KR937000875A - 광학 이방체와 광학 이방체의 제조 방법, 및 광학 이방체를 설치한 액정 장치와 광학 이방체를 설치한 액정 장치의 제조 방법 - Google Patents

광학 이방체와 광학 이방체의 제조 방법, 및 광학 이방체를 설치한 액정 장치와 광학 이방체를 설치한 액정 장치의 제조 방법

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KR937000875A
KR937000875A KR1019920702316A KR920702316A KR937000875A KR 937000875 A KR937000875 A KR 937000875A KR 1019920702316 A KR1019920702316 A KR 1019920702316A KR 920702316 A KR920702316 A KR 920702316A KR 937000875 A KR937000875 A KR 937000875A
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가주오 아오끼
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아이자와 스스무
세이꼬 엡슨 가부시끼가이샤
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Description

광학 이방체와 광학 이방체의 제조 방법, 및 광학 이방체를 설치한 액정 장치와 광학 이방체를 설치한 액정 장치의 제조 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 실시예(1)에서의 광학 이방체의 일례의 단면의 생략도,
제2도는 본 발명의 실시예(2)에서의 광학 이방체의 일례의 단면의 생략도,
제3도는 본 발명의 실시예(3)에서의 광학 이방체의 일례의 단면의 생략도.

Claims (30)

