KR920011471A - 구강용 치석방지 조성물, 치약 및 치석 방지 방법 - Google Patents

구강용 치석방지 조성물, 치약 및 치석 방지 방법 Download PDF

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Abstract

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Description

구강용 치석방지 조성물, 치약 및 치석 방지 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (22)

  1. 구강용으로 허용가능한 부형제 또는 기재, 다음 일반식의 화합물로 구성되는 그룹으로부터 선택된
    (상기식에서, R은 수소 및 1-3개 탄소 원자의 알킬로 구성되는 그룹으로부터 선택되고 n은 3-5의 정수이다.) 효과적인 치석 방지 비율인 약 0. 01-약 5중량%의 구강용으로 허용가능한 아자사이클로알칸-2, 2-디포스폰화합물 (AAP) 및 그것의 구강용으로 허용가능한 염 및 조성물내에서 AAP의 치석방지 작용을 증가시키기에 효과적인, 약 1,000-2,000,000 범위의 분자량을 가지는 약 0.1-약 5중량%의 수용성 또는 수팽창성 합성 음이온 중합체(SAP)로 구성되는, 구강용 치석방지 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 조성물은 크림치약, 겔 치약, 가루치약, 양치질액, 함수제, 치아 강화제, 치구방지 조성물, 검 또는 로젠지이고 AAP대 SAP의 상대 비율은 1：50-5：1 범위인, 구강용 치석방지 조성물.
  3. 제2항에 있어서, AAP는 아자사이클로헵탄-2,2-디포스폰산 또는 그의 수용성 염(AHP)이고, SAP는 중합체 카복실레이트, 설포네이트, 포스피네이트, 포스포네이트 또는 식옥산인, 구강용 치석방지 조성물.
  4. 제3항에 있어서, 상기 SAP는 약 5,000-2,000,000 범위 분자량의 합성 음이온성 중합체 폴리카복실레이트 (SAPP) 인, 구강용 치석방지 조성물.
  5. 제4항에 있어서, AAP는 아자사이크로헵탄-2,2-디포스폰산이고 그의 수용성 염(AHP)이고, SAPP는 중합가능한 에틸렌성 불포화단량체와 말레인산 또는 무수말레인산의 공중합체 또는 그러한 공중합체의 염이고, AHP 대 SAPP의 상대 비율은 약 1：10-3：1 범위인, 구강용 치석방지 조성물.
  6. 제5항에 있어서, AHP는 아자사이클로헵탄-2,2-디포스폰산이고 SAPP는 약 30,000-1,500,000 범위의 분자량인, 비닐 메틸 에테르와 말레인산 또는 무수 말레인산의 선형 공중합체의 수용성 염인, 크림 치약, 겔 치약, 가루 치약, 양치질액 또는 함수제인, 구강용 치석방지 조성물.
  7. 제3항에 있어서, AAP는 아자사이크로헵탄-2,2-디포스폰산(AHP)이고, SAP는 약 1,000-1,000,000 범위의 분자량인, 폴리비닐포스포네이트 또는 폴리비닐 포스폰산인, 구강용 치석방지 조성물.
  8. 제7항에 있어서, 약 0. 2-2%AHP 및 약 0. 2-3% SAP를 포함하는 크림치약, 겔 치약 또는 가루치약인, 구강용 치석방지 조성물.
  9. 제8항에 있어서, 약 0. 5-1. 5% AHP 및 약 0.3-1% SAP를 포함하는, 치석방지 크림치약 또는 겔 치약.
  10. 제6항에 잇어서, 약 0. 5-1. 5% 아자사이클로헵탄-2,2-디포스폰산, 약 50,000-1,000,000 범위 분자량의, 비닐 메틸 에테르와 무수 말레인산 또는 말레인산의 선형 공중합체의 수용성 알카리 금속 염 약 0. 3-1% 약 0. 02-1% 불화 나트륨, 약 10-25% 미분된 실리카 치과용 연마제, 약 20-35% 글르세롤 및/또는 소르비톨습윤제(들), 약 0. 5-3% 검 및/또는 실리카 농후제(들), 약 0. 5-2% 계면활성제 및 약 35-55% 물이 포함되는 치석방지 크림치약 또는 겔 치약.
  11. 제9항에 있어서, 약 0. 5-1. 5% 아자사이크로헵탄-2,2-디포스폰산, 약 6,000-100,000 범위분자량의, 다음 반복단위를 가지는,
