射光８がこの透光装置を透過すると、
透光板1,1が照射光８中の軸線を吸収し、この吸収によ
って昇温した透光板1,1は前記空間２内を流通する冷却
液（冷却液の流れを矢印ａで示す）で冷却されるように
なっている。
すると、この装置は石英、又は硬質ガラスでつくった２
枚の透光板1,1と、各透光板1,1の周辺部に沿って各透光
板1,1の間に介在し、前記透光板1,1と共に、内方に偏平
な空間２を形成した筒状の枠体３と、前記枠体３の前側
及び後側の各部分4,5に取り付けた給液管６及び排液管
７等からなり、照射光８がこの透光装置を透過すると、
透光板1,1が照射光８中の軸線を吸収し、この吸収によ
って昇温した透光板1,1は前記空間２内を流通する冷却
液（冷却液の流れを矢印ａで示す）で冷却されるように
なっている。
しかし、前述の透光装置には次に述べるような問題点が
あった。
あった。
〔ｉ〕透光装置を横置き状態（第17図の状態）に設置す
ると、使用中、冷却液中に混入していた気泡10が冷却液
の温度上昇によって大きな塊りに成長して浮上し、上側
の透光板１の内側に付着し、且つ冷却液の流れａによっ
て揺動するため、照射光８の進路が攪乱され、鮮明な画
像の形成が妨げられる。
ると、使用中、冷却液中に混入していた気泡10が冷却液
の温度上昇によって大きな塊りに成長して浮上し、上側
の透光板１の内側に付着し、且つ冷却液の流れａによっ
て揺動するため、照射光８の進路が攪乱され、鮮明な画
像の形成が妨げられる。
〔ii〕泡10が上側の透光板１と冷却液との間に介在する
ので、透光板１の冷却が阻害され、装置の破壊を招く。
従って本装置の使用はもっぱら竪形配置に限定され、応
用範囲が狭い。
ので、透光板１の冷却が阻害され、装置の破壊を招く。
従って本装置の使用はもっぱら竪形配置に限定され、応
用範囲が狭い。
〔iii〕熱線の吸収率が低いため（吸収率は約10％）、
プリント回路基板等の被照射物の熱膨張を抑制すること
が困難であり、また熱線以外の有害な波長成分をほとん
ど吸収しないため、感光材料の光反応特性に充分適合し
た放電灯を使用する必要がある。
プリント回路基板等の被照射物の熱膨張を抑制すること
が困難であり、また熱線以外の有害な波長成分をほとん
ど吸収しないため、感光材料の光反応特性に充分適合し
た放電灯を使用する必要がある。
本発明は前述の問題点に鑑み、冷却液中に混入した気泡
を除去することによって、装置の姿勢に関係なく安定し
た使用を可能にすると共に、鮮明な画像を形成すること
ができ、更に照射光中の熱線及び感光材料に不都合な波
長成分を選択的に吸収する照射光の透光装置を提供する
ことを課題とする。
を除去することによって、装置の姿勢に関係なく安定し
た使用を可能にすると共に、鮮明な画像を形成すること
ができ、更に照射光中の熱線及び感光材料に不都合な波
長成分を選択的に吸収する照射光の透光装置を提供する
ことを課題とする。
前記の課題を達成するため、本発明では次の手段を構成
した。
した。
（１）光源と被照射物とを結ぶ光路の途中に介在し前記
光源が照射した光の一部を吸収して前記被照射物に施し
た感光材料を照射するようにした照射光の透光装置にお
いて、相対して離隔配置した複数の透光板と各透光板の
周辺部に沿って前記透光板に固定され且つ透光板と共に
内方に偏平な空間を形成した枠体と、前記空間を２分す
るように前記空間内に前後方向に傾斜して配置したフィ
ルターと、前記枠体の前側及び後側の各部分に取りつけ
られ前記空間内に冷却液を流通させる給液管及び排液管
とを備え、前記枠体は少なくともその両側及び後側の部
分が筒状をなし、且つ該筒状部の内壁に冷却液を排出す
るための開口が設けてあり、前記透光板及びフィルター
は照射光中の波長成分を選択的に吸収するようにその材
質が選定されていることを特徴とする照射光の透光装
置。
光源が照射した光の一部を吸収して前記被照射物に施し
た感光材料を照射するようにした照射光の透光装置にお
いて、相対して離隔配置した複数の透光板と各透光板の
周辺部に沿って前記透光板に固定され且つ透光板と共に
内方に偏平な空間を形成した枠体と、前記空間を２分す
るように前記空間内に前後方向に傾斜して配置したフィ
ルターと、前記枠体の前側及び後側の各部分に取りつけ
られ前記空間内に冷却液を流通させる給液管及び排液管
とを備え、前記枠体は少なくともその両側及び後側の部
分が筒状をなし、且つ該筒状部の内壁に冷却液を排出す
るための開口が設けてあり、前記透光板及びフィルター
