KR940015683A - 금속패턴 형성방법 - Google Patents
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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Abstract
본 발명은 반도체장치의 제조방법에 관한것으로, 특히 포토레지스트 패턴을 식각마스크로 한 금속식각 공정에 있어서, 포토레지스트 패턴을 식각마스크로 하여 금속을 식각한 후, 식각용액에 처리하는 공정없이 포토레지스트 패턴을 제거하는 것을 특징으로 하는 금속패턴 형성방법을 제공한다. 따라서, 금속의 부식 및 드는 비용이 적으면서도 공정이 단순하게 금석패턴을 형성할 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 종래 방법에 의한 금속패턴 형성방법을 도시한 순서도, 제2도는 본 발명의 방법에 의한 금속패턴 형성 방법을 도시한 공정도.
Claims (2)
- 포토레지스트 패턴을 식각마스크로 한 금속식각 공정에 있어서, 포토레지스트 패턴을 식각마스크로 하여 금속을 식각한 후, 식각용액에 처리하는 공정없이 포토레지스트 패턴은 제거하는 것을 특징으로 하는 금속패턴 형성방법.
- 제1항에 있어서, 포토레지스트 패턴을 식각마스크로 하여 금속을 식각하는 상기 공정은, 금속에 대한 포토레지스트의 선택도를 낮추어 금속을 식각하고, 이 결과물을 패시베이션 한 후, D.I워터에 린스하는것을 특징으로 하는 금속패턴 형성방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019920026947A KR960007445B1 (ko) | 1992-12-30 | 1992-12-30 | 금속패턴 형성 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019920026947A KR960007445B1 (ko) | 1992-12-30 | 1992-12-30 | 금속패턴 형성 방법 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR940015683A true KR940015683A (ko) | 1994-07-21 |
| KR960007445B1 KR960007445B1 (ko) | 1996-05-31 |
Family
ID=19348098
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019920026947A KR960007445B1 (ko) | 1992-12-30 | 1992-12-30 | 금속패턴 형성 방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR960007445B1 (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20230024861A (ko) * | 2021-08-12 | 2023-02-21 | 한양대학교 산학협력단 | 분자선 구조를 갖는 다층 분자막 포토레지스트 및 이의 제조방법 |
-
1992
- 1992-12-30 KR KR1019920026947A patent/KR960007445B1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20230024861A (ko) * | 2021-08-12 | 2023-02-21 | 한양대학교 산학협력단 | 분자선 구조를 갖는 다층 분자막 포토레지스트 및 이의 제조방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR960007445B1 (ko) | 1996-05-31 |
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