KR940007129A - 직물분야에서의 피리딘 염료의 사용방법, 피리딘 염료를 함유하는 염료 혼합물 및 티에닐 라디칼을 갖는 티아졸로피리딘 염료 - Google Patents

직물분야에서의 피리딘 염료의 사용방법, 피리딘 염료를 함유하는 염료 혼합물 및 티에닐 라디칼을 갖는 티아졸로피리딘 염료 Download PDF

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Abstract

본 발명은 합성섬유, 셀룰로오스 에스테르 또는 이들의 블렌드를 염색 또는 날염시키기 위한 일반식(Ⅰa) 또는 (Ⅰb)의 피리딘 염료의 사용방법, 일반식(Ⅰa) 또는 (Ⅰb)의 피리딘 염료와 블루 디스퍼스 염료로 이루어지는 염료 혼합물, 합성섬유, 셀룰로오스 에스테르 또는 이들의 블렌드를 염색 또는 날염시키기 위한 이것의 사용방법, 및 티에닐 라디칼을 갖는 트리아졸로피리딘 염료에 관한 것이다:
상기식에서, R1은 치환 또는 비치환 C1-C20-알킬, 치환 또는 비치환 페닐 또는 히드록실이고, R2는 탄소 고리 또는 헤테로 고리 라디칼이고, R3는 시아노, 카르바모일, 카르복실 또는 C1-C4-알콕시카르보닐이고, R4는 산소, 또는 산성 CH화합물의 라디칼이고, R5는 수소 또는 C1-C4-알킬이고, R6는 치환 또는 비치환 C1-C20-알킬, 치환 또는 비치환 페닐, 히드록실 또는 비치환 아미노이고, X는 질소 또는 임의적으로 CH이다.

Description

직물분야에서의 피리딘 염료의 사용방법, 피리딘 염료를 함유하는 염료 혼합물 및 티에닐 라디칼을 갖는 티아졸로피리딘 염료
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (10)

