KR930005118A - 반도체 장치의 제조방법 - Google Patents
반도체 장치의 제조방법 Download PDFInfo
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Abstract
내용 없음.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2A도 내지 제2H도는 본 발명에 의한 블랭킷텅스텐 공정순서를 나타낸 도면.
Claims (6)
- 반도체기판상에 형성된 절연막의 소정영역에 콘택홀이 형성되어 있는 반도체장치의 제조방법에 있어서, 상기 콘택홀내부 및 절연막상에 부착층을 형성하는 공정과, 상기 부착층상에 CVD텅스텐막을 증착한 후 경사에 치하는 것을 수회 반복하여 상기 콘택홀을 매몰시키는 공정 및, 에치백에 의하여 상기 콘택홀이외의 부분에 형성된 CVD 텅스텐막을 제거하는 공정이 구비된 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 절연막은 산화막인 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 부착층은 TiN막인 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 경사에치는 상기 반도체기판의 각도를 조절하면서 회전시켜 행하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 제조방법.
- 제4항에 있어서, 상기 경사에치에 사용되는 에치가스는 SF6인 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 제조방법.
- 제4항에 있어서, 상기 경사에치는 ECR 에치방식에 의해 행하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 제조방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019910014441A KR930005118A (ko) | 1991-08-21 | 1991-08-21 | 반도체 장치의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1019910014441A KR930005118A (ko) | 1991-08-21 | 1991-08-21 | 반도체 장치의 제조방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR930005118A true KR930005118A (ko) | 1993-03-23 |
Family
ID=67310340
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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KR1019910014441A KR930005118A (ko) | 1991-08-21 | 1991-08-21 | 반도체 장치의 제조방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR930005118A (ko) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20000003479A (ko) * | 1998-06-29 | 2000-01-15 | 김영환 | 반도체 소자의 게이트전극 형성방법 |
KR100321707B1 (ko) * | 1998-06-29 | 2002-03-08 | 박종섭 | 반도체소자의게이트전극형성방법 |
KR20020023264A (ko) * | 2002-01-08 | 2002-03-28 | 윤은혁 | 자수직물을 이용한 기모직물 제조방법 |
KR20030035877A (ko) * | 2001-10-31 | 2003-05-09 | 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 | 반도체장치의 제조방법 |
-
1991
- 1991-08-21 KR KR1019910014441A patent/KR930005118A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20000003479A (ko) * | 1998-06-29 | 2000-01-15 | 김영환 | 반도체 소자의 게이트전극 형성방법 |
KR100321707B1 (ko) * | 1998-06-29 | 2002-03-08 | 박종섭 | 반도체소자의게이트전극형성방법 |
KR20030035877A (ko) * | 2001-10-31 | 2003-05-09 | 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 | 반도체장치의 제조방법 |
KR20020023264A (ko) * | 2002-01-08 | 2002-03-28 | 윤은혁 | 자수직물을 이용한 기모직물 제조방법 |
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Legal Events
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