    (상기 식에서, M 및 M1은 수소, 알카리 금속 또는 암모늄이고 동일 또는 상이하다), 약 0.3-1% 수용성 폴리비닐 포스폰산 또는 폴리비닐 포스포네이트, 약 0.02-1% 불화 나트륨, 약 10-25% 미분된 실리카 치과용 연마제, 약 20-35% 글리세롤 및/또는 소르비톨 습윤제(들), 약 0. 5-8% 검 및/또는 실리카 농후제(들), 약 0. 5-2% 계면활성제 및 약 35-55%물로 구성되는 치석방지 크림치약 또는 겔 치약.
  12. 제10항 또는 제11항에 있어서, 약 0. 2-0. 6% 트리클로산이 포함되고, 치구방지제인, 치석방지 크림치약.
  13. 제3항에 있어서, 수성 액체 매체내의 약 0. 1-2% AHP 및 약 0. 01-3% SAP가 포함되는 양치질액 또는 함수제인, 구강용 치석방지 조성물.
  14. 제13항에 있어서, 약 0. 1-2% 아자사이클로헵탄-2,2-디포스폰산,약 50,000-1,000,000 범위 분자량의, 비닐메틸 에테르와 무수말레인산 또는 말레인산의 선형 공중합체의 나트륨 염약 0. 1-3%, 약 5-20% 에탄올 및 약 75. 0 0 94. 8% 물로 구성되는, 치석방지 양치질액 또는 함수제.
  15. 제13항에 있어서, 약 0. 1-2% 아자사이크로헵탄-2,2-디포스폰산, 약 6,000-100,000 범위 분자량의 다음 반복 그룹을 가지는
    (상기 식에서, M 및 M1은 수소, 알카리 금속 또는 암모늄이고 동일 또는 상이하다) 약 0. 1-3% 폴리비닐 포스폰산 도는 폴리비닐포스포네이트, 약 5-20% 에탄올 및 약 75. 0-94. 0% 물로 구성되는, 치석방지 약치질액 또는 함수제.
  16. 제14항 또는 15항에 있어서, 약 0. 1-0. 6% 트리클로산이 포함되는, 치석방지 양치질액 또는 함수제.
  17. 제1항 조성물의 치석 억제 량을 치아에 적용하는 것으로 구성되는, 치석 형성을 억제하기 위해 치아를 치료하는 방법.
  18. 제17항에 있어서, 치아에 적용된 조성물은 크림치약, 겔 치약, 가루 치약, 양치질 액, 함수제, 치아 감화제, 치구방지 조성물, 검 또는 로젠지이고, AAP 대 SAP의 상대 비율은 약 1：50-50：1 범위이고, 조성물이 치아에 반복적으로 적용되는 방법.
  19. 제18항에 있어서, 치아에 적용된 조성물은, 약 0. 8-1. 2%아자사이크로헵탄-2,2-디포스폰산, 약 30,000-1,500,000 범위 분자량의, 비닐 에틸 에테르와 말레인산 또는 무수 말레인산의 선형 공중합체의 나트륨 염 약 0. 3-0. 7%, 약 0. 02-1% 불화 나트륨, 약 10-25% 미분된 실리카 연마제, 약 20-35% 글리세롤 및/또는 소르비톨 습윤제(들), 약 1-5% 검 및/또는 실리카 농후제(들), 합성 유기 세정제인 약 0.5-2% 계면활성제 및 약 35-55% 물로 구성되는 크림치약 또는 겔 치약이고, 조성물은 최소한 한달 동안 하루에 최소한 한 번 치아에 적용되는 방법.
  20. 제17항에 있어서, 치아에 적용된 조성물은 약 0. 3-1. 5% 아자사이클로헵탄-2,2-디포스폰산, 약 50,000-1,500,000 범위 분자량의, 비닐 에틸 에테르와 말레인산 또는 무수 말레인산의 선형 공중합체의 나트륨 염 약 0. 1-1%, 약 5-20% 에탄올 및 약 77. 5-94. 2% 물로 구성되는 양치질액 또는 함수제이고, 조성물은 최소한 한달동안 하루에 최소한 한번 치아에 적용되는 방법.
  21. 제6항에 있어서, SAPP는, 폴리에틸렌 글리콜 표준물질에 대한 겔 투과 크로마토그래피로 측정하여 약 1,000,000-1,100,000 범위의 분자량인, 구강용 치석방지 조성물.
  22. 제13항에 있어서, SAPP가 존재하고 폴리에틸렌 글리콜 표준 물질에 대한 겔 투과 크로마토그래피에 의해 측정하고 약 1,000,000-1,100,000 범위의 분자량인, 치석방지 양치질액 또는 함수제.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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