KR940010132A - 비아 충진 조성물 - Google Patents
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Abstract
은과 합금될수 없는Os, Ru, Ir, Rh 및 이들의 혼합물 및 합금으로 이루어진 군으로부터 선택된 전도성 금속의 미분 입자와, 임의로 소량의 무기 결합제로 이루어지고, 액체 유기 매질중에 분산된, 비아충진용으로 특히 적당한 후막 페이스트.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (13)
- 은과 합금될수 없는 Os, Ru, Ir, Rh 및 이들의 혼합물 및 합금으로 이루어진 군으로부터 선택된 전도성금속의 미분 입자, 전체 무기 고상물 기준으로 90-100중량% 및 무기 결합제의 미분입자 10-0중량%로 이루어지고, 액체 유기 매질에 분산된 후막 페이스트 조성물.
- 제1항에 있어서, 전도성 금속이 Ru인 조성물.
- 제1항에 있어서, 400-1000℃의 연화점을 갖는 무기 결합제 0.5-10%를 함유하는 조성물.
- (1)전기 기능층들을 분리시키는 유전층에 비아 홀을 형성시키는 단계, (2)스크린 인쇄에 의해 비아 홀을 제1항 기재의 조성물로 충진시키는 단계, (3)충진된 비아 홀을 소정하여 페이스트로부터 액체 유기 매질을 휘발시키고, 전도성 금속 입자와 존재하는 경우 무기 결합제를 소결시키는 단계의 연속 단계로 이루어진, 유전층에 의해 분리된 전기 기능층들 사이에 전기 전도성 비아를 형성하는 방법.
- 제4항에 있어서, 유전층이 무기 결합제를 함유하지 않는 알루미나 그린 테이프로부터 형성되고, 비아충진 페이스트가 무기 결합제를 함유하지 않으며, 소성이 비환원성 분위기하에 1300-1600℃에서 수행되는 방법.
- 제4항에 있어서, 유전층이 무기 결합제를 함유한 알루미나 그린 테이프로부터 형성되며, 비아 충진 페이스트가 무기 결합제를 함유하고, 소성이 비환원성 분리기하에 800-1000℃에서 수행되는 방법.
- 제4항에 있어서, 전기 기능층이 저항체 및 전도체로부터 선택되는 방법.
- 제4항에 있어서, 전기 기능층이 비아충진 조성물과 동일한 조성을 갖는 후막 페이스트를 인쇄 및 소성시킴으로써 제조된 전도성 층인 방법.
- 유전성 테이프층과 전도체 패턴층의 교대층으로 이루어지고, 제1항 기재의 후막 페이스트로 충진된 상호 접속 비아를 가지며, 비환원성 분위기하에서 소성됨으로써 유기 매질이 완전히 휘발되고 전도성 금속이 소결된 소성된 다층 전자 구조체.
- 제9항에 있어서, 소성된 유전성 테이프층이 알루미나로 이루어지고, 구조체가 1300-1600℃의 온도에서 소성된 것인 다층 전자 구조체.
- 제9항에 있어서, 소성된 유전성 테이프가 90-99.5%의 알루미나와 10-0.5%의 800-1000℃의 연화점을 갖는 무기 결합제로 이루어지고, 구조체가 1300-1600℃의 온도에서 소성된 것인 소성된 다층 전자 구조체.
- 제9항에 있어서, 소성된 유전성 테이프층이 400-700℃의 연화점을 갖는 무기 결합제의 매트릭스중에 분산된 소량의 알루미나로 이루어지고, 구조체가 800-1000℃의 온도에서 소성된 것인 소성인 다층 전자 구조체.
- 제9항에 있어서, 전도체 패턴과 비아 충진 재료의 소성된 조성이 서로 동일한 것인 소성된 다층 전자 구조체.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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