  1. 적어도 투명한 기판과 적어도 한층의 액정 고분자층으로 이루어지는 광학 이방체에 있어서, 상기 액정고분자층은, 시록산 쇄를 골격으로 갖는 액정 고분자를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 이방체.
  2. 적어도 투명한 기판과 적어도 한층의 액정 고분자층으로 이루어지는 광학 이방체에 있어서, 상기 액정고분자층은, 아크릴쇄를 골격으로 갖는 액정 고분자를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 이방체.
  3. 적어도 투명한 기판과 적어도 한층의 액정 고분자층으로 이루어지는 광학 이방체에 있어서, 상기 액정고분자층은, 메타크릴 쇄를 골격으로 갖는 액정 고분자를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 이방체.
  4. 제1 내지 제3항에 있어서, 상기 액정 고분자가 네마틱상을 나타내보이고, 일측 배향하고 있는 것을 특징으로 하는 광학 이방체
  5. 제1항 내지 제3항에 있어서, 상기 액정 고분자층은, 저분자 광학 활성 화합물을 포함하고, 기판 법선 방향에 나선축을 갖는 비틀림 배향하고 있는 것을 특징으로 하는 광학 이방체.
  6. 제1항 내지 제3항에 있어서, 상기 액정 고분자층은 광학 활성 부위를 갖는 중합체를 포함하고, 기판 법선 방향에 나선축을 갖는 비틀림 배향하고 있는 것을 특징으로 하는 광학 이방체.
  7. 제1항 내지 제6항에 있어서, 상기 액정 고분자층은, 글라스(glass)전이온도를 갖는 액정 고분자를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 이방체.
  8. 제1항 내지 제7항에 있어서, 상기 액정 고분자층 위에 보호막을 갖는 것을 특징으로 하는 광학 이방체.
  9. 적어도 한쌍의 편광판과, 액정 표시 셀과 투명한 기판과 적어도 일층의 액정 고분자층으로 이루어지는 제1항 내지 제8항에 기재된 광학 이방체를 설치한 액정 장치에 있어서, 그것들이 편광편의 사이에 협지되어 있는 것을 특징으로 하는 광학 이방체를 설치한 액정 장치.
  10. 적어도 한쌍의 편광판과, 액정 표시 셀과 적어도 일층의 액정 고분자층으로 이루어지는 광학 이방체를 설치한 액정 장치에 있어서, 상기 액정 고분자층이 시록산 쇄를 골격으로 갖는 액정 고분자를 포함하고, 상기 액정 고분자층이 액정 표시 셀에 배향막을 거쳐서 접하고 있는 것을 특징으로 하는 광학 이방체를 설치한 액정장치.
  11. 적어도 한쌍의 편광판과, 액정 표시 셀과 적어도 일층의 액정 고분자층으로 이루어지는 광학 이방체를 설치한 액정 장치에 있어서, 상기 액정 고분자층이 아크릴 쇄를 골격으로 갖는 액정 고분자를 포함하고, 상기 액정 고분자층이 액정 표시 셀에 배향막을 거쳐서 접하고 있는 것을 특징으로 하는 광학 이방체를 설치한 액정장치.
  12. 적어도 한쌍의 편광판과, 액정 표시 셀과 적어도 일층의 액정 고분자층으로 이루어지는 광학 이방체를 설치한 액정 장치에 있어서, 상기 액정 고분자층이 메탈크릴 쇄를 골격으로 갖는 액정 고분자를 포함하고, 상기 액정 고분자층이 액정 표시 셀에 배향막을 거쳐서 접하고 있는 것을 특징으로 하는 광학 이방체를 설치한 액정 장치.
  13. 적어도 한쌍의 편광판과, 액정 표시 셀과 적어도 일층의 액정 고분자층으로 이루어지는 광학 이방체를 설치한 액정 장치에 있어서, 상기 액정 고분자층이 시록산 쇄를 골격으로 갖는 액정 고분자를 포함하고, 상기 액정 고분자층이 액정 표시 셀에 접하고 있는 것을 특징으로 하는 광학 이방체를 설치한 액정 장치.
  14. 적어도 한쌍의 편광판과, 액정 표시 셀과 적어도 일층의 액정 고분자층으로 이루어지는 광학 이방체를 설치한 액정 장치에 있어서, 상기 액정 고분자층이 아크릴 쇄를 골격으로 갖는 액정 고분자를 포함하고, 상기 액정 고분자층이 액정 표시 셀에 접하고 있는 것을 특징으로 하는 광학 이방체를 설치한 액정 장치.
  15. 적어도 한쌍의 편광판과, 액정 표시 셀과 적어도 일층의 액정 고분자층으로 이루어지는 광학 이방체를 설치한 액정 장치에 있어서, 상기 액정 고분자층이 메타크릴 쇄를 골격으로 갖는 액정 고분자를 포함하고, 상기 액정 고분자층이 액정 표시 셀에 접하고 있는 것을 특징으로 하는 광학 이방체를 설치한 액정 장치.
  16. 제10항 내지 제15항에 있어서, 상기 액정 고분자가 네마틱상을 나타내보이고, 일축 배향하고 있는 것을 특징으로 하는 광학 이방체를 설치한 액정 장치.
  17. 제10항 내지 제15항에 있어서, 상기 액정 고분자층은, 저분자 광학 활성화합물을 포함하고, 기판 법선 방향에 나선축을 갖는 비틀림 배향하고 있는 것을 특징으로 하는 광학 이방체를 설치한 액정 장치.
  18. 제10항 내지 제15항에 있어서, 상기 액정 고분자층은, 광학 활성 부위를 갖는 중합체를 포함하고, 기판 법선 방향에 나선축을 갖는 비틀림 배향하고 있는 것을 특징으로 하는 광학 이방체를 설치한 액정 장치.
  19. 제10항 내지 제18항에 있어서, 상기 액정 고분자층은, 글라스(glass)전이온도를 갖는 액정 고분자를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 이방체를 설치한 액정 장치.
  20. 제10항 내지 제19항에 있어서, 상기 액정 고분자층위에 보호막을 갖는 특징으로 하는 광학 이방체를 설치한 액정 장치.
  21. 적어도 투명한 기판과 적어도 일층의 액정 고분자층으로 이루어지는 제1항 내지 제9항에 기재된 광학 이방체의 제조 방법에 있어서, 상기 액정 고분자를 포함하는 층을 형성하는 공정과, 상기 액정 고분자를 포함하는 층을 가열해서 배향하는 공정과, 급냉하는 공정과 액정 고분자를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 이방체의 제조방법.
  22. 적어도 한쌍의 평광판과, 액정 표시 셀과 적어도 일층의 액정 고분자층으로 이루어지는 제10항 내지 제20항에 기재된 광학 이방체를 설치한 액정 장치의 제조 방법에 있어서, 상기 액정 표시 셀의 액정에 접하지 않은 표면에, 적어도 상기 액정 고분자를 포함하는 층을 형성하는 공정과, 상기 액정 고분자를 포함하는 충을 가열해서 배향하는 공정과, 급냉하는 공정과 액정 고분자를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 이방체를 설치한 액정 장치의 제조 방법.
  23. 제9항 내지 제22항에 있어서, 상기 편광판의 편광축 방향과, 거기에 근접하는 상기 액정 고분자의 분자 장축의 방향과의이루는 각도가 30도에서 60도인 것을 특징으로 하는 광학 이방체를 설치한 액정 장치와 광학 이방체를 설치한 액정 장치의 제조 방법.
  24. 제9항 내지 제22항에 있어서, 상기 액정 표시 셀의 네마틱층의 △nxd의 수치가 0.5에서 1.8㎛인 것을 특징으로 하는 광학 이방체를 설치한 액정 장치와 광학 이방체를 설치한 액정 장치의 제조 방법.
  25. 제9항 내지 제22항에 있어서, 상기 광학 이방체에 포함되는 액정 고분차층의 비틀림각이 -550에서 300 도인 것을 특징으로 하는 광학 이방체를 설치한 액정 장치와 광학 이방체를 설치한 액정 장치의 제조 방법.
  26. 제9항 내지 제22항에 있어서, 상기 광학 이방체에 포함되는 액정 고분차층이 △nxd가 0.25에서 1,8㎛인 것을 특징으로 하는 광학 이방체를 설치한 액정 장치와 광학 이방체를 설치한 액정 장치의 제조 방법.
  27. 제9항 내지 제22항에 있어서, 상기 액정 표시 셀의 네마틱 액정과 상기 광학 이방체에 포함되는 액정 고분자층이 대향하는 면의 액정 분자의 배향 방향의 대개 90도인 것을 특징으로 하는 광학 이방체를 설치한 액정 장치와 광학 이방체를 설치한 액정 장치의 제조 방법.
  28. 제9항 내지 제22항에 있어서, 상기 액정 표시 셀의 액정 층이 배항된 네마틱 상 또는 콜레스터릭 상인 것을 특징으로 하는 광학 이방체를 설치한 액정 장치와 광학 이방체를 설치한 액정 장치의 제조 방법.
  29. 제28항에 있어서, 상기 광학 이방체에 포함되는 액정 고분자상의 비틀림 방향과 액정 표시 셀의 네마틱 액정의 비틀림 방향이 역인 것을 특징으로 하는 광학 이방체를 설치한 액정 장치와 광학 이방체를 설치한 액정 장치의 제조 방법.
  30. 제28항에 있어서, 상기 광학 이방체에 포함되는 액정 고분자층과 액정 표시 셀의 네마틱 액정의 비틀림각 및 △nxd가 대개 동등한 것을 특징으로 하는 광학 이방체를 설치한 액정 장치와 광학 이방체를 설치한 액정 장치의 제조 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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