  1. 합성섬유, 셀룰로오스 에스테르 또는 이들의 블렌드를 염색 또는 날염시키기 위한 하기 일반식 (Ⅰa) 또는 (Ⅰb)의 피리딘 염료의 사용방법;
    상기식에서, R1은 에테르 작용기중의 하나 이상의 산소원자에 의해 치환되고 차단될 수 있는 C1-C20-알킬, 치환 또는 비치환 페닐 또는 수산기이고, R2는 치환 및 벤조-융합될 수 있는 5-원자 또는 6-원자 탄소 고리 또는 헤테로 고리 라디칼이고, R3는 시아노, 카르바모일, 카르복실 또는 C1-C4-알콕시카르보닐이고, R4는 산소, 또는 에테르 작용기중의 1 또는 2개의 산소원자에 의해 차단 될 수 있는 일반식C(CN)2, C(CN)COOL1또는 C(COOL1)2의 라디칼(L1은 C1-C18-알킬임)이고, R5는 수소 또는 C1-C4-알킬이고, R6는 에테르 작용기중의 하나 이상의 산소원자에 의해 치환되고 차단될 수 있는 C1-C20-알킬, 치환 또는 비치환 페닐, 수산기 또는 일반식 NL2L3의 라디칼이며, L2및 L3는 각각 서로 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환 C1-C12-알킬, C5-C7-시클로알킬, 치환 또는 비치환 페닐, 치환 또는 비치환 피리딜, 치환 또는 비치환 C1-C12-알카노일, C1-C12-알콕시카르보닐, 치환 또는 비치환 C1-C12-알킬술포닐, C5-C7-시클로알킬술포닐, 치환 또는 비치환 페닐술포닐, 치환 또는 비치환 피리딜술포닐, 치환 또는 비치환 벤조일, 피리딜카르보닐 또는 티에닐카르보닐이거나, 또는 L2및 L3는 이들을 서로 결합시키는 질소원자와 함께 비치환 또는 C1-C4-알킬-치환 숙신이미도, 비치환 또는 C1-C4-알킬-치환 프탈이미도, 또는 헤테로 원자를 더 함유할 수 있는 5-원자 또는 6-원자 포화 헤테로 고리 라디칼을 생성시키고, X는 질소이거나, 또는 R4가 일반식C(CN2), C(CN)COOL1또는 C(COOL1)2인 경우에는 CH이다.
  2. 제1항에 있어서, R3가 시아노임을 특징으로 하는 사용방법.
  3. 제1항에 있어서, R2가 벤젠, 인돌, 퀴놀린, 나프탈렌, 피롤, 티아졸, 벤조이미다졸, 벤조티아졸, 티오펜 또는 디아미노피리딘 계열의 성분으로 부터 유도됨을 특징으로 하는 사용방법.
  4. 하나 이상의 하기 일반식(Ⅰa) 또는 (Ⅰb)의 피리딘 염료, 및 컬러 로커스가 CIELAB(ISO 7724-3-1984호에 따름)하에 240내지 280의 색상 및 35보다 큰 색도 범위내에 있는 아조, 메틴, 안트라퀴논 염료 부류의 하나 이상의 청색 분산 염료로 이루어진 염료 혼합물:
    상기식에서, R1은 에테르 작용기중의 하나 이상의 산소원자에 의해 치환되고 차단될 수 있는 C1-C20-알킬, 치환 또는 비치환 페닐 또는 수산기이고, R2는 치환 및 벤조-융합될 수 있는 5-원자 또는 6-원자 탄소 고리 또는 헤테로 고리 라디칼이고, R3는 시아노, 카르바모일, 카르복실 또는 C1-C4-알콕시카르보닐이고, R4는 산소, 또는 에테르 작용기중의 1 또는 2개의 산소원자에 의해 차단 될 수 있는 일반식 C(CN)2, C(CN)COOL1또는 C(COOL1)2의 라디칼(L1은 C1-C18-알킬임)이고, R5는 수소 또는 C1-C4-알킬이고, R6는 에테르 작용기중의 하나 이상의 산소 원자에 의해 치환되고 차단될 수 있는 C1-C20-알킬, 치환 또는 비치환 페닐, 수산기, 또는 일반식 NL2L3의 라디칼이며, L2및 L3는 각각 서로 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환 C1-C12-알킬, C5-C7-시클로알킬, 치환 또는 비치환 페닐, 치환 또는 비치환 피리딜, 치환 또는 비치환 C1-C12-알카노일, C1-C12-알콕시카르보닐, 치환 또는 비치환 C1-C12-알킬술포닐, C5-C7-시클로알킬술포닐, 치환 똔 비치환 페닐술포닐, 치환 또는 비치환 피리딜수포닐, 치환 또는 비치환 벤조일, 피리딜카르보닐 또는 티에닐카르보닐이거나, 또는 L2및 L3는 이들을 서로 결합시키는 질소원자와 함께 비치환 또는 C1-C4-알킬-치환 숙신이미도, 비치환 또는 C1-C4-알킬-치환 프탈이미도, 또는 헤테로 원자를 더 함유할 수 있는 5-원자 또는 6-원자 포화 헤테로 고리 라디칼을 생성시키고, X는 질소이거나, 또는 R4가 일반식 C(CN)2, C(CN)COOL1또는 C(COOL1)2인 경우에는 CH이다.
  5. 제4항에 있어서, R3가 시아노인 하나 이상의 일반식(Ⅰa) 또는 (Ⅰb)의 피리딘 염료를 함유함을 특징으로 하는 염료 혼합물.
  6. 제4항에 있어서, R3가 벤젠, 인돌, 퀴놀린, 나프탈렌, 피롤, 티아졸, 벤조이미다졸, 벤조티아졸, 티오펜 또는 디아미노피리딘 계열의 성분으로 부터 유도되는, 하나 이상의 일반식 (Ⅰa) 또는 (Ⅰb)의 피리딘 염료를 함유함을 특징으로 하는 염료 혼합물.
  7. 제4항에 있어서, 아조 또는 안트라퀴논 염료 부류의 하나 이상의 청색분산 염료를 함유함을 특징으로 하는 염료 혼합물.
  8. 제4항에 있어서, 1,8-디히드록시-4,5-디아민안츠라퀴논, 1,5-디히드록시-4,8-디아미노안트라퀴논, 1,4-디아미노안트라퀴논디카르복시미드, 1,4-디아미노안트라퀴논디카르복시미노이미드, 티에닐아조 염료, 벤조이소티아졸아조염료 또는 시아노페닐아조 염료 부류의 하나 이상의 청색 분산 염료를 함유함을 특징으로 하는 염료 혼합물.
  9. 합성섬유, 셀룰로오스 에스테르 또는 이들의 블렌드를 염색 또는 날염시키기 위한, 제4항의 염료 혼합물의 사용방법.
  10. 하기 일반식(Ⅱ)의 티아졸로피리딘 염료:
    상기식에서, R1은 에테르 작용기중의 하나 이상의 산소원자에 의해 차단되고 치환될 수 있는 C1-C20-알킬, 치환 또는 비치환 페닐, 또는 히드록실이고, R3는 시아노, 카르바모일, 카르복실 또는 C1-C4-알콕시카르보닐이고, R11은 시아노, 카르바모일, 모노-또는 디(C1-C8-알킬)카르바모일 또는 치환 또는 비치환 페닐이고, R12는 할로겐, 수소, C1-C2-알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4-알킬티오, 비치환 또는 C1-C4-알킬-또는 C1-C4-알콕시-치환 페닐 또는 티에닐이고, L4및 L5는 동일하거나 또는 서로 다르며, 각각 독립적으로 수소, 또는 히드록실을 제외한 상기 라디칼 R1이다.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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