KR920017174A - 자기정렬 위상시프트 마스크 제조방법 - Google Patents

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KR920017174A KR1019910002579A KR910002579A KR920017174A KR 920017174 A KR920017174 A KR 920017174A KR 1019910002579 A KR1019910002579 A KR 1019910002579A KR 910002579 A KR910002579 A KR 910002579A KR 920017174 A KR920017174 A KR 920017174A
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문정환
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Abstract

내용 없음

Description

자기정렬 위상시프트 마스크 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도 (a) 내지 제2도 (d)는 본발명의 제조공정 단면도.

Claims (1)

  1. 석영기판상의 설정부위에 크롬막을 선택적으로 형성하는 단계, 전면에 위상시프터막과 도전막 및 전자빔용 감광제를 차례로 코팅하는 단계, 상기 전자빔 감광제상에 전자빔 기록 및 현상을 실시하여 소정패턴을 형성한다음 이를 마스크로 상기위상시프터막을 에치하여 불필요한 부분을 제거하는 단계, 상기 마스크를 다시 이용하여 자기정렬되게 크롬막을 에치하여불필요한 부분을 제거한다음 상기 전자빔 감광제를 제거하는 단계가 차례로 포함됨을 특징으로 하는 자기정렬 위상시프트 마스크 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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KR100425459B1 (ko) * 2001-08-23 2004-03-30 삼성전자주식회사 광마스크와 그의 제조 방법 및 광마스크 결함 감지/수리방법

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KR100425459B1 (ko) * 2001-08-23 2004-03-30 삼성전자주식회사 광마스크와 그의 제조 방법 및 광마스크 결함 감지/수리방법
US6821688B2 (en) 2001-08-23 2004-11-23 Samsung Electronics Co., Ltd. Photomask, method for manufacturing the same and method for detecting/repairing defects in photomask

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