は照射光中の波長成分を選択的に吸収するようにその材
質が選定されていることを特徴とする照射光の透光装
置。
（２）給液管、又はその入口側に気泡細分化装置が設け
てある請求項（１）に記載の照射光の透光装置。
てある請求項（１）に記載の照射光の透光装置。
〔ｉ〕横型配置の場合、装置内に流入した冷却液は、流
れの方向に沿って断面積が漸減するフィルター上側の流
路を通過する過程で流速が増大し、透光板の下面に付着
しようとする気泡を洗い流す。また冷却水がフィルター
下側の流路を通過する過程で浮上した気泡は傾斜したフ
ィルターの下面に沿って斜め上方に移動し、フィルター
の後端側に導かれる。従って、照射光の進路が気泡によ
って攪乱されることがなく、鮮明な画像形成が可能にな
ると共に、透光板の過熱が防止され、装置の安全が保証
される。
れの方向に沿って断面積が漸減するフィルター上側の流
路を通過する過程で流速が増大し、透光板の下面に付着
しようとする気泡を洗い流す。また冷却水がフィルター
下側の流路を通過する過程で浮上した気泡は傾斜したフ
ィルターの下面に沿って斜め上方に移動し、フィルター
の後端側に導かれる。従って、照射光の進路が気泡によ
って攪乱されることがなく、鮮明な画像形成が可能にな
ると共に、透光板の過熱が防止され、装置の安全が保証
される。
〔ii〕透光板とフィルターの材質を適宜選択して組み合
わせるとにより、照射光中の熱線及び不都合な波長成分
を除去することが可能になり、被照射物表面の熱膨張及
び感光材料に対する悪影響を防止できる。
わせるとにより、照射光中の熱線及び不都合な波長成分
を除去することが可能になり、被照射物表面の熱膨張及
び感光材料に対する悪影響を防止できる。
〔iii〕第〔ii〕項の結果、感光材料の光反応特性に完
全に適合した光源を準備する必要がなくなり、多種類の
光源を多目的に利用することができる。
全に適合した光源を準備する必要がなくなり、多種類の
光源を多目的に利用することができる。
以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。第１
図ないし第６図は本発明の第１の実施例を示すもので、
この実施例の装置は、ほぼ正方形をした平板状の透光板
21,21と、この２枚の透光板21,21の間に介在し且つ上下
面がゴム製のライナー22,22を介して前記透光板21,21の
周辺部内側に固着した筒状の枠体23と、この枠体23及び
前記透光板21,21によって囲まれた偏平な空間24内に前
後方向に傾斜した状態で配置した平板状のフィルター25
と、前記枠体23の前側及び後側の各部分26,27に取り付
けた給液管28及び排液管29,29,29等からなり、前記フィ
ルター25の上側にはフィルター25の後端側に向かって断
面積が漸減するくさび状の流路30（以下、上側の流路と
呼ぶ）が形成されており、またフィルター25の下側には
断面積が漸増する流路31（以下、下側の流路と呼ぶ）が
形成されている。
図ないし第６図は本発明の第１の実施例を示すもので、
この実施例の装置は、ほぼ正方形をした平板状の透光板
21,21と、この２枚の透光板21,21の間に介在し且つ上下
面がゴム製のライナー22,22を介して前記透光板21,21の
周辺部内側に固着した筒状の枠体23と、この枠体23及び
前記透光板21,21によって囲まれた偏平な空間24内に前
後方向に傾斜した状態で配置した平板状のフィルター25
と、前記枠体23の前側及び後側の各部分26,27に取り付
けた給液管28及び排液管29,29,29等からなり、前記フィ
ルター25の上側にはフィルター25の後端側に向かって断
面積が漸減するくさび状の流路30（以下、上側の流路と
呼ぶ）が形成されており、またフィルター25の下側には
断面積が漸増する流路31（以下、下側の流路と呼ぶ）が
形成されている。
給液管28は枠体23の前側部分26すなわち分配用流路の中
央部に開口しており、この分配用流路は複数の開口41を
介して上側の流路30に連通している。尚、給液管28の内
部には、後述する気泡細分化装置32が装着されている。
央部に開口しており、この分配用流路は複数の開口41を
介して上側の流路30に連通している。尚、給液管28の内
部には、後述する気泡細分化装置32が装着されている。
枠体23の両側部分33,33及び後側部分27の各内壁34,34;3
5には第１図ないし第３図に示すように複数個の穴36,3
