KR890006769A - 기록용 유체에 사용하기 위한 착색제의 용도 - Google Patents

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Abstract

내용 없음

Description

기록용 유체에 사용하기 위한 착색제의 용도
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (13)

  1. 다음 일반식(I)을 갖는 유리산 형태의 수용성 염료를 사용하여 기록용 유체(recording fluid)를 염색하기 위한 방법.
    A-(SO2-X)p(Ⅰ)
    상기식에서, A는 모노아조 또는 디스아조 염료, 또는 이들과 크롬, 철, 코발트 또는 구리와의 착화합물, 구리 프탈로시아닌, 니켈 프탈로시아닌, 안트라퀴논, 디옥사진 또는 구리 포르마잔 착화합물중에서 선택된 하나 이상의 설포그룹을 갖는 통상의 착색 라디칼이고, P는 1,2,3 또는 4이며, X는 비닐그룹이거나, 일반식(IIa) 내지 일반식(IIe)
    -CH2CH2OR1(Ⅱa)
    -CH2CH2NR1R2(Ⅱb)
    -CH2CH2SR1(Ⅱc)
    -CH2CH2NR1NR2R3(Ⅱd)
    -CH2CH2-NQ-R2(Ⅱe)
    [여기에서, R1,R2및 R3은 각각 독립적으로 수소원자, 일반식 -CH2CH2SO2-A(여기에서, A는 상기에서 정의한 바와같다)의 라디칼, 치환되거나 비치환된 알킬, 사이클로알킬, 아르알킬 또는 아릴 라디칼, 또는 치환되거나 비치환된 지방족 또는 방향족 헤테로사이클릭계 라디칼이고, Q는 질소원자와 함께, 치환되거나 비치환된 지방족 또는 방향족 헤테로사이클릭계이며, 라디칼 R1,R2및 R3과 N 및 Q로 이루어지는 헤테로사이클은, 특히, 추가로 치환되지 않거나, 알킬, 알콕시, 아릴, 하이드록실, 1급-, 2급- 및 3급-아미노, 니트로, 설포, 카복실, 알킬옥시카보닐, 아미노카보닐, 알킬아미노카보닐, 알카노일아미노 및 할로겐중에서 선택된 하나 이상의 라디칼에 의해 치환된다]의 라디칼이거나, 일반식(IIf)
    [여기에서, D1및 D2는 각각 독립적으로 산소원자 또는 2급- 또는 3급-아미노그룹이고, D3는 직접결합을 나타내거나, 2급- 또는 3급-아미노그룹, 포화 또는 불포화 알킬렌, 또는 구조식 -O-, -S-, -SO-,SO2- 또는 -CO-의 그룹이며, R4및 R5는 각각 독립적으로 C1→18알킬, CC1→18알콕시, 카복실그룹, 설포그룹 또는 할로겐원자이고, Y는 수소 또는 라디칼 -CH2CH2-SO2-A(여기에서, A는 상기에서 정의한 바와같다)이다]의 라디칼이거나, 일반식(IIg)
    [여기에서, E는 헤테로원자를 갖거나 갖지 않고, 추가로 치환되거나 비치환된 직쇄, 측쇄 또는 사이클릭 탄화수소 라디칼이고, R6은 수소 또는 일반식 -CH2CH2-SO2-A(여기에서, A는 상기에서 정의한 바와같다)의 라디칼이며, n 및 m은 각각 0 내지 12의 정수이고, (n+m)은 2 내지 12이다]의 라디칼이다.
  2. 제1항에 있어서, 유리산 형태의 일반식(I)의 염료가 다음 일반식(Ia)를 갖는 방법.
    상기식에서, A'는 벤젠, 나프탈렌, N-아릴아세토아세트아미드, 피라졸 또는 퀴놀린 계열의 아조 성분 라디칼이고, X는 제1항에서 정의한 바와 같으며, p' 및 g'는 각각 1 또는 2이고, (p'+g')는 3 이하이다.
  3. 제2항에 있어서, 염료가 다음 일반식(Ib)를 갖는 방법.
    상기식에서, X는 상기에서 정의한 바와 같다.
  4. 제1항에 있어서, 유리산 형태의 일반식(I) 염료가 다음 일반식(Ic) 내지 일반식(If)중의 하나를 갖는 방법.
    상기식에서, X는 일반식(I)에서 정의한 바와 같다.
  5. 제1항에 있어서, 인쇄, 복사, 본뜨기(marking), 필기, 그림(drawing), 날인 또는 레지스터링(registering) 공정용 기록유체를 염색하기 위한 방법.
  6. 제5항에 있어서, 잉크제트공정(ink jet process)용 잉크를 제조하기 위한 방법.
  7. 제3항에 있어서, 잉크제트공정용 마젠타색(magenta) 잉크를 제조하기 위한 방법.
  8. 다음 일반식(Ib) 내지 일반식(If)의 수용성 아조염료.
