KR890013652A - 반도체 메모리 회로 - Google Patents
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Abstract
내용 없음.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제4도는 본 발명에 의한 반도체 메모리 회로의 기본도.
제5도는 CMIS인버터 회로의 회로도.
Claims (10)
- 고반응도집합체인 일부연료집합체를 포함하는 다수의 연료집합체의 적층배열과, 일부 지점에서 연료집합체 내부에 삽입되기에 적당한 제어봉을 보유하는 다수의 제어봉지점으로 구성되는 연장라이프사이클의 노심을 갖는 원자로 운전방법에 있어서, 상기 노심을 노심으로부터의 중성자누설을 최소화하도록 노심의 라이프사이클 개시시에 대다수의 고반응도 연료집합체를 노심주변의 내측에 배치하는 패턴으로 배열되어 있으며, 노심라이프사이클의 제1주기동안 일부 고반응도 연료집합체의 출력할당, 즉 연소율을 연료집합체 내부에 삽입되기에 적당한 비감손중성자흡수체로 구성되는 가동출력 억제봉으로 제한하는 단계와; 상기 출력억제봉은 상기 일부고반응도 연료 집합체속에 삽입되어 있으며, 노심라이프 사이클의 제2주기동안, 고반응도 연료 집합체에 의해 발생된 출력증가에 기인하는 출력할당 효과와 저누설효과를 증가시킴으로서 전노심반능도를 증가시키도록 상기 일부고반응도 연료집합체로부터 상기 억제봉을 제거하는 것에 의해 상기 일부 고반응도 연료집합체의 출력할당을 증가시키는 단계로 구성되는 것을 특징으로하는 연장라이프사이클을 갖는 원자로 운전방법.
- 제1항에 있어서, 상기 절연막을 동상 펄스의 상기 비트라인 선택신호와 상기 워드라인 선택신호가 공급되고, 또한 상기 프로그래밍 트랜지스터와 상기 셀트렌지스터가 스위치될 때, 그의 양측에 걸리는 고압에 의해 전기적으로 파괴되는 것이 특징인 반도체 메모리회로.
- 제1항에서, 상기 제2전원은 상기 비트라인 선택신호와 동기되는 펄스신호(Vp1-Vp3)를 출력시키는 것이 특징인 반도체 메모리회로.
- 제1항에서, 상기 셀 트랜지스터는 N-채널형 MIS트랜지스터이며, 또한 상기 프로그래밍 트랜지스터는 P-채널형 MIS트랜지스터인 것이 특징인 반도체 메모리회로.
- 제1항에서, 상기 셀 크랜지스터는 P-채널형 MIS트랜지스터이고, 상기 프로그래밍 트랜지스터는 N-채널형 MIS트랜지스터인 것이 특징인 반도체 메모리회로.
- 제1항에서, 상기 절연막의 전기적 파괴는 상기 비트라인 선택신호와 상기 워드라인 선택신호내의 각펄스의 리딩 과도시와 상기 비트라인 선택신호와 상기 워드라인 선택신호내의 각 펄스의 트레일링 과도시에 모두 수행되는 것이 특징인 반도체 메모리회로.
- 제1항에서, 상기 워드라인 선택신호는 제1펄스와, 제2펄스를 포함하며, 상기 제1펄스는 상기 메모리 셀들을 클리어 하기 위해 사용되며, 상기 제2펄스는 상기 프로그래밍 트랜지스터와 상기 셀 트랜지스터를 모두 스위칭하기위한 상기 비트라인 선택신호와 동기되는 것이 특징인 반도체 메모리회로.
- 제1항에서, 상기 워드라인 선택신호는 제1펄스와 프로그래밍 펄스들을 포함하며, 상기 제1펄스는 상기 메모리 셀들을 클리어하기 위해 사용되며, 상기 프로그래밍 펄스들은 상기 프로그래밍 트랜지스트와 상기 셀 트랜지스터를 모두 스위칭시키기 위한 상기 비트라인 선택신호와 동기되는 것이 특징인 반도체 메모리회로.
- 제1항에서 상기 절연막은 상기 프로그래밍 트랜지스터내의 상기 드레인의 접촉영역과 상기 비트라인의 신호도선간에 형성된 절연박막을 포함하는 것이 특징인 반도체 메모리회로.
- 제1항에서, 상기 셀 트랜지스터의 게이트는 상기 워드라인의 신호도선에 의해 형성되는 것이 특징인 반도체 메모리회로.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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