6,36……;37,37,37……が左右対称に開口しており、ま
た枠体23の後端部外壁には排液管29,29,29が開口してい
る。
5には第１図ないし第３図に示すように複数個の穴36,3
6,36……;37,37,37……が左右対称に開口しており、ま
た枠体23の後端部外壁には排液管29,29,29が開口してい
る。
前記穴36及び37は後述するように上側の流路30内の各所
で浮上した気泡38が最短距離を通って枠体23の中空部に
回収できるようにその形状及び配置が設定されており、
更に前記中空部に回収された気泡が逆流しないように各
開口36,37の縁にはフィン、又は切り起こし片39が適
宜、設けられている。
で浮上した気泡38が最短距離を通って枠体23の中空部に
回収できるようにその形状及び配置が設定されており、
更に前記中空部に回収された気泡が逆流しないように各
開口36,37の縁にはフィン、又は切り起こし片39が適
宜、設けられている。
尚、フィルター25の前端部及び後端部には第４図及び第
５図に明瞭に示すようにコの字形断面を有する一対の保
護部材40,40が取り付けられており、この保護部材40,40
はフィルター25のエッジ部分42の破損を防止すると共
に、前記エッジ部分42と枠体23の内壁43,35との間及び
下側の透光板１の上面との間にすき間44,45,46をそれぞ
れ形成して上下の流路30,31を連通させ、特にすき間44,
46は冷却液を上側の流路30から下側の流路31に供給する
役割を果たしている。
５図に明瞭に示すようにコの字形断面を有する一対の保
護部材40,40が取り付けられており、この保護部材40,40
はフィルター25のエッジ部分42の破損を防止すると共
に、前記エッジ部分42と枠体23の内壁43,35との間及び
下側の透光板１の上面との間にすき間44,45,46をそれぞ
れ形成して上下の流路30,31を連通させ、特にすき間44,
46は冷却液を上側の流路30から下側の流路31に供給する
役割を果たしている。
各透光板21,21及びフィルター25の材質は後述するよう
に、本装置の用途及び感光材料の光吸収特性に適合する
ように第11図を利用して最適のものが選択されている。
に、本装置の用途及び感光材料の光吸収特性に適合する
ように第11図を利用して最適のものが選択されている。
気泡細分化装置32は冷却液が本装置内に流入する前に気
泡の塊り41（第７図参照）を細分化しておくためのもの
で、メッシュの細かい金網47を第７図に示すように丸め
て円筒状のケース48及びキャップ51からなるホルダーの
内部に収容したもの（第７図参照）、あるいは放射状に
多数の切れ目49を入れた金属製、又は合成樹脂製の円板
50（第10図参照）を、冷却液の流れ方向（矢印ａ）に逆
行するように押し出したもの（第９図参照）等を使用す
ると好都合であり、この装置によると、冷却液中に予め
混入している気泡が冷却液の温度上昇によって大きく成
長し浮上する現象を最小限に抑制することができる。
尚、気泡細分化装置32又は52は給液管28内に装着する代
わりに冷却用配管（図示せず）の途中に設けてもよい。
泡の塊り41（第７図参照）を細分化しておくためのもの
で、メッシュの細かい金網47を第７図に示すように丸め
て円筒状のケース48及びキャップ51からなるホルダーの
内部に収容したもの（第７図参照）、あるいは放射状に
多数の切れ目49を入れた金属製、又は合成樹脂製の円板
50（第10図参照）を、冷却液の流れ方向（矢印ａ）に逆
行するように押し出したもの（第９図参照）等を使用す
ると好都合であり、この装置によると、冷却液中に予め
混入している気泡が冷却液の温度上昇によって大きく成
長し浮上する現象を最小限に抑制することができる。
尚、気泡細分化装置32又は52は給液管28内に装着する代
わりに冷却用配管（図示せず）の途中に設けてもよい。
次に、本装置の作動を説明する。いま、装置が第１図に
示すように模型（水平）に配置してあって、上方から入
射した照射光53が本装置を透過すると、上下の透光板2
1,21及びフィルター25が照射光中の熱線及び不都合な波
長成分を吸収し、この吸収作用の結果、昇温した透光板
21,21及びフィルター25は冷却液と熱交換を行って冷却
液の温度が上昇し、冷却液中の気泡の一部、すなわち前
述した気泡細分化装置32によって抑制できなかった気泡
38が浮上する。
示すように模型（水平）に配置してあって、上方から入
射した照射光53が本装置を透過すると、上下の透光板2