    상기식에서, X는 각각의 경우에서 일반식(IIa) 내지 일반식(IIe)
    [여기에서, R1,R2및 R3은 각각 독립적으로 수소원자, 일반식 -CH2CH2-SO2-A(여기에서, A는 제1항에서 정의한 바와 같다)의 라디칼, 치환되거나 비치환된 알킬, 사이클로알킬, 아르알킬 또는 아릴 라디칼, 또는 치환되거나 비치환된 지방족 또는 방향족 헤테로사이클릭계 라디칼이고, Q는 질소원자와 함께, 치환되거나 비치환된 지방족 또는 방향족 헤테로사이클릭계이며, 라디칼 R1,R2및 R3과 N 및 Q로 이루어지는 헤테로사이클은, 특히, 추가로 치환되지 않거나, 알킬, 알콕시, 아릴, 하이드록실, 1급-, 2급- 및 3급- 아미노, 니트로, 설포, 카복실, 알킬옥시카보닐, 아미노카보닐, 알킬아미노카보닐, 알카노일아미노 및 할로겐중에서 선택된 하나 이상의 라디칼에 의해 치환된다]의 라디칼이거나, 일반식(IIf)
    [여기에서, D1및 D2는 각각 독립적으로 산소원자 또는 2급- 또는 3급-아미노그룹이고, D3은 직접결합을 나타내거나, 2급- 또는 3급-아미노그룹, 포화 또는 불포화 알킬렌, 또는 구조식 -O-, -S-, -SO-, -SO2- 또는 -CO-의 그룹이며, R4및 R5는 각각 독립적으로 C1→18알킬, C1→18알콕시, 카복실그룹, 설포그룹 또는 할로겐원자이고, Y는 수소 또는 라디칼 -CH2CH2-SO2-A(여기에서, A는 제1항에서 정의한 바와 같다)이다]의 라디칼이거나, 일반식(IIg)
    [여기에서, E는 헤테로원자를 갖거나 갖지 않고, 추가로 치환되거나 비치환된 직쇄, 측쇄 또는 사이클릭 탄화수소 라디칼이고, R6은 수소 또는 일반식 -CH2CH2-SO2-A(여기에서, A는 제1항에서 정의한 바와 같다)의 라디칼이며, n 및 m은 각각 0 내지 12의 정수이고, (n+m)은 2 내지 12이다]의 라디칼이다.
  9. 제8항에서 청구한 바와 같은 일반식(Ib) 내지 일반식(If)[여기에서, X는 비닐그룹 또는 2-설페이토에틸그룹이다]의 수용성 반응성 염료를 일반식 R1OH, HNR1R2,HSR1,HNR1NR2R3,E(OH)2및
    [여기에서, R1,R2및 R3은 각각 독립적으로 수소원자, 치환되거나 비치환된 알킬, 사이클로알킬, 아르알킬 또는 아릴 라디칼, 또는 치환되거나 비치환된 지방족 또는 방향족 헤테로사이클릭계 라디칼이고, Q는 질소원자와 함께, 치환되거나 비치환된 지방족 또는 방향족 헤테로사이클릭계이며, 라디칼 R1,R2및 R3과 N 및 Q로 이루어지는 헤테로사이클은, 특히, 추가로 치환되지 않거나, 알킬, 알콕시, 아릴, 하이드록실, 1급-, 2급- 및 3급-아미노, 니트로, 설포, 카복실, 알킬옥시카보닐, 아미노카보닐, 알킬아미노카보닐, 알카노일아미노 및 할로겐중에서 선택된 하나 이상의 라디칼에 의해 치환되고, D1및 D2는 각각 독립적으로 산소원자 또는 2급- 또는 3급-아미노그룹이며, D3는 직접결합을 나타내거나, 2급- 또는 3급-아미노 그룹, 알킬렌, 알케닐렌, 또는 구조식 -O-, -S-, -SO-, -SO2- 또는 -CO-의 그룹이고, R4및 R5는 각각 독립적으로 알킬, 알콕시, 카복실그룹, 설포그룹 또는 할로겐원자이며, E는 헤테로원자를 갖거나 갖지 않고, 추가로 치환되거나 비치환된 직쇄, 측쇄 또는 사이클릭탄화수소 라디칼이고, Z는 1 내지 13의 정수이다]의 친핵성 물질과 반응시킴을 특징으로 하여, 제8항에 정의한 수용성 아조염료를 제조하는 방법.
  10. 제9항에 있어서, 염료의 제조를, 기록용 유체를 제조하면서 함께 수행하는 방법.
  11. 제1항에서 정의한 일반식(I)의 염료를 하나 이상 함유하는 기록용 유체.
  12. 제11항에 있어서, 일반식(I)의 염료를 기록용 유체의 중량에 대하여 0.1 내지 20중량% 함유하는 기록용 유체.
  13. 제11항에 있어서, 일반식(I)의 염료에 대하여 2중량% 미만의 황산염 이온 및 0.5중량% 미만의 염화물이온을 함유하는 기록용 유체.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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