KR940704006A - 광도파로 디바이스의 제조방법 - Google Patents

광도파로 디바이스의 제조방법

Info

Publication number
KR940704006A
KR940704006A KR1019940702240A KR19940702240A KR940704006A KR 940704006 A KR940704006 A KR 940704006A KR 1019940702240 A KR1019940702240 A KR 1019940702240A KR 19940702240 A KR19940702240 A KR 19940702240A KR 940704006 A KR940704006 A KR 940704006A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
optical waveguide
pattern
substrate
manufacturing
conductor
Prior art date
Application number
KR1019940702240A
Other languages
English (en)
Other versions
KR0179664B1 (ko
Inventor
히로나오 하코기
타카시 야마네
준코 와타나베
Original Assignee
세끼자와 다다시
후지쓰 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 세끼자와 다다시, 후지쓰 가부시끼가이샤 filed Critical 세끼자와 다다시
Publication of KR940704006A publication Critical patent/KR940704006A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR0179664B1 publication Critical patent/KR0179664B1/ko

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/122Basic optical elements, e.g. light-guiding paths

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Optical Integrated Circuits (AREA)

Abstract

초전효과를 갖는 결정성인 기판 위에 형성하는 광도파로 패턴의 방전파괴를 실질적으로 소멸 내지 경감시키고, 광도파로 디바이스 제조시의 수율을 향상시킨다. 열처리에 의해서 광도파로패턴(5) 등을 초전성을 갖는 니오브산리튬기판(2) 위에 병렬로 복수개 패턴형성하고, 이것을 소정칩상으로 개개로 분단하여 되는 광도파로 디바이스의 제조방법에 있어서, 광도파로패턴(5) 등의 양단부가 칩유효범위에서 벗어난 위치에서 각각 도통하도록 패턴형성한다.
또 도파로패턴(25) 등의 근방 위치에 다미패턴(26) 등을 패턴형성한다.

Description

광도파로 디바이스의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 1 도는 본 발명에 의한 광도파로 디바이스의 제조방법의 제 1 실시예의 광도파로 패턴이 패턴형성된 웨이퍼의 요부평면도, 제 2 도는 제 2 실시예의 요부평면도, 제 3 도는 제 3 실시예의 요부평면도, 제 4 도는 제 4 실시예의 요부평면도, 제 5 도는 제 5 실시예의 요부평면도, 제 6 도는 제 6 실시예의 요부평면도, 제 7 도는 제 7 실시예의 요부평면도, 제 8 도는 제 8 실시예의 요부평면도.

Claims (15)

