KR940007124A - 반응성 포마잔 염료 및 히드라존 - Google Patents

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마르쉬너 클라우스
파취 만프레드
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랑핑어, 방에르트
바스프 악티엔게젤샤프트
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Abstract

하기 일반식의 염료 및 수산기 또는 질소 함유 유기 기판을 염색 또는 인쇄하기 위한 그의 용도를 가재하였다.
상기식에서, n은 1또는 2이며,가 등가의 양이온이며, Me은 구리 또는 니켈이며, X는 CO-O 또는 SO-O 의 라디칼이며, Y는 비닐 또는 Q가 알칼리 반응조건하에서 분리가능한 작용기일때, 식 C2H4-Q의 라디칼이며, 고리 A는 치환 및 벤젠융합될 수 있고, 고리 B는 치환되고 벤젠융합될 수 있으며, 고리 C는 치환될 수 있다.

Description

반응성 포자잔 염로 및 히드라존
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (8)

  1. 하기 일반식(Ⅰ)의 포마잔 염료
    상기식에서, n은 1또는 2이며,가 등가의 양이온이며, Me은 구리 또는 니켈이고, X는 CO-O 또는 SO2-O 의 라디칼이며, Y는 Q가 알칼리 반응조건하에서 분리가능한 작용기인 경우, C2H4-Q의 비닐 또는 라디칼이며, 고리 A는 치환 및 벤젠융합될 수 있으며, 고리 B는 치환되고 벤젠융합될 수 있으며, 고리 C는 치환될 수 있다.
  2. 제1항에 있어서, 하기 일반식 (Ⅰa)의 포마잔 염료.
    상기식에서, Z1은 수소 또는 히드록시술포닐기이며, Z2는 수소 C1-C4의 알카노일아미노, 할로겐 원자 또는 니트로기이며, Z3는 수소, 할로겐, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, C1-C4알킬술포닐, 니트로 또는 히드록시술포닐기 이며, Z4및 Z5는 각각 히드록시술포닐, 할로겐, 니트로, 카르복실, 우레이도, 치환 또는 치환되지 않은 모노-또는 디-(C1-C4알킬)-우레이도, 치환 또는 치환되지 않은 페닐우레이도, 치환 또는 치환되지 않은 페닐, 치환 또는 치환되지 않은 C1-C4알카노일아미노, 치환 또는 치환되지 않은 벤조일아미노, C1-C4알콕시카르보닐아미노, 치환 또는 치환되지 않은 모노-또는 디-알킬카바모일, 치환 또는 치환되지 않은 모노 또는 디알킬술파모일기이며, 일반식 SO2-Y의 라디칼이며, 두개의 라디칼 Z4및 Z5중 어느 하나가 수소원자일 수 있으며, 고리 D및 E는 벤젠융합되고, n,Me, X 및 Y는 각각 제1항에서 정의한 바와 같다.
  3. 제1항에 있어서, Me가 구리인 포마잔 염료.
  4. 제1항에 있어서, n이 1인 포마잔 염료.
  5. 제1항에 있어서, Y가 비닐 또는 Q가 염소, 술페이토 또는 티오술페이토 일때 식 C2H4-Q의 라디칼인 포마잔 염료.
  6. 하기 일반식(Ⅱ)의 히드라존.
    상기식에서, n은 1또는 2이며, Y는 비닐 또는 Q가 알칼리 반응조건하에서 분리 가능한 작용기 일때 일반식 C2H4-Q의 라디칼이며, X는 식 CO-O 또는 SO2-O이며, 고리 A는 치환 또는 벤젠융합될 수 있으며, 고리 C는 치환될 수 있다.
  7. 제6항에 있어서, 하기 일반식(Ⅱa)의 히드라존.
    상기식에서, Z1은 수소원자 또는 히드록시술포닐기이며, Z2은 수소원자, C1-C4의 알카노일아미노, 할로겐 또는 니트로기이며, Z3는 수소원자, 할로겐, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, C1-C4의 알킬술포닐, 니트로 또는 히드록시술파닐기이며, 고리 D는 벤젠융합될 수 있고, n,X 및 Y가 각각 제6항에서 정의한 바와 같다.
  8. 제1항에 있어서, 수산기 또는 질소 함유 유기 기판을 염색하거나 또는 인쇄하기 위한 포마잔 염료의 용도
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019930017454A 1992-09-09 1993-09-02 반응성 포마잔 염료 및 히드라존 KR940007124A (ko)

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