1,21及びフィルター25が照射光中の熱線及び不都合な波
長成分を吸収し、この吸収作用の結果、昇温した透光板
21,21及びフィルター25は冷却液と熱交換を行って冷却
液の温度が上昇し、冷却液中の気泡の一部、すなわち前
述した気泡細分化装置32によって抑制できなかった気泡
38が浮上する。
一方、給液管28から分配用流路を介して上側の流路30に
流入した冷却液は流路30の断面積が漸減しているので、
流れの速度が速まると共に、枠体23の内壁に開口した穴
36,36,36,…;37,37,37…に向かって流れ（第２図の流線
54参照）、上側の透光板１の下面に付着、又は付着しよ
うとしている気泡38（第５図参照）を洗い流し、洗い流
された気泡38は穴36,37を通って本体23の中空部に収容
される。
流入した冷却液は流路30の断面積が漸減しているので、
流れの速度が速まると共に、枠体23の内壁に開口した穴
36,36,36,…;37,37,37…に向かって流れ（第２図の流線
54参照）、上側の透光板１の下面に付着、又は付着しよ
うとしている気泡38（第５図参照）を洗い流し、洗い流
された気泡38は穴36,37を通って本体23の中空部に収容
される。
また、下側の流路31内で成長し浮上した気泡38はフィル
ター下端側のすき間44,46から下側の流路内に流入した
冷却液の流れ（第６図の流線55参照）に促され、第５図
に示すように傾斜したフィルター25の下面に沿って斜め
上方に移動し（矢印ｂ）、後端側の開口37,37……を通
って枠体23の中空部に収容され、上側の流路30から排出
された気泡と共に排液管29,29,29を通って外部に排出さ
れる。
ター下端側のすき間44,46から下側の流路内に流入した
冷却液の流れ（第６図の流線55参照）に促され、第５図
に示すように傾斜したフィルター25の下面に沿って斜め
上方に移動し（矢印ｂ）、後端側の開口37,37……を通
って枠体23の中空部に収容され、上側の流路30から排出
された気泡と共に排液管29,29,29を通って外部に排出さ
れる。
第１の実施例を適用した露光装置を第12図に示す。この
露光装置では、プリント回路基板61の下側に第１の露光
装置62を水平に配置すると共に、反射鏡63の開口部近傍
に第２の透光装置64を竪型に配置してあり、放電灯65及
び各透光装置62,64を冷却するための冷却液はファン66
及び冷却器67からなる空冷式の冷却装置によって一括し
て冷却されるようになっている。尚、図中の68は平面
鏡、69はフィルム、72は貯液タンク、73はポンプであ
る。
露光装置では、プリント回路基板61の下側に第１の露光
装置62を水平に配置すると共に、反射鏡63の開口部近傍
に第２の透光装置64を竪型に配置してあり、放電灯65及
び各透光装置62,64を冷却するための冷却液はファン66
及び冷却器67からなる空冷式の冷却装置によって一括し
て冷却されるようになっている。尚、図中の68は平面
鏡、69はフィルム、72は貯液タンク、73はポンプであ
る。
プリント回路基板61に精細なパターンを形成するには、
基板61の熱膨張を抑制することが不可欠であるので、各
透光装置62,64の透光板21a,21b及びフィルター25a,25b
の各材料には透明鉛ガラス〔第11図Ｏ〕を採用して波長
が400nm以上の可視光及び赤外光を最大限に除去するよ
うにする。この露光装置によると、反射鏡63の出口側と
基板61の入射側の２個所で熱線を吸収するので（吸収率
は約70％）、基板61が熱膨張することがなく、精細なパ
ターンを形成することができる。
基板61の熱膨張を抑制することが不可欠であるので、各
透光装置62,64の透光板21a,21b及びフィルター25a,25b
の各材料には透明鉛ガラス〔第11図Ｏ〕を採用して波長
が400nm以上の可視光及び赤外光を最大限に除去するよ
うにする。この露光装置によると、反射鏡63の出口側と
基板61の入射側の２個所で熱線を吸収するので（吸収率
は約70％）、基板61が熱膨張することがなく、精細なパ
ターンを形成することができる。
第１の実施例を適用した紫外線乾燥装置（UVドライヤ
ー）を第13図及び第14図に示す。この乾燥装置は印刷用
原紙のインキを乾燥するためのもので、ランプハウス75
の外方に透光装置76が配置されている。尚、図中の77は
空冷式の放電灯、78は反射鏡である。
ー）を第13図及び第14図に示す。この乾燥装置は印刷用