  1. 초전효과를 갖는 기판 위에 금속의 도체패턴을 형성하고, 상기 기판을 가열하여 상기 도체패턴을 열확산처리함으로써, 광도파로패턴을 형성하고, 상기 기판을 칩유효범위로 절단하여 칩상의 광도파로 디바이스를 얻는 광도파로 디바이스의 제조에 있어서, 상기 칩유효범위에서 벗어난 상기 기판 위의 위치에 상기 광도파로패턴의 폭보다 넓은 폭의 도체부를 형성하고, 상기 광도파로패턴용 도체패턴의 적어도 일단을 상기 도체부에 도통하도록, 상기 도체패턴을 형성한 것을 특징으로 하는 광도파로 디바이스의 제조방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 기판 위에 상기 광도파로패턴을 복수 병렬로 배치하도록 형성하는 것을 특징으로 하는 광도파로 디바이스의 제조방법.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 칩유효범위에서 벗어난 상기 기판의 양측에 상기 도체부를 형성하고, 각 광도파로패턴의 양단을 각각의 도체부에 접속한 것을 특징으로 하는 광도파로 디바이스의 제조방법.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 광도파로패턴의 근방 위치에 도체의 패턴인 다미 패턴을 상기 광도파로패턴의 형성과 동시에 상기 기판 위에 패턴형성하는 것을 특징으로 하는 광도파로 디바이스의 제조방법.
  5. 제 4 항에 있어서, 상기 다미패턴은 대략 직선상이고, 단부에 둥근 각부를 갖는 것을 특징으로 하는 광도파로 디바이스의 제조방법.
  6. 제 4 항에 있어서, 상기 다미패턴은 대략 직선상이고, 일단은 상기 도체부에 접속되고, 다른 단부는 둥근 각부로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 광도파로 디바이스의 제조방법.
  7. 초전효과를 갖는 기판 위에 금속의 도체패턴을 복수 병렬로 형성하고, 상기 기판을 가열하여 상기 도체패턴을 열확산처리함으로써, 복수의 광도파로패턴을 형성하고, 상기 기판을 칩유효범위로 절단하여 칩상의 광도파로 디바이스를 얻는 광도파로 디바이스의 제조방법에 있어서, 상기 칩유효범위에서 벗어난 상기 기판 위의 위치에, 각 광도파로패턴의 단부에 도통하는 연결도체부와, 상기 연결도체부에서 돌출한 방전유발부를 상기 도파로패턴의 형성과 동시에 패턴형성하는 것을 특징으로 하는 광도파로 디바이스의 제조방법.
  8. 제 7 항에 있어서, 상기 칩유효범위에서 벗어난 상기 기판의 양측에 상기 도체연결부를 형성하고, 각 광도파로패턴의 양측을 각각의 도체연결부에 접속한 것을 특징으로 하는 광도파로 디바이스의 제조방법.
  9. 제 7 항에 있어서, 상기 광도파로패턴에 대하여, 근방위치에서 또한 대략 평행하게 다미패턴을 상기 광도파로패턴의 형성과 동시에 상기 기판 위에 패턴형성하는 동시에, 상기 방전유발부는 상기 연결도체부에서 상기 도파로패턴의 반대측으로 돌출하도록 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 광도파로 디바이스의 제조방법.
  10. 제 7 항에 있어서, 상기 칩유효범위에서 벗어난 상기 기판 위의 위치에서 또한 상기 방전유발부에 근접하여 비교적 면적이 큰 도체부를 상기 도파로패턴의 형성과 동시에 패턴형성하는 것을 특징으로 하는 광도파로 디바이스의 제조방법.
  11. 제 7 항에 있어서, 상기 방전유발부는 뾰족한 각부를 갖도록 형성되는 것을 특징으로 하는 광도파로 디바이스의 제조방법.
  12. 제 7 항에 있어서, 상기 칩유효범위에서 벗어난 상기 기판 위의 위치에서 또한 상기 방전유발부에 근접하여 비교적 면적이 작은 섬모양의 도체부를 복수, 상기 도파로패턴의 형성과 동시에 패턴형성하는 것을 특징으로 하는 광도파로 디바이스의 제조방법.
  13. 초전효과를 갖는 기판 위에 금속의 도체패턴을 형성하고, 상기 기판을 가열하여 상기 도체패턴을 가열확산처리함으로써 광도파로패턴을 형성하고, 상기 기판을 칩유효범위로 절단하여 칩상의 광도파로 디바이스를 얻는 광도파로 디바이스의 제조방법에 있어서, 상기 광도파로패턴의 근방에 상기 광도파로용 도체패턴보다 짧은 도체패턴인 다미패턴을, 상기 광도파로패턴의 형성과 동시에 상기 기판 위에 패턴형성하는 것을 특징으로 하는 광도파로 디바이스의 제조방법.
  14. 제13항에 있어서, 상기 기판 위에 상기 광도파로패턴을 복수 병렬로 배치되고, 이들의 복수의 광도파로패턴의 각 단부가, 상기 칩유효범위에서 벗어난 상기 기판 위에 형성된 연결도체부에 각각 도통되고, 상기 다미패턴의 일단도 상기 연결도체부에 각각 도통되어 있는 것을 특징으로 하는 광도파로 디바이스의 제조방법.
  15. 제14항에 있어서, 상기 다미패턴의 다른 단부는 둥근 각부를 갖는 것을 특징으로 하는 광도파로 디바이스의 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019940702240A 1992-10-28 1993-10-28 광도파로 디바이스의 제조방법 KR0179664B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP92-290020 1992-10-28
JP29002092 1992-10-28
PCT/JP1993/001565 WO1994010592A1 (en) 1992-10-28 1993-10-28 Method of producing waveguide device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR940704006A true KR940704006A (ko) 1994-12-12
KR0179664B1 KR0179664B1 (ko) 1999-05-15

Family

ID=17750754

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019940702240A KR0179664B1 (ko) 1992-10-28 1993-10-28 광도파로 디바이스의 제조방법

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5612086A (ko)
JP (1) JP3447056B2 (ko)
KR (1) KR0179664B1 (ko)
WO (1) WO1994010592A1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030058647A (ko) * 2001-12-31 2003-07-07 주식회사 케이티 평면도파로를 갖는 소자 제조 방법

