KR960031547A - 트리아졸로피리딘 염료 및 이것에 대한 중간 생성물 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 하기 일반식 (Ⅰ)의 신규의 트리아졸로피리딘 염료, 이러한 염료의 열전달을 위한 방법, 합성 재료를 염색 또는 날염시키기 위한 이것의 사용 방법, 및 상기 염료에 대한 중간 생성물로서의 트리아졸로피리딘에 관한 것이다. :
상기 식에서, R1은 치환되지 않거나 또는 치환되고, 에테르 작용기 중의 1 내지 4개의 산소 원자에 의해 차단될 수 있는 C1-C20-알킬이거나, 또는 비치환 또는 치환된 페닐, 히드록실, 비치환 또는 치환된 C1-C20-알콕시, 메르캅토 또는 비치환 또는 치환된 C1-C20-알킬티오이고, Q는 일반식또는이며, 여기에서 R2는 벤조-융합될 수 있는 5- 또는 6-원자 탄소 고리 또는 헤테로 고리 라디칼이고, R3는 수소 또는 비치환 또는 치환된 C1-C4-알킬이고, R4는 수소 또는 비치환 또는 치환된 C1-C4-알킬 또는 C1-C4-알콕시이고, R5는 에테르 작용기 중의 1 내지 2개의 산소 원자에 의해 차단될 수 있고, 페닐-또는 히드록실-치환될 수 있는 C1-C8-알킬이거나, 또는 비치환 또는 치환된 페닐, 비치환 또는 치환된 티에닐, 또는 에테르 작용기 중의 하나의 산소 원자에 의해 차단될 수 있는 C1-C4-알콕시이거나, 또는 라디칼 CR3R4R5는 함께 C3-C7-시킬로알킬, C1-C4-할로알킬, 비치환 또는 치환된 페닐 또는 비치환 또는 치환된 티에닐이고, R6는 시아노, 카르바모일, 카르복실, C1-C4-알콕시카르보닐 또는 벤조티아졸릴이고, E는 CH 또는 질소이고, R7은 산소 또는 하기 일반식의 라디칼이다. :
상기 식에서, L1은 각각의 경우에, 에테르 작용기 중의 1 또는 2개의 산소 원자에 의해 차단될 수 있는 C1-C8-알킬이다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (15)
- 하기 일반식(Ⅰ)의 신규의 트리아졸리피리딘 염료 :상기 식에서, R1은 치환되지 않거나 또는 치환되고, 에테르 작용기 중의 1 내지 4개의 산소 원자에 의해 차단될 수 있는 C1-C20-알킬이거나, 또는 비치환 또는 치환된 페닐, 히드록실, 비치환 또는 치환된 C1-C20-알콕시, 메르캅토 또는 비치환 또는 치환된 C1-C20-알킬티오이고, Q는 일반식또는이며, 여기에서 R2는 벤조-융합될 수 있는 5- 또는 6-원자 탄소 고리 또는 헤테로 고리 라디칼이고, R3는 수소 또는 비치환 또는 치환된 C1-C4-알킬이고, R4는 수소 또는 비치환 또는 치환된 C1-C4-알킬 또는 C1-C4-알콕시이고, R5는 에테르 작용기 중의 1 내지 2개의 산소 원자에 의해 차단될 수 있고, 페닐- 또는 히드록실-치환될 수 있는 C1-C8-알킬이거나, 또는 비치환 또는 치환된 페닐, 비치환 또는 치환된 티에닐, 또는 에테르 작용기 중의 하나의 산소 원자에 의해 차단될 수 있는 C1-C4-알콕시이거나, 또는 라디칼 CR3R4R5는 함께 C3-C7-시클로알킬, C1-C4-할로알킬, 비치환 또는 치환된 페닐 또는 비치환 또는 치환된 티에닐이고, R6는 시아노, 카르바모일, 카르복실, C1-C4-알콕시카르보닐 또는 벤조 티아졸릴이고, E는 CH 또는 질소이고, R7은 산소 또는 하기 일반식의 라디칼이다.상기 식에서, L1은 각각의 경우에, 에테르 작용기 중의 1 또는 2개의 산소 원자에 의해 차단될 수 있는 C1-C8-알킬이다.
- 제1항에 있어서, R6가 시아노임을 특징으로 하는 트리아졸로피리딘 염료.
- 제1항에 있어서, R5가 C1-C5-알킬 또는 페닐임을 특징으로 하는 트리아졸로피리딘 염료.
