KR890011093A - 반도체기억장치 - Google Patents

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KR890011093A
KR890011093A KR1019880017731A KR880017731A KR890011093A KR 890011093 A KR890011093 A KR 890011093A KR 1019880017731 A KR1019880017731 A KR 1019880017731A KR 880017731 A KR880017731 A KR 880017731A KR 890011093 A KR890011093 A KR 890011093A
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소우이치 수기우리
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아오이 죠이치
가부시키가이샤 도시바
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    • H10B12/00Dynamic random access memory [DRAM] devices
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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Abstract

내용 없음

Description

반도체기억장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명의 실시예 1에 관한 다이나믹 RAM의 셀플레이트(Cell Plate)전극의 구성예를 도시해 높은 평면도.
제3도는 제2도에 도시된 둘러싸인 부분(A)를 발췌해서 도시해 높은 평면도.
제4도는 본 발명의 다이나믹 RAM에 관한 셀플레이트전극(7)의 다른 구성예를 도시해 높은 평면도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1~6 : 셀캐패시터 7 : 셀플레이트전극
81~84: 셀영역 9 : 셀간분리영역
111,112: 셀플레이트전극의 비존재영역

Claims (4)

  1. 반도체기판과; 이 반도체기판상에 매트릭스형상으로 배치되고, 1쌍의 셀캐패시터(1,2)가 소정의 간격을 갖고 마주보아 이 1쌍의 셀캐패시터(1,2)가 각 쌍마다 회로부로 되는 셀영역(81)(84)을 매개로 행상에 배치하게 되며, 이 행에 인접하는 행의 상기 셀영역(81)(82) 각각에 인접하는 적어도 한쪽측의 행에 1쌍의 셀캐패시터(3,4)가 각각 배치됨으로, 상기 1쌍의 셀캐패시터(1,2) 각각에 인접하는 적어도 한쪽측의 행에 셀영역(82,83)이 각각 배치되는 복수쌍의 셀캐패시터(1~6) 및; 상기 어느행의 1쌍 셀캐패시터(1,2)와, 그 대각선상에 있는 인접행에 배치되어 있는 다른 셀캐패시터(3,6)(4,5)중 1쪽 대각선상에 있는 셀캐패시터(4,5)는 공유하도록 연속되고, 다른쪽 대각선상에 있는 셀캐패시터(3,6)는 공유하지 않게 연속되지 않는 형상 상기 셀캐패시터(1,2)상에 배치되는 셀플레이트전극(7)으로 구성된 것을 특징으로 하는 반도체기억장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 셀플레이트전극(7)이 다이나믹 RAM의 데이터기억용 캐패시터의 전극인 것을 특징으로 하는 반도체기억장치.
  3. 반도체기판과; 이 반도체기판상의 매트릭스형상으로 배치되고, 1쌍의 셀캐패시터(1,2)가 소정의 간격을 갖고 마주보아 이 1쌍의 셀캐패시터(1,2)가 각 쌍마다 회로부로 되는 셀영역(81)(84)을 매개로 행상에 배치하게 되며, 이행에 인접하는 행의 상기 셀영역(81,84) 각각에 인접하는 적어도 한쪽측의 행에 1쌍의 셀캐패시터(3,4)가 각각 배치됨으로, 상기 1쌍의 셀캐패시터(1,2) 각각에 인접하는 적어도 한쪽측의 행에 셀영역(81,84)이 각각 배치되는 복수쌍의 셀캐패시터(1~6) 및; 상기 어느행의 1쌍 셀캐패시터(1,2)와, 인접하는 한쪽 행에 있는 가장 가까운 셀캐패시터(5)(6)와는 공유하도록 연속시키고, 양행상을 교차적으로 존재하는 형상으로 상기 셀캐패시터(1,2)상에 배치되는 셀플레이트전극(7)으로 구성된 것을 특징으로 하는 반도체기억장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 셀플레이트전극(7)이 다이나믹 RAM의 데이터기억용 캐패시터의 전극인 것을 특징으로 하는 반도체기억장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019880017731A 1987-12-28 1988-12-28 반도체기억장치 KR920001638B1 (ko)

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