KR930010225A - 지지체 금속 표면을 다른 금속으로 치환 도금하기 위한 도금 수용액 및 방법 - Google Patents

지지체 금속 표면을 다른 금속으로 치환 도금하기 위한 도금 수용액 및 방법 Download PDF

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Abstract

침지에 의해 또는 분무, 케스케이드, 주입 등에 의해 도금된 지지체 표면에 도금 용액이 적용되는 치환 도금 공정에서 착생성제로서 사용하기 위한, 티오우레아에 대한 환경적으로 무해한 효과적 대체물이 공개된다.
대체 착생성제는 하기 일반식을 가지는 비대칭 디알킬이미다졸-2-티온 화합물이다:
여기서, A는 메틸 또는 에틸이고, A가 메틸일때 B가 C3-C6알킬 또는 시클로알킬기이고, A가 에틸일때 B가 C4-C6알킬이거나 시클로알킬기이다. 이 부류의 화합물중, 1-메틸-3-프로필-2-티오카르보닐-2,3-디히드로이미다졸이 침지 주석도금에 바람직하다. 이 부류의 착생성제는, 유리 주석 금속이 도금 용액에 첨가되는 인쇄 회로판의 제조를 위한 분무 치환 주석 도금에 특히 유용하다.

Description

지지체 금속 표면을 다른 금속으로 치환 도금하기 위한 도금 수용액 및 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (20)