- 제1항에 있어서, 라디칼 CR3R4R5가 함께 비치환 또는 치환된 페닐 또는 비치환 또는 치환된 티에닐임을 특징으로 하는 트리아졸로피리딘 염료.
- 제1항에 있어서, R1이 치환되지 않거나 또는 C1-C6-알카노일옥시, 알킬 사슬이 에테르 작용기 중의 1 또는 2개의 산소 원자에 의해 차단될 수 있는 C1-C8-알콕시카르보닐, 페닐 또는 C1-C4-알킬페닐에 의해 치환될 수 있고, 에테르 작용기 중의 1 또는 2개의 산소 원자에 의해 차단될 수 있는 C1-C13-알킬, 또는 비치환 또는 치환된 페닐임을 특징으로 하는 트리아졸로피리딘 염료.
- 제1항에 있어서, R2가 벤젠, 인돌, 퀴놀린, 아미노나프탈렌, 피롤, 아미노티아졸, 벤조이미다졸, 벤조티아졸, 아미노티오펜 또는 디아미노피리딘 계열로부터 유도됨을 특징으로 하는 트리아졸로피리딘 염료.
- 하나 이상의 제1항에 따르는 일반식 (Ⅰ)의 트리아졸로피리딘 염료를 지지하는 지지체를 사용하는 것을 포함하여, 에너지원의 사용에 의한 확산 또는 승화에 지지체로부터 플라스틱-피복 페이퍼로 염료를 전사시키기 위한 방법.
- 합성 재료를 염색 또는 날염시키기 위한 제1항의 트리아졸로피리딘의 사용 방법.
- 하기 일반식(Ⅳ)의 신규의 트리아졸로피리딘을 제공한다. :상기 식에서, R1은 치환되지 않거나 또는 치환되고, 에테르 작용기 중의 1 내지 4개의 산소 원자에 의해 차단될 수 있는 C1-C20-알킬이거나, 또는 비치환 또는 치환된 페닐, 히드록실, 비치환 또는 치환된 C1-C20-알콕시, 메르캅토 또는 비치환 또는 치환된 C1-C20-알킬티오이고, R3는 수소 또는 비치환 또는 치환된 C1-C4-알킬이고, R4는 수소 또는 비치환 또는 치환된 C1-C4-알킬 또는 C1-C4-알콕시이고, R5는 에테르 작용기 중의 1 내지 2개의 산소 원자에 의해 차단될 수 있고, 페닐- 또는 히드록실-치환될 수 있는 C1-C8-알킬이거나, 또는 비치환 또는 치환된 페닐, 비치환 또는 치환된 티에닐, 또는 에테르 작용기 중의 하나의 산소 원자에 의해 차단될 수 있는 C1-C4-알콕시이거나, 또는 라디칼 CR3R4R5는 함께 C3-C7-시킬로알킬, C1-C4-할로알킬, 비치환 또는 치환된 페닐 또는 비치환 또는 치환된 티에닐을 형성하고, R8은 수소, 포르밀, 니트로소, 시아노, C1-C4-알콕시메틸 또는 일반식 CH2-NL2L3이며, 여기에서 L2및 L3는 각각 서로 무관하게 수소, 또는 C1-C4-알킬이미노에 의해 치환될 수 있는 C1-C4-알킬이거나, 또는 이것들을 연결시키는 질소 원자와 함께 5- 또는 6-원자 포화 헤테로 고리 라디칼을 형성하고, R9는 수소, 시아노, 카르바모일, 카르복실, C1-C4-알콕시카르보닐 또는 벤조티아졸릴이고 R10은 히드록실, 메르캅토, 할로겐, L2및 L3가 상기 정의된 바와 같은 라디칼 -NL2L3, 또는 산성 CH-화합물의 라디칼이다.
- 제9항에 있어서, 2개의 라디칼 R8및 R9중 하나가 수소이고, 나머지 하나가 시아노임을 특징으로 하는 트리아졸로피리딘.
- 제9항에 있어서, R9가 시아노임을 특징으로 하는 트리아졸로피리딘.
- 제9항에 있어서, R9가 시아노이고, R8이 수소임을 특징으로 하는 트리아졸로피리딘.
- 제9항에 있어서, R5가 C1-C5-알킬 또는 페닐임을 특징으로 하는 트리아졸리피리딘.
- 제9항에 있어서, 라디칼 CR3R4R5가 함께 비치환 또는 치환된 페닐 또는 비치환 또는 치환된 티에닐임을 특징으로 하는 트리아졸로피리딘.
- 제9항에 있어서, R1이 C1-C13-알킬 또는 페닐임을 특징으로 하는 트리아졸로피리딘.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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