KR910001892A - 포스퍼러스 도우프드 산화물 플로우 공정방법 - Google Patents
포스퍼러스 도우프드 산화물 플로우 공정방법 Download PDFInfo
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명의 Pocl3를 상용한 957℃ 플로우 공정도.
Claims (1)
- 실리콘 기판(1)위에 게이트(4) 소오스 드레인(3)을 형성한 후 400~450℃의 온도에서 SiH4와 O2를 이용하여 포스퍼러스 도우프드 산화물을 증착하는 공정과, 상기 포스퍼러스 도우프트 산화물 플로우공정중 N2분위기에서 W/F로딩한다음 온도를 상승시켜 안정화시키는 공정과, 상기 공정후 Pocl3와 O2와 N2를 플로우하고 Pocl3와 O2,N2를 플로우한후 O2를 플로우하며 O2를 플로우 한후 H2와 O2를 플로우한다음 N2분위기에서 온도를 하강시키고 W/F 언로딩하는 공정과, 상기의 포스퍼러스 도오프드 산화물 증착이 끝나후 메탈 콘택트를 에치시키고 그위에 메탈을 증착시키는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 포스퍼러스 도우프드 산화물 플로우 공정방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019890009321A KR910001892A (ko) | 1989-06-30 | 1989-06-30 | 포스퍼러스 도우프드 산화물 플로우 공정방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019890009321A KR910001892A (ko) | 1989-06-30 | 1989-06-30 | 포스퍼러스 도우프드 산화물 플로우 공정방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR910001892A true KR910001892A (ko) | 1991-01-31 |
Family
ID=68084309
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019890009321A KR910001892A (ko) | 1989-06-30 | 1989-06-30 | 포스퍼러스 도우프드 산화물 플로우 공정방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR910001892A (ko) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR19980053667A (ko) * | 1996-12-27 | 1998-09-25 | 김영환 | 반도체 소자의 층간 절연막 형성 방법 |
KR102052301B1 (ko) | 2019-05-30 | 2019-12-04 | 주식회사 태양센서앤히터 | 러버히터를 이용한 액상원료 제조시스템 |
-
1989
- 1989-06-30 KR KR1019890009321A patent/KR910001892A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR19980053667A (ko) * | 1996-12-27 | 1998-09-25 | 김영환 | 반도체 소자의 층간 절연막 형성 방법 |
KR102052301B1 (ko) | 2019-05-30 | 2019-12-04 | 주식회사 태양센서앤히터 | 러버히터를 이용한 액상원료 제조시스템 |
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Legal Events
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WITN | Withdrawal due to no request for examination |