原紙のインキを乾燥するためのもので、ランプハウス75
の外方に透光装置76が配置されている。尚、図中の77は
空冷式の放電灯、78は反射鏡である。
従来の印刷用原紙の乾燥装置では、印刷用原紙74の走行
を停止した際の焼損事故防止が重要な課題になっている
が、透光板及びフィルターの材質として熱線の吸収効果
が大きい透明鉛ガラス（第11図Ｏ）を使用することより
印刷用原紙74の焼損事故を防止することができる。
を停止した際の焼損事故防止が重要な課題になっている
が、透光板及びフィルターの材質として熱線の吸収効果
が大きい透明鉛ガラス（第11図Ｏ）を使用することより
印刷用原紙74の焼損事故を防止することができる。
第１の実施例を適用した露光装置の別の応用例を第15図
に示す。この露光装置では３個の透光装置79,79,79が放
電灯77を取り囲むように隣接してプリズム状に配置され
ており、サイズの大きいプリント回路基板61aの画像形
成に好都合である。
に示す。この露光装置では３個の透光装置79,79,79が放
電灯77を取り囲むように隣接してプリズム状に配置され
ており、サイズの大きいプリント回路基板61aの画像形
成に好都合である。
尚、第15図中における80は透光板と同じ材料でつくった
中空構造の柱状体、81はシール部材である。
中空構造の柱状体、81はシール部材である。
本発明の第２の実施例を第16図に示す。この例は上側の
透光板21cを曲面で形成したもので、基板61の中央部に
おける冷却液の流速を最大にして中央部における気泡の
除去効果を高めたものであり、これ以外は第１の実施例
と変わるところはない。また、第16図には図示してない
が、この実施例の装置を反射鏡の背面側に配置すること
によって反射鏡背面側に放射される熱線等を吸収するこ
とが可能になり、いわゆるヒートシンクとして利用する
ことができる。
透光板21cを曲面で形成したもので、基板61の中央部に
おける冷却液の流速を最大にして中央部における気泡の
除去効果を高めたものであり、これ以外は第１の実施例
と変わるところはない。また、第16図には図示してない
が、この実施例の装置を反射鏡の背面側に配置すること
によって反射鏡背面側に放射される熱線等を吸収するこ
とが可能になり、いわゆるヒートシンクとして利用する
ことができる。
尚、本発明は前述の実施例にのみ限定されるものではな
く、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の変更を加
え得ることは勿論である。
く、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の変更を加
え得ることは勿論である。
以上に述べたごとく本発明は次の優れた効果を発揮す
る。
る。
〔ｉ〕透光板と傾斜したフィルターを組み合わせてフィ
ルターの上側にくさび状の流路を形成し、前記流路を流
通する冷却液の流速を大にして気泡を洗い流すと共に、
フィルター下側の流路では、傾斜したフィルターの下面
に沿って気泡を誘導するようにしたので、装置の姿勢に
関係なく透過光の攪乱及び装置の破壊を防止することが
可能になり、その結果、鮮明な画像の形成及び装置の応
用範囲の拡大を図ることができる。
ルターの上側にくさび状の流路を形成し、前記流路を流
通する冷却液の流速を大にして気泡を洗い流すと共に、
フィルター下側の流路では、傾斜したフィルターの下面
に沿って気泡を誘導するようにしたので、装置の姿勢に
関係なく透過光の攪乱及び装置の破壊を防止することが
可能になり、その結果、鮮明な画像の形成及び装置の応
用範囲の拡大を図ることができる。
〔ii〕透光板とフィルターの材質を適宜選択して組み合
わせることにより、照射光中の熱線及び不都合な波長成
分を除去することが可能になり、被照射物表面の熱膨張
及び感光材料に対する悪影響を防止できる。
わせることにより、照射光中の熱線及び不都合な波長成
分を除去することが可能になり、被照射物表面の熱膨張
及び感光材料に対する悪影響を防止できる。
〔iii〕第〔ii〕項の結果、感光材料の光反応特性に完
全に適合した光源を準備する必要がなくなり、多種類の
光源を多目的に利用することができる。
全に適合した光源を準備する必要がなくなり、多種類の
光源を多目的に利用することができる。
第１図ないし第６図は本発明の第１の実施例を示し、第
１図は切断側面図、第２図は第１図におけるII-II方向
からの矢視図、第３図は第１図におけるIII-III方向か