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000266952A (ja) * 1999-03-18 2000-09-29 Nec Corp 光導波路素子の製造方法及び光導波路素子
JP4085423B2 (ja) * 2002-09-18 2008-05-14 日立化成工業株式会社 光導波路デバイスの製造方法
JP2005338467A (ja) 2004-05-27 2005-12-08 Nhk Spring Co Ltd 光分岐器及びその製造方法
JP4992837B2 (ja) * 2008-06-30 2012-08-08 富士通株式会社 光デバイスの製造方法
WO2010126041A1 (ja) 2009-04-28 2010-11-04 日本合成化学工業株式会社 ポリビニルアルコール系樹脂組成物
JP2012008160A (ja) * 2010-06-22 2012-01-12 Nec Corp 光導波路デバイスおよび光導波路デバイスの製造方法
US8380023B2 (en) * 2010-07-14 2013-02-19 Furukawa Electric Co., Ltd. Waveguide-type optical circuit
JP6237180B2 (ja) * 2013-12-06 2017-11-29 住友大阪セメント株式会社 光導波路デバイスの製造方法
JPWO2016021505A1 (ja) * 2014-08-04 2017-05-18 住友ベークライト株式会社 導波路
JP6911329B2 (ja) * 2016-11-09 2021-07-28 富士通オプティカルコンポーネンツ株式会社 光変調器および光モジュール

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4037005A (en) * 1974-02-15 1977-07-19 Rca Corporation Method of making optical waveguides and product by the process
US4056304A (en) * 1975-03-06 1977-11-01 Rca Corporation Light modulation employing single crystal optical waveguides of niobium-doped lithium tantalate
US3997687A (en) * 1975-04-21 1976-12-14 Rca Corporation Method of preparing optical waveguides
US4100313A (en) * 1975-10-28 1978-07-11 Rca Corporation Process for forming an optical waveguide
US4284663A (en) * 1976-05-10 1981-08-18 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Fabrication of optical waveguides by indiffusion of metals
US4382978A (en) * 1978-08-31 1983-05-10 Hughes Aircraft Company Method of laser enhanced thermal diffusion
FR2449291A1 (fr) * 1979-02-15 1980-09-12 Carenco Alain Procede d'equilibrage d'un dispositif optique integre a l'aide d'une couche metallique mince et dispositif obtenu par ce procede
JPS5866916A (ja) * 1981-10-16 1983-04-21 Nec Corp 導波形光制御デバイスの製作方法
US4376138A (en) * 1982-01-04 1983-03-08 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Optical waveguides in InGaAsP and InP
JPH027019A (ja) * 1988-06-27 1990-01-11 Seiko Epson Corp 液晶表示装置の製造方法
JPH043128A (ja) * 1990-04-20 1992-01-08 Fujitsu Ltd 部分的分極反転領域の形成方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030058647A (ko) * 2001-12-31 2003-07-07 주식회사 케이티 평면도파로를 갖는 소자 제조 방법

Also Published As

Publication number Publication date
US5612086A (en) 1997-03-18
JP3447056B2 (ja) 2003-09-16
WO1994010592A1 (en) 1994-05-11
KR0179664B1 (ko) 1999-05-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR940704006A (ko) 광도파로 디바이스의 제조방법
SE8500700D0 (sv) Electrical heating device
US4209798A (en) Module for integrated circuits
KR960706284A (ko) 열전 모듈 및 그 제조 방법
KR900019212A (ko) 패키지된 반도체 장치
US5543765A (en) Integrated electronic elements with variable electrical characteristics, especially for microwave frequencies
KR950021536A (ko) 캐패시터의 전하저장전극 구조 및 그 제조방법
US6175098B1 (en) Plane heating element without electromagnetic waves and a manufacturing method thereof
KR970077750A (ko) 광학 반도체 소자 및 이의 제조 방법
KR880014687A (ko) Mos집적회로의 출력버퍼
US5144327A (en) Source of microwave radiation for an electronic sweeping antenna which absorbs reflected energy
US5834991A (en) Thick film lange coupler
RU93046313A (ru) Термоэлектрический модуль (тэмо) и способ изготовления термоэлектрического модуля
KR900001005A (ko) 마스터 슬라이스(Master slice)방법을 사용하여 반도체 집적회로를 형성하는 방법
KR970025320A (ko) 회로기판
JPS55115339A (en) Ic stem
KR950012613A (ko) 반도체 장치 및 그 제조 방법
JPS63221701A (ja) ストリツプ線路
RU99100058A (ru) Полупроводниковое длинномерное изделие для термоэлектрических устройств
US6414362B1 (en) Power semiconductor device
SU1830565A1 (ru) Дeлиteль moщhoctи
JPS6473795A (en) Semiconductor device
JPH01154532A (ja) 半導体装置
KR920002981Y1 (ko) Ic 소자
JPS5676579A (en) Longitudinal microwave transistor package

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20121114

Year of fee payment: 15

EXPY Expiration of term