  1. 하기로 구성되는 지지체 금속 표면을 다른 금속으로 치환도금하기 위한 도금 수용액: (i)유리 금속이 지지체 표면의 금속과 다른 유리금속의 금속이온, (ii)하기 일반식의 이미다졸-2-티온 화합물인 착생성제:
    여기서, A 및 B는 같거나 다른 -R-Y기임(이때, R은 1-12탄소원자를 함유하는 직선, 분지 또는 시클린 알케닐 기이고, Y는 수소, 할로겐, 시아노, 비닐, 페닐 또는 에테르 부분임), 및 (iii)산.
  2. 제1항에 있어서, 금속 이온이 그의 최저 산화 상태로 존재하는 양이온이고, 이미다졸-2-티온 화합물이, A가 메틸에틸이고, A가 메틸이고 B가 C3-C6알킬 또는 시클로알킬기이고, A가 에틸일때 B가 C4-C6알킬 또는 시클로알킬기인 비대칭 1,3-디알킬이미다졸-2-티온인 도금 수용액.
  3. 하기 단계로 구성되는, 지지체 금속 표면을 다른 금속으로 침지도금하는 방법: (a)하기로 구성되는 도금 수용액에 저장기로 제공하는 단계, (i)유리 금속이 지지체표면의 금속과 다른 유리 금속의 금속이온, (ii)하기 일반식의 1,3-디알킬이미다졸-2-티온인 착생성제:
    여기서 A 및 B는 각각 1-6탄소원자를 함유하는 알킬 또는 시클로알킬기이다. 및 (iii)산, (b)도금 수용액으로 지지체 금속 표면을 침지하여, 이로써, 유리금속(i)은 금속 이온 일부를 유리 금속으로 환원시키고, 이때,상기 환원된 유리 금속이, 이온으로 산화되고 착생성제와 착화되어 반응된 도금 수용액에 용해된 지지체 금속 이온착체를 지지체 금속표면에서 형성하는 표면 지지체 금속을 치환하는 단계, (c)도금 용액 저장기로 부터 도금된 지지체 금속 표면을 제거하는 단계, 및 (d)도금된 지지체 금속 표면으로 부터 과량의 도금 용액을 제거하고, 이로써 치환 도금 공정을 종결시키는 단계.
  4. 제1항 및 제3항에 있어서, 도금 수용액이, 그내에 금속이온(i)의 유리 금속이 유리 금속(IV)은 함유하는 도금 수용액 및 침지 도금 방법.
  5. 하기 단계로 구성되는, 지지체 금속 표면을 다른 금속으로 치환 도금하는 방법: (a)하기로 구성되는 도금 수용액의 저장기를 제공하는 단계, (i)유리 금속이 지지체표면의 금속과 다른 그의 최저 산화상태로 존재하는 유리 금속의 금속 이온, (ii)하기 일반식의 화합물인 착생성제:
    여기서, A가 메틸 또는 에틸이고, A가 메틸일때 B가 C3-C6알킬 또는 시클로알킬기이고, A가 에틸일때 B가 C4-C6알킬 또는 시클로알킬기이다. (iii)산, 및 (iv)최저 산화 상태로 존재하는 금속 이온(i)의 유리금속인 유리금속.
    (b)지지체 금속 표면상으로 도금 수용액의 스트림을 향하게 하고, 이로써(i)의 금속 이온 일부가 높은 산화상태의 이온으로 산화되고, (i)의 금속 이온의 또 다른 일부가 유리 금속으로 환원되고, 이때, 상기 환원된 유리금속은 이온으로 산화되고, 착생성제와 착화되어 반응된 도금 수용액에 용해되는 지지체 금속 이온 착체를 지지체 금속의 표면에서 형성하는 표면 지지체 금속을 치환하는 단계, 및 (c)보다 높은 산화 상태로 존재하는 금속이온의 적어도 일부가 유리 금속(iv)와 반응하여 그들의 최저 산화 상태로 존재하는 금속 이온을 형성하여 도금 수용액을 보충하도록, 도금 용액을 저장기에 반송시키는 단계.
  6. 제5항에 있어서, 단계(c)에서 최저 산화상태로 존재하는 형성된 금속 이온의 일부가, 유리 금속(iv)와 반응하는 보다 높은 산화 상태로 존재하는 금속 이온의 일부의 두배인 방법.
  7. 제4항 및 제5항에 있어서, 도금 수용액의 부피에 대한 유리 금속(iv)의 표면적의 비가 적어도 6.8㎠/1(4in2/겔론)인 도금 수용액 및 도금 방법.
  8. 제1항 및 제3항 및 제5항에 있어서, 착생성제가 하기 구조식을 가지는 1-메틸-3-프로필이미다졸-2-티온인 도금수용액 및 방법:
  9. 제1항 및 제3항 및 제5항에 있어서, 실질적으로 산소가 없는 불활성 분위기하에 도금 수용액이 유지되는 도금 수용액 및 방법.
  10. 제1항 및 제3항 및 제5항에 있어서, 지지체 금속 표면이 구리 또는 구리 합금인 도금 수용액 및 방법.
  11. 제1항 및 제3항 및 제5항에 있어서, 금속 이온(i)이, 원소 주기율표의 VIA, VB, VIB, VIIB, VIII, IB, IIB 및 IIIA족의 금속을 기재로 한 수용성 금속 이온인, 도금 수용액 및 방법.
  12. 제11항에 있어서, 수용성 금속 염의 금속의 주석, 납, 수은, 니켈, 금, 은, 인듐, 게르마늄, 팔라듐 및 그의 혼합물로 구성되는 군으로 부터 취해지는 도금 수용액.
  13. 제12항에 있어서, 금속 이온(i)이 주석(II)인 도금 수용액.
  14. 제11항에 있어서, 도금 수용액이, 금속염의 금속 이온이 임의 산화상태로 존재하는, 금속 염의 금속이 게르마늄, 납, 수은, 은, 인듐, 금 및 팔라듐으로 구성되는 군으로 부터 선택되는 하나 이상의 금속 염을 함유하는 도금 수용액.
  15. 제14항에 있어서, 금속 이온(i)의 주석(II)이고, 금속염의 금속이 납인 도금 수용액.
  16. 제1항 및 제3항 및 제5항에 있어서, 산(iii)이 황, 인, 할로겐 또는 그의 혼합물을 기재로 하는 무기산인, 도금 수용액 및 방법.
  17. 제1항 및 제3항 및 제5항에 있어서, 산(iii)이 1-6탄소원자를 가지는 유기 모노카르복실산 또는 디카르복실산인, 도금수용액 및 방법.
  18. 제1항 제3항 및 제5항에 있어서, 도금 수용액이 보조용매를 함유하는, 도금 수용액 및 방법.
  19. 제1항에 있어서, 도금 수용액이 우레아 화합물, 환원제, 킬레이트화제, 계면활성제 및 그의 혼합물로 구성되는 군으로 부터 선택되는 부가물을 함유하는 도금 수용액.
  20. 제4항 및 제5항에 있어서, 지지체 금속 표면이 지지되는 유전체층 지지체의 적어도 한 표면의 점착된 적어도 4 미크론의 두께를 가지는 전기 전도성 구리 화로도의 표면이고, 최저 산화상태로 존재하는 금속 이온(i)이 주석(II)이온이고, 착생성제(ii)가 1-메틸-3-프로필-이미다졸-2-티온이고, 산(iii)이 황산이고, 유리 금속(iv)이 주석이고, 보다 높은 산화 상태로 존재하는 금속 이온이 주석(IV)이온이고, 착화된 지지체 금속 이온이 1-메틸-3-프로필-이미다졸-2-티온의 구리 착체인 도금 수용액 및 도금 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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