らの矢視図、第４図及び第５図は第１図におけるIV部及
びＶ部の拡大図、第６図は第１図におけるVI-VI方向か
らの部分を示す矢視図、第７図は第１図に示す気泡細分
化装置の切断側面図、第８図は第７図における金網の斜
視図、第９図は別の気泡細分化装置の側面図、第10図は
第９図に示す気泡細分化装置の製作方法の説明図、第11
図は各種感光材料の光吸収特性図及び各種フィルター材
料の光吸収特性図、第12図は第１図の実施例を適用した
露光装置の切断側面図、第13図は第１の実施例を適用し
た紫外線乾燥装置の一部切断側面図、第14図は第13図に
おけるXIV-XIV方面からの矢視図、第15図は第１の実施
例を適用した別の露光装置の切断正面図、第16図は本発
明の第２の実施例である透光装置の切断側面図、第17図
は従来の透光装置の切断側面図、第18図は第17図におけ
るXVIII-XVIII方向からの矢視図である。 21,21a,21b,21c……透光板 23……枠体、24……空間 25,25a,25b……フィルター 26,27,33……枠体の部分 28……給液管、29……排液管 30,31……流路 32,52……気泡細分化装置 34,35……内壁、36,37……穴
１図は切断側面図、第２図は第１図におけるII-II方向
からの矢視図、第３図は第１図におけるIII-III方向か
らの矢視図、第４図及び第５図は第１図におけるIV部及
びＶ部の拡大図、第６図は第１図におけるVI-VI方向か
らの部分を示す矢視図、第７図は第１図に示す気泡細分
化装置の切断側面図、第８図は第７図における金網の斜
視図、第９図は別の気泡細分化装置の側面図、第10図は
第９図に示す気泡細分化装置の製作方法の説明図、第11
図は各種感光材料の光吸収特性図及び各種フィルター材
料の光吸収特性図、第12図は第１図の実施例を適用した
露光装置の切断側面図、第13図は第１の実施例を適用し
た紫外線乾燥装置の一部切断側面図、第14図は第13図に
おけるXIV-XIV方面からの矢視図、第15図は第１の実施
例を適用した別の露光装置の切断正面図、第16図は本発
明の第２の実施例である透光装置の切断側面図、第17図
は従来の透光装置の切断側面図、第18図は第17図におけ
るXVIII-XVIII方向からの矢視図である。 21,21a,21b,21c……透光板 23……枠体、24……空間 25,25a,25b……フィルター 26,27,33……枠体の部分 28……給液管、29……排液管 30,31……流路 32,52……気泡細分化装置 34,35……内壁、36,37……穴
Claims (2)
- 【請求項１】光源と被照射物とを結ぶ光路の途中に介在
し前記光源が照射した光の一部を吸収して前記被照射物
に施した感光材料を照射するようにした照射光の透光装
置において、 相対して離隔配置した複数の透光板と、各透光板の周辺
部に沿って前記透光板に固定され且つ透光板と共に内方
に偏平な空間を形成した枠体と、前記空間を２分するよ
うに前記空間内に前後方向に傾斜して配置したフィルタ
ーと、前記枠体の前側及び後側の各部分に取り付けられ
前記空間内に冷却液を流通させる給液管及び排液管とを
備え、 前記枠体は少なくともその両側及び後側の部分が筒状を
なし、且つ該筒状部の内壁に冷却液を排出するための開
口が設けてあり、前記透光板及びフィルターは照射光中
の波長成分を選択的に吸収するようにその材質が選定さ
れている ことを特徴とする照射光の透光装置。 - 【請求項２】給液管、又はその入口側に気泡細分化装置
が設けてある請求項（１）に記載の照射光の透光装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2102650A JPH0675199B2 (ja) | 1990-04-18 | 1990-04-18 | 照射光の透光装置 |
| US07/685,648 US5168302A (en) | 1990-04-18 | 1991-04-16 | Apparatus for permeating irradiated light |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2102650A JPH0675199B2 (ja) | 1990-04-18 | 1990-04-18 | 照射光の透光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH041654A JPH041654A (ja) | 1992-01-07 |
