KR940018699A - TiSi_2/TiN 피복 상호 연결 기술 - Google Patents

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Abstract

TiSi2와 TiN LI 공정 양쪽 모두의 장점을 결합한 TiSi2/TiN 피복 LI 스트랩 공정 및 구조가 개시된다. 본 발명에 따라서, 국부 상호 연결[즉, TiSi2(14)] 및 접촉[즉, TiSi2(16)] 사이의 얇은 TiN층(12)의 보유는 역도핑에 대비하여 확산 장벽을 제공하고 후속 공정을 위해 열 버짓을 경감한다.

Description

TiSi2/TiN 피복 상호 연결 기술
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 1 도, 제 2 도, 제 3 도는 발명에 따르는 공정에서의 국부 상호 연결의 형성을 도시한 단면도.

Claims (16)

  1. 국부 상호 연결 스트랩, 상기 스트랩에 인접한 장벽층 영역 및 실리콘 또는 그것의 화합물과 접촉한 규화물, 산화물, 전도 재료로 구성된 그룹으로부터 선택된 재료로 만들어진 상기 장벽층과 인접한 영역을 포함하는 것을 특징으로 하는 국부 상호 연결 구조.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 장벽층 영역이 TiN을 포함하는 것을 특징으로 하는 국부 상호 연결 구조.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 국부 상호 연결 스트랩이 전도층 영역과 장벽층 영역을 포함하는 것을 특징으로 하는 국부 상호 연결 구조.
  4. 제 3 항에 있어서, 상기 전도층 영역이 TiSi2를 포함하는 것을 특징으로 하는 국부 상호 연결 구조.
  5. 제 3 항에 있어서, 상기 장벽층 영역이 TiN을 포함하는 것을 특징으로 하는 국부 상호 연결 구조.
  6. 국부 상호 연결을 형성하기 위한 공정에 있어서, 실리콘을 포함한 기판 위에 내화성 금속층을 피착하는 단계, 제 1 규화된 영역에 인접하여 제 1 장벽 금속 영역을 형성하기 위해 분위기 가스내에서 전술한 공정 단계에 의해 형성된 구조를 열처리하는 단계, 상기 제 1 장벽 금속 영역상에 내화성 금속을 피착하는 단계, 상기 제 1 장벽 금속 영역상에 피착된 티타늄상에 실리콘을 피착하는 단계, 전도 영역에 인접하여 제 2 장벽 금속 영역을 형성하기 위해 분위기 가스내에서 전술한 공정 단계에 의해 형성된 구조를 열처리하는 단계 및 장벽 금속 영역의 노출된 영역들을 에칭하여 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 국부 상호 연결을 형성하기 위한 공정.
  7. 제 6 항에 있어서, 상기 피착된 실리콘이 비정질 실리콘, 다결정 실리콘 또는 그 화합물로 구성된 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 공정.
  8. 제 6 항에 있어서, 상기 장벽 금속 영역이 TiN을 포함하는 것을 특징으로 하는 공정.
  9. 제 6 항에 있어서, 상기 규화된 영역이 TiSi2를 포함하는 것을 특징으로 하는 공정.
  10. 제 6 항에 있어서, 상기 전도 영역이 TiSi2를 포함하는 것을 특징으로 하는 공정.
  11. 제 6 항에 있어서, 상기 가스가 N2인 것을 특징으로 하는 공정.
  12. 국부 상호 연결을 형성하기 위한 공정에 있어서, 실리콘을 포함한 기판 위에 티타늄 층을 피착하는 단계, 제1TiSi2영역에 인접하여 제1TiN 영역을 형성하기 위해 분위기 N2내에서 전술한 공정 단계에 의해 형성된 구조를 열처리하는 단계, 상기 제1TiN 영역상에 티타늄을 피착하는 단계, 상기 제1TiN 영역상에 피착된 상기 티타늄상에 실리콘을 피착하는 단계, 제2TiSi2영역에 인접하여 제2TiN 영역을 형성하기 위해 분위기 N2내에서 전술한 공정 단계에 의해 형성된 구조를 열처리하는 단계 및 TiN의 노출된 영역들을 에칭하여 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 국부 상호 연결을 형성하기 위한 공정.
  13. 제12항에 있어서, 상기 피착된 실리콘이 비정질 실리콘인 것을 특징으로 하는 공정.
  14. TiSi2와 TiN을 포함하는 국부 상호 연결 스트랩, 상기 스트랩에 인접한 TiN 영역 및 실리콘 또는 산회물과 접촉한 규화물 전도성 재료로 구성된 그룹으로부터 선택된 재료로 만들어진 상기 TiN 영역에 인접한 영역을 포함하는 것을 특징으로 하는 국부 상호 연결 구조.
  15. 제1 및 제 2 규화물 영역, 상기 제 1 규화물 영역과 상기 제 2 규화물 영역 사이에 접속된 장벽층 및 상기 장벽층에 인접한 규화물 층을 포함하는 것을 특징으로 하는 국부 상호 연결 구조.
  16. 각각 TiSi2를포함하는 제1 및 제 2 영역, 상기 제 1 영역과 상기 제 2 영역 사이에 접속된 TiN을 포함하는 장벽층 및 상기 장벽층에 인접한 TiSi2층을 포함하는 것을 특징으로 하는 국부 상호 연결 구조.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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