| JPH0675199B2 true JPH0675199B2 (ja) | 1994-09-21 |
Family
ID=14333124
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2102650A Expired - Lifetime JPH0675199B2 (ja) | 1990-04-18 | 1990-04-18 | 照射光の透光装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5168302A (ja) |
| JP (1) | JPH0675199B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6020950A (en) * | 1992-02-24 | 2000-02-01 | Nikon Corporation | Exposure method and projection exposure apparatus |
| JP3448670B2 (ja) * | 1993-09-02 | 2003-09-22 | 株式会社ニコン | 露光装置及び素子製造方法 |
| GB2284469B (en) * | 1993-12-01 | 1997-12-03 | Spectral Technology Limited | Lamp assembly |
| JP3606149B2 (ja) * | 2000-02-01 | 2005-01-05 | ウシオ電機株式会社 | 光源装置 |
| JP3805180B2 (ja) * | 2000-09-14 | 2006-08-02 | 株式会社東芝 | 表示素子 |
| DE102020206695A1 (de) * | 2020-05-28 | 2021-04-15 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Reduktion von Vibrationen bedingt durch Gasblasen im Temperierfluid in mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlagen |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3914010A (en) * | 1974-11-25 | 1975-10-21 | Us Army | Liquid long-wave pass filter for high intensity light source |
| US4000407A (en) * | 1975-04-07 | 1976-12-28 | Illumination Industries Inc. | Combined infrared filter and light focusing apparatus for a mercury vapor lamp |
| DE3037205C2 (de) * | 1980-10-02 | 1982-12-16 | Messerschmitt-Bölkow-Blohm GmbH, 8000 München | Schutzeinrichtung für optische bzw. IR-Fenster |
| DE69026181D1 (de) * | 1989-10-11 | 1996-05-02 | Sanyo Electric Co | Flussigkristallprojektor |
-
1990
- 1990-04-18 JP JP2102650A patent/JPH0675199B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-04-16 US US07/685,648 patent/US5168302A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5168302A (en) | 1992-12-01 |
| JPH041654A (ja) | 